基板清洗裝置及方法、顯示裝置的製造裝置及其製造方法

2023-06-14 12:46:11

專利名稱：基板清洗裝置及方法、顯示裝置的製造裝置及其製造方法
技術領域：
本發明涉及對液晶用的玻璃制基板或半導體晶片等的基板進行清洗的基板清洗裝置、基板清洗方法、顯示裝置的製造裝置和顯示裝置的製造方法。
背景技術：
在液晶顯示裝置或半導體裝置的製造エ序中要求以高清洗度對液晶用的玻璃制基板或半導體晶片等的基板進行清洗。作為清洗基板的清洗裝置，例如已知有下述專利文獻I記載的清洗裝置。專利文獻I記載的清洗裝置包括輸送基板的輸送機構；對所輸送的基板供給清洗液的噴嘴體；與已被供給了清洗液的基板接觸並進行旋轉的清洗刷。 專利文獻I :日本特開2002-239485號公報在摩擦2個物體時，物體間有的容易帶正電，有的容易帶負電，存在如圖5所示的「摩擦帶電序列」的關係，玻璃或尼龍或金屬等容易帶正電。但是，在摩擦同是容易帶正電的兩個物體、例如玻璃和尼龍時，更容易帶正電的玻璃帶正電，而尼龍帶負電。從而，在用尼龍形成旋轉刷的刷毛的情況下，若該旋轉刷與玻璃制基板接觸並進行旋轉，則基板帶正電，旋轉刷帶負電。利用清洗來從基板上除去的對象物即汙染粒子，是鋁或銅等金屬或矽，金屬容易帶正電，娃容易帶負電。因此，若為了除去玻璃制基板上的汙染粒子而使尼龍制旋轉刷與基板接觸並進行旋轉，則旋轉刷帶負電，基板帶正電，產生了帶有正電的汙染粒子被旋轉刷靜電吸附的問題。

發明內容
本發明鑑於上述問題，其目的在於提供一種能夠防止在清洗基板的旋轉刷上靜電吸附汙染粒子的基板清洗裝置、基板清洗方法、顯示裝置的製造裝置和顯示裝置的製造方法。本發明的實施方式涉及的第一特徵在於，在基板清洗裝置中，具備輸送機構，輸送基板；旋轉刷，由通過與所述基板摩擦而帶負電的材料形成，通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子；和第一清洗液供給部，向所述旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液。本發明的實施方式涉及的第二特徵在於，在基板清洗裝置中，具備輸送機構，輸送玻璃制的基板；旋轉刷，由通過與所述基板摩擦而帶負電的尼龍形成，通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子；和第一清洗液供給部，向所述旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液。本發明的實施方式涉及的第三特徵在於，在基板清洗方法中，具備輸送基板的エ序；和向旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液的エ序，所述旋轉刷由通過與所述基板摩擦而帶負電的材料形成，並通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子。本發明的實施方式涉及的第四特徵在於，在基板清洗方法中，具備輸送玻璃制的基板的エ序；和向旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液的エ序，所述旋轉刷由通過與所述基板摩擦而帶負電的尼龍形成，並通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子。