一種屬性等值線圖繪製方法及裝置製造方法
2023-06-26 17:29:46
一種屬性等值線圖繪製方法及裝置製造方法
【專利摘要】本發明提供一種屬性等值線圖繪製方法及裝置。所述屬性等值線圖網格化方法包括步驟：選定一個包括權係數因子的權係數函數；採用蒙特卡洛隨機抽樣方法求解所述權係數函數的權係數因子；將所述求出的權係數因子代入所述權係數函數中求出權係數；將已知離散點的值與其權係數相乘的平均值作為待定點的值；計算出所有待定點的值，繪製屬性等值線圖。本發明提供的屬性等值線圖繪製方法及裝置將儲層的非均質性考慮在內，能更加準確的反映出地下儲層的孔隙度、滲透率等儲層物性參數的分布情況。
【專利說明】一種屬性等值線圖繪製方法及裝置
【技術領域】
[0001]本發明方法涉及石油、地礦勘探開發中屬性地質建模領域，特別涉及一種屬性等值線圖繪製方法及裝置。
【背景技術】
[0002]在石油、地礦勘探開發工作中，需要將採集並處理後的地震數據繪製成地震構造圖，以便觀察和分析地層構造。所述的地震構造圖包括屬性等值線圖，所述屬性等值線圖可以是將採集的少數某一地質屬性的離散數據進行網格化自動追蹤並繪製出的等值線圖。所述的網格化通常是指在含有坐標信息並且規則分布的矩形網格上利用某一網格節點周圍的離散數據點採用擬合或者插值的方法計算出該網格節點值。
[0003]在所述地震屬性的數據採集過程中，由於地形、環境、開發成本等因素的約束，通常採取分區域段測量少數幾十個甚至十幾個離散數據。然後，在室內對採集的離散數據進行網格化處理，獲取地質的屬性等值線圖。現有技術中，常用的網格化方法有距離反比插值法、曲面擬合插值法、克裡金法等。其中所述距離反比插值法的操作過程通常包括:用某一區域內待定點Z (X, y, Z)到該區域η個已知離散點Zi (xi,yi,zi)(其中i=l,2,3,…η)的距離di(i=l，2，3，…η)倒數作為自變量的，並用所述自變量的m (通常在計算滲透率和孔隙度時，m取2或者3)次方作為權係數來加權平均求解該待定點Z。圖1是所述距離反比插值法的計算示意圖。其所述距離反比例插值法的計算公式可以為:
【權利要求】
1.一種屬性等值線圖繪製方法，其特徵在於，包括以下處理步驟: S1:選定一個包括權係數因子的權係數函數； 52:採用蒙特卡洛隨機抽樣方法求解所述權係數函數的權係數因子； 53:將所述求出的權係數因子代入所述權係數函數中求出已知離散點的權係數； 54:將已知的離散點的值與其相應的權係數相乘的平均值作為待定點的值； 55:計算出所有待定點的值，繪製屬性等值線圖。
2.如權利要求1所述的一種屬性等值線圖繪製方法，其特徵在於，SI中所述選取的權係數函數包括參數:已知離散點至待定點的距離和已知離散點相對於待定點的方位。
3.如權利要求1所述的一種屬性等值線圖繪製方法，其特徵在於，所述採用蒙特卡洛隨機抽樣方法求解所述權係數函數的權係數因子的方法包括以下處理步驟: S201:選取所述權係數因子的取值區間及所述取值區間的分布函數； S202:做出所述分布函數的累積概率曲線； S203:隨機產生K個O至I之間的隨機樣本數作為所述累積概率曲線上的概率值，並用所述隨機產生的概率值從所述累積概率曲線上反求得相應的樣本權係數因子，K為自然數； S204:取所述求得的K個樣本權係數因子的期望值作為所述權係數函數的權係數因子。
4.如權利要求3所述的一種屬性等值線圖繪製方法，其特徵在於，所述隨機產生的K個0至1之間的隨機樣本數作為所述累積概率曲線上的概率值中K的取值範圍為:
10000 ≤ K ≤ 200000。
5.如權利要求1所述的一種屬性等值線圖繪製方法，其特徵在於，所述選取的權係數函數為:
6.如權利要求1所述的一種屬性等值線圖繪製方法，其特徵在於，所述選取的權係數函數為:
7.如權利要求1所述的一種屬性等值線圖繪製方法，其特徵在於，S4之後還包括步驟: S400:將已經求出的待定點的值作為所述已知的離散點的值，用於計算下一個待定點。
8.如權利要求1-7任意一項所述的屬性等值線圖繪製方法，其特徵在於，所述已知的離散點為滲透率或孔隙度中的一種。
9.一種屬性等值線圖繪製裝置，其特徵在於，該裝置包括權係數函數設置模塊、權係數因子計算模塊、權係數函數計算模塊、待定點計算模塊、等值線計算模塊，其中: 所述權係數函數設置模塊，用於設置一個包括權係數因子的權係數函數； 所述權係數因子計算模塊，用於採用蒙特卡洛隨機抽樣方法求解所述權係數函數的權係數因子； 所述權係數函數計算模塊，以用於將所述權係數因子計算模塊求出的權係數因子代入所述權係數函數中求出已知離散點的權係數。 所述待定點計算模塊，用於將已知的離散點的值與其相應的權係數相乘的平均值作為待定點的值； 所述等值線計算模塊，用於計算出所有待定點的值，構建屬性等值線圖。
10.如權利要求9所述的一種屬性等值線圖繪製裝置，其特徵在於，所述權係數函數設置模塊中所述設置的權係數函數包括參數:已知離散點至待定點的距離和已知離散點相對於待定點的方位。
11.如權利要求9所述的一種屬性等值線圖繪製裝置，其特徵在於，權係數因子計算模塊以包括分布函數設置模塊、累積概率曲線計算模塊、樣本權係數計算模塊、權係數計算模塊，其中: 所述分布函數設置模塊，用於選取所述權係數因子的取值區間及所述取值區間的分布函數； 所述累積概率曲線計算模塊，用於做出所述分布函數的累積概率曲線； 所述樣本權係數計算模塊，用於隨機產生K個O至I之間的隨機樣本數作為所述累積概率曲線上的概率值，並用所述隨機產生的概率值從所述累積概率曲線上反求得相應的樣本權係數因子，K為自然數； 所述權係數計算模塊，用於取所述求得的K個樣本權係數因子的期望值作為所述權係數函數的權係數因子。
12.如權利要求10所述的一種屬性等值線圖繪製裝置，其特徵在於，所述樣本權係數計算模塊隨機產生K個O至I之間的隨機樣本數作為所述累積概率曲線上的概率值中，K的取值範圍為:10000 ^ K ^ 200000。
13.如權利要求9所述的一種屬性等值線圖繪製裝置，其特徵在於，該裝置還包括已知離散點轉化模塊，所述已知離散點轉化模塊用於將所述待定點計算模塊已經求出的待定點的值作為所述已知的離散點的值，用於計算下一個待定點。
【文檔編號】G01V1/32GK103901475SQ201410126087
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2014年3月31日 優先權日:2014年3月31日
【發明者】任殿星 申請人:中國石油天然氣股份有限公司