本發明的實施方式涉及的第五特徵在於，在具備對所輸送的顯示裝置用基板進行清洗的基板清洗裝置的顯示裝置的製造裝置中，所述基板清洗裝置是上述第一或第二特徵涉及的基板清洗裝置。本發明的實施方式涉及的第六特徵在於，在具有對所輸送的顯示裝置用基板進行清洗的基板清洗エ序的顯示裝置的製造方法中，所述基板清洗エ序具有向旋轉刷供給含有 帶負電的微小氣泡的清洗液的エ序，所述旋轉刷由通過與所述基板摩擦而帶負電的材料形成，並通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子。本發明的實施方式涉及的第七特徵在於，在具有對所輸送的顯示裝置用的玻璃制基板進行清洗的基板清洗エ序的顯示裝置的製造方法中，所述基板清洗エ序具有向旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液的エ序，所述旋轉刷由通過與所述基板摩擦而帶負電的尼龍形成，並通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子。根據上述第一至第七的任一個特徵，在使用旋轉刷清洗基板的情況下，能夠防止汙染粒子向旋轉刷的附著。


圖I是示出本發明的第一實施方式涉及的基板清洗裝置的概略結構的側視圖。圖2是示出基板清洗裝置的控制系統的結構的框圖。圖3是說明在基板的清洗時利用帶有負電的微小氣泡防止汙染粒子向基板和旋轉刷的附著的機理的示意圖。圖4是說明基板清洗的工作エ序的流程圖。圖5是示出物體間的摩擦帶電序列的關係的圖。圖6是示出本發明的第二實施方式涉及的基板清洗裝置的概略結構的側視圖。圖7是示出本發明的效果的一例的圖表。
具體實施例方式(第一實施方式)基於圖I至圖5，對本發明的第一實施方式進行說明。如圖I和圖2所示，第一實施方式涉及的基板清洗裝置I包括輸送機構2、旋轉刷3、清洗液槽4、微小氣泡產生部5、第一清洗液供給部6、第二清洗液供給部7、以及控制基板清洗裝置I整體的微型計算機結構的控制部8。輸送機構2是將在液晶顯示裝置或半導體裝置的製造エ序中使用的基板、例如玻璃制的基板9，按箭頭A方向進行輸送的機構，由沿著箭頭A方向排列的多個輸送輥10和旋轉驅動這些輸送輥10的輸送馬達11構成。將輸送馬達11與控制部8連接，利用控制部8進行「通-斷」控制。在沿著基板9的輸送方向的規定位置上設置有一對旋轉刷3，並且平行地配置成從表裡兩面夾著所輸送的基板9。旋轉刷3由旋轉軸3a和栽毛在旋轉軸3a的外周部上的刷毛3b構成，刷毛3b由尼龍形成。與旋轉軸3a連結著繞旋轉軸3a的中心線旋轉驅動旋轉刷3的旋轉馬達12。旋轉馬達12與控制部8連接，利用控制部8進行「通-斷」控制。在清洗液槽4中貯存有清洗基板9時所使用的純水或者由鹼性水溶液構成的清洗液。微小氣泡產生部5是使清洗液中產生微小氣泡的裝置，設置在連接抽吸清洗液槽4內的清洗液的泵13與第一清洗液供給部6和第二清洗液供給部7的配管15的中途。在泵13的上遊側，並且在清洗液槽4內的清洗液到泵13的配管16的中途，連接有供給氣體(空氣)的氣體供給管17。在微小氣泡產生部5內設置有加壓溶解單元和減壓單元，所述加壓溶解単元通過對泵13抽吸來的清洗液和經由氣泡供給管17供給來的氣體進行加壓，來使氣體溶解在清洗液中，所述減壓単元通過使溶解有氣體的清洗液減壓，來使清洗液中產生微小氣泡。從微小氣泡產生部5送出含有微小氣泡的清洗液，並將送出的含有微小氣泡的清洗液經由配管15內，從第一清洗液供給部6和第二清洗液供給部7供給到旋轉刷3或基板9上。再有，在由微小氣泡產生部5內的減壓單元進行減壓來產生微小氣泡的情況下，利用這個時候引起的空穴現象而將微小氣泡摩擦帶負電。作為微小氣泡產生部的其他形式，也可以是由加壓部和減壓部構成的結構，所述加壓部設置在泵13與第一清洗液供給部6和第二清洗液供給部7之間，對清洗液和氣體進行加壓，所述減壓部設置在第一清洗液供給部6和第二清洗液供給部7的出ロ側，使加壓後的清洗液減壓。此外，作為微小氣泡的產生方式，不限於上述的加壓溶解方式，例如，也可以採用由微小氣泡生成部等預先生成含有微小氣泡的清洗液的迴轉方式的氣泡產生方式，使該清洗液經過配管15內，從第一清洗液供給部6和第二清洗液供給部7供給到旋轉刷3或基板9上。或者也可以在第一清洗液供給部6和第二清洗液供給部7的內部等中，向清洗液的渦流中捲入氣體生成微小氣泡，將含有該微小氣泡的清洗液向旋轉刷3或基板9進行噴射。將微小氣泡產生部5與控制部8連接，利用控制部8進行「通-斷」控制。再有，本發明的微小氣泡是包括含有微米氣泡(MB)、微納米氣泡(MNB)及納米氣泡(NB)等概念的微細氣泡。例如，微米氣泡為具有10 μ m 數十μ m的直徑的氣泡，微納米氣泡為具有數百納米 10 μ m的直徑的氣泡，納米氣泡為具有數百nm以下的直徑的氣泡，這些尺寸的氣泡帶有負電。第一清洗液供給部6是向旋轉刷3供給將清洗液槽4內的清洗液供給到微小氣泡產生部5後形成的含有微小氣泡的清洗液的噴嘴，通過在驅動泵13的同時打開電磁閥14a來供給清洗液。將泵13和電磁閥14a與控制部8連接，利用控制部8進行「通-斷」控制。第二清洗液供給部7是向位幹與旋轉刷3接觸的接觸位置上的基板9供給將清洗液槽4內的清洗液供給到微小氣泡產生部5後形成的含有微小氣泡的清洗液的噴嘴，在沿著基板9的輸送方向的旋轉刷3的上遊側和下遊側，與基板9的表裡兩面對置地設置。通 過在驅動泵13的同時打開電磁閥14b來供給清洗液。將泵13和電磁閥14b與控制部8連接，利用控制部8進行「通-斷」控制。
圖3是說明在使玻璃制基板9與尼龍制旋轉刷3接觸的同時供給清洗液來清洗基板9的情況下，利用帶有負電的微小氣泡防止已從基板9除去的汙染粒子靜電吸附而再附著於基板9或旋轉刷3的機理的示意圖。再有，作為在此在清洗液中產生的微小氣泡，舉微納米氣泡為例進行說明，但是納米氣泡、微米氣泡等也同樣。
圖3(a)示出了在基板9的清洗時供給不含有微小氣泡的清洗液以及基板9與旋轉刷3相接觸之前的狀態。基板9和旋轉刷3都帶有正電，從基板9除去後懸浮在清洗液中的帶正電的汙染粒子(例如Al粒子)，與基板9或旋轉刷3相斥。另ー方面，從基板9除去後懸浮在清洗液中的帶負電的汙染粒子(例如Si粒子)，被基板9或旋轉刷3靜電吸附。圖3(b)示出了從圖3(a)所示的狀態開始，基板9與旋轉刷3相接觸而進行摩擦的狀態。通過基板9與旋轉刷3相接觸而進行摩擦，根據圖5所示的「摩擦帶電序列」，基板9維持帶正電的狀態，但是旋轉刷3帶負電。由此，從基板9除去後懸浮在清洗液中的帶正電的汙染粒子(例如Al粒子)靜電吸附於旋轉刷3，從基板9除去後懸浮在清洗液中的帶負電的汙染粒子(例如Si粒子)被基板9靜電吸附。圖3(c)示出了在基板9的清洗時，供給含有帶有負電的微小氣泡即微納米氣泡的清洗液，基板9與旋轉刷3相接觸進行摩擦的狀態。帶有負電的微小氣泡附著在帶有正電的基板9的表面上、或從基板9除去後懸浮在清洗液中的帶正電的汙染粒子(例如Al粒子)的表面上。由此，防止了帶有負電的微小氣泡附著於表面上的汙染粒子(例如Al粒子)被靜電吸附而再附著於基板9或旋轉刷3。此外，還防止了從基板9除去後懸浮在清洗液中的帶負電的汙染粒子(例如Si粒子)，靜電吸附而再附著於表面上附著了帶有負電的微小氣泡的基板9或負極性的旋轉刷3。因而，在使用旋轉刷3的基板9的清洗時，通過供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液，能夠防止從基板9除去後懸浮在清洗液中的汙染粒子靜電吸附而再附著於基板9或旋轉刷3，能夠提高基板9的清洗度。關於基板9的清洗エ序，基於圖4的流程圖進行說明。首先，判斷是否開始清洗作業(步驟Si)，在接通起動按鈕開始清洗作業的情況下(步驟SI的「是」)，驅動輸送馬達11 (步驟S2)，驅動微小氣泡產生部5 (步驟S3)，從第一清洗液供給部6和第二清洗液供給部7供給清洗液(步驟S4)。通過驅動輸送馬達11，就可以旋轉驅動輸送輥10而進行基板9的輸送。此外，通過驅動微小氣泡產生部5，在微小氣泡產生部5內的清洗液中開始微小氣泡的產生。從第一清洗液供給部6向旋轉刷3供給含有微小氣泡的清洗液，從第二清洗液供給部7向沿著基板9的輸送方向的旋轉刷3的上遊側和下遊側供給含有微小氣泡的清洗液。此外，從基板9被輸送到與旋轉刷3的接觸位置上之前開始這些清洗液的供給。開始了清洗作業之後，判斷基板9是否被輸送到了與旋轉刷3的接觸位置上(步驟S5)，在基板9被輸送到了與旋轉刷3的接觸位置上時，在停止來自第一清洗液供給部6的清洗液的供給的同時，繼續來自第二清洗液供給部7的清洗液的供給(步驟S6)。在此，由於在基板9被輸送到與旋轉刷3的接觸位置上之前已經開始了從清洗液供給部6向旋轉刷3的清洗液的供給，因此，與基板9接觸進行摩擦之前的帶有正電的旋轉刷3上已經附著了帶有負電的微小氣泡。因此，在通過旋轉刷3與基板9接觸而從基板9除去了帶有負電的汙染粒子(例如Si粒子)的情況下，能夠可靠地防止其汙染粒子再附著在旋轉刷3上。此外，清洗裝置的腔室 或內部構成零件用容易帶負電的聚氯こ烯形成的情況多。如果在基板9被輸送到與旋轉刷3的接觸位置上之前開始從第一清洗液供給部6向旋轉刷3的清洗液的供給而使旋轉刷帶負電的話，能夠防止從清洗裝置的腔室或內部構成零件剝離的聚氯こ烯等汙染粒子(帶有負電)靜電吸附於旋轉刷3。在本實施方式中，在基板9被輸送到了與旋轉刷3的接觸位置上的情況下，在繼續來自第二清洗液供給部7的清洗液的供給的同時，停止來自第一清洗液供給部6的清洗液的供給。因此，能夠減少清洗液的消耗量。如上所述，在旋轉刷3接觸到基板9時帶負電。從而，即使停止來自第一清洗液供給部6的清洗液的供給，也能防止帶有負電的汙染粒子附著在旋轉刷3上。此外，若將從第二清洗液供給部7供給的清洗液的流速和流量設定成清洗液碰到基板9之後向旋轉刷3彈回的程度，就能得到與對旋轉刷3繼續供給清洗液相同的狀態。再有，也可以在基板9被輸送到與旋轉刷3的接觸位置上之前的期間，不從第二清洗液供給部7供給清洗液，而只進行來自第一清洗液供給部6的清洗液供給，若基板9被輸送到與旋轉刷3的接觸位置上，就停止來自第一清洗液供給部6的清洗液供給，而起動來自第二清洗液供給部7的清洗液供給。此外，也可以在利用旋轉刷3的清洗結束之後，暫時停止來自第二清洗液供給部7的清洗液，在下ー個基板9到達旋轉刷3之前的期間，從第一清洗液供給部6再開始含有帶負電的微小氣泡的清洗液的供給，控制成在未與基板9接觸的期間使帶正電的旋轉刷3持續帶負電。如上所述，能夠防止在此期間從清洗裝置的腔室或內部構成零件剝離的聚氯こ烯等汙染粒子(帶有負電)靜電吸附於旋轉刷3。再有，來自第一清洗液供給部6的清洗液的供給也可以在基板9被輸送到與旋轉刷3的接觸位置上之後繼續進行。由此能夠提高清洗精度。此外，也可以使清洗液的供給量按照旋轉刷3的旋轉速度來變化，在旋轉速度快的情況下增大供給量，在旋轉速度慢的情況下減少供給量。由此能夠實現清洗液供給量的適當化。在本實施方式中，舉出在沿著基板9的輸送方向的旋轉刷3的上遊側和下遊側設置有第二清洗液供給部7的情況為例進行了說明，但是也可以僅設在某ー側。由此能夠減少清洗液的消耗量。此外，在本實施方式中，舉出將旋轉刷3、第一清洗液供給部6和第二清洗液供給部7配置在被輸送的基板9的上下兩側的情況為例進行了說明，但是也可以按照處理的需要性僅設在某ー側。(第二實施方式)基於圖6和圖7說明本發明的第二實施方式。再有，在與第一實施方式中說明的結構要素相同的結構要素上標記相同符號並省略重複的說明。作為製造顯示裝置即液晶顯示器的製造裝置的一部分而設置第二實施方式的基板清洗裝置21，該顯示裝置的製造裝置包括在基板9上製作液晶驅動用的TFT電路和電極圖案的製造裝置(未圖示)；在形成有TFT電路和電極圖案等的基板9上形成配光膜的配光膜形成裝置(未圖示)；在形成有配向膜的基板9上形成包圍各元件単位的顯示區域的框形密封件的密封件形成裝置(未圖示)；在形成有密封件的基板9的各元件単位的顯示區域上使液晶材料滴化的液晶供給裝置(未圖示)；使滴化有液晶材料的基板9和其他基板粘合的基板粘合裝置(未圖示)；粘合基板後使密封件硬化的密封件硬化裝置(未圖示)等；以及在各製造裝置內和裝置間的基板移動エ序的需要部位進行刷清洗的基板清洗裝置21。基板清洗裝置21包括輸送機構22、刷清洗部23、純水清洗部24和乾燥部25。將被清洗的基板9如箭頭B所示地按照刷清洗部23、純水清洗部24、乾燥部25的順序進行輸送。輸送機構22包括輸送基板9的多個輸送棍26和旋轉驅動這些輸送棍26的輸送馬達(未圖示)。刷清洗部23包括旋轉刷3、第一清洗液供給部27、第二清洗液供給部28a、28b、清 洗液槽4、微小氣泡產生部5、泵13、以及控制刷清洗部23整體的控制部(未圖示)等。在該基板清洗裝置21中，若將由輸送機構22輸送的基板9向刷清洗部23輸送，則從第二清洗液供給部28a向正在向與旋轉刷3的接觸位置輸送的基板9供給清洗液。再有，在刷清洗部23中，從第一清洗液供給部27和第二清洗液供給部28a、28b供給的清洗液，利用微小氣泡產生部5而成為含有微小氣泡的清洗液，將該含有微小氣泡的清洗液向旋轉刷3或基板9供給。與基板9向刷清洗部23輸送的同時或者輸送以前起進行該清洗液的供給，在帶有正電的旋轉刷3上附著有帶負電的微小氣泡。在刷清洗部23中，帶有正電的汙染粒子以圍繞該汙染粒子的方式把帶負電的微小氣泡拉過來，表觀上成為作為負電位的物質來進行動作的狀態。因此，通過附著帶有負電的微小氣泡來防止向成為負極性的旋轉刷3及基板9表面的再附著。另ー方面，防止了帶有負電的汙染粒子向負極性的旋轉刷3或帶有負電的微小氣泡所附著的基板9的表面的再附著。在本實施方式中，關於在按片(枚葉)供給的基板9的清洗方法中，在供給清洗液的時候，從第一清洗液供給部27和第二清洗液供給部28a、28b同時供給清洗液的情況進行了說明，但是在旋轉刷3接觸到基板9的情況下，由於旋轉刷3帶負電，因此防止了帶有負電的汙染粒子附著在旋轉刷3上，所以也可以使來自第一清洗液供給部27的清洗液的供給停止。利用該停止，能夠減少清洗液的消耗量。該情況下，也可以在利用旋轉刷3的清洗結束之後，暫時停止來自第二清洗液供給部28a、28b的清洗液的供給，在下ー個基板9到達旋轉刷3之前的期間，從第一清洗液供給部27再開始含有帶有負電的微小氣泡的清洗液的供給，控制成在未與基板9接觸的期間使帶正電的旋轉刷3持續帶負電。通過這樣地根據需要切換對旋轉刷3的清洗液的供給和供給停止，能夠減少清洗液的消耗量。再有,清洗液的供給定時與第一實施方式同樣,可以與基板9的輸送開始同時從全部噴嘴起動供給，也可以按照基板9和刷3相接觸的定時來控制開始與停止。此外，構成本實施方式的刷清洗部23的第二清洗液供給部28a，具有將清洗液供給方向切換成基板9方向和旋轉刷3方向的機構，可以不使用第一清洗液供給部27，而通過切換來自第二清洗液供給部28a的清洗液供給方向來得到同樣的效果。
再有，在本實施方式中，舉出旋轉刷3為I根的情況為例進行了說明，但是也可以為了與基板9的汙染狀況和基板輸送速度的高速化等相對應而設置多根旋轉刷3。在與刷清洗部23連續的純水清洗部24中，從設置了純水淋浴、兆頻超聲波淋浴、雙流體等的清洗效果的供給部29，對輸送來的基板9供給純水，除去在刷清洗部23中未能除去的汙染粒子。這時，在刷清洗部23中從基板9除去的、並由微小氣泡的效應而防止了再附著的基板9上的汙染粒子，能夠由從純水清洗部24供給的大量純水容易地衝洗棹。將在刷清洗部23和純水清洗部24中除去了汙染粒子的基板9輸送到乾燥部25，利用吹出已被泵30加壓的空氣等來除去基板9上的水分的吹拂器31，除去、乾燥水分。將已被除去、乾燥了水分的基板9，利用輸送機構22輸送到用於製造顯示裝置的下ー個エ序、例如在基板9上形成電極圖案的エ序。再有，在本實施方式中，舉出對形成電極圖案之前的基板9進行基板9的清洗的情況為例進行了說明，但是對於形成了電極圖案後的基板9也能得到同樣的清洗效果。圖7是示出本發明的效果的一例的圖表。圖7(a)和圖7(b)中示出了作為顯示裝置的一例，在液晶顯示器的製造エ藝中，在驅動液晶顯示器的薄膜電晶體(以下簡稱為TFT)的生產エ序中的基板清洗エ序中，對應用了本發明所帯來的基板清洗效果進行實驗所得的結果。使用680X880X0. 7t (mm)的玻璃制的基板，實施5組以20片為I組的清洗實驗，進行應用與不應用本發明的清洗效果的比較。圖7(a)是下述三種情況下的比較了清洗後的基板9上殘留的汙染粒子的個數的平均值的結果，即在TFTエ序的最初的清洗エ序、即玻璃基板的接納清洗エ序(形成電極圖案之前的清洗エ序)中，使用第二實施方式中詳細說明的基板清洗裝置，向旋轉刷3供給了不含有帶負電的微小氣泡的清洗液的情況；從第一清洗液供給部27和第二清洗液供給部28a、28b經常供給了含有微小氣泡的清洗液的情況(清洗液供給部經常接通)；在旋轉刷3接觸到了基板9的情況下，停止來自第一清洗液供給部27的含有微小氣泡的清洗液的供給，僅從第二清洗液供給部28a、28b供給了含有微小氣泡的清洗液的情況(清洗液供給部通/斷控制)。此外，圖7(b)是使用在接納清洗後的玻璃基板上用真空蒸鍍法蒸鍍、濺射成膜法等薄膜形成方法形成成為柵電極的金屬膜，並在光エ序中進行了電極的圖案形成後的基板，與上述同樣地進行了應用本實施方式的清洗實驗的情況下的殘留汙染粒子個數的平均值的比較結果。再有，在圖7(b)的情況下，清洗液使用了純水。在圖7(a)中，作為在電極圖案形成前清洗中從基板9除去的汙染粒子，考慮有處理基板9時附著的灰塵或人為的有機物和玻璃屑等，但是關於旋轉刷3上附著並蹭到基板9上的汙染粒子或除去後再附著的汙染粒子，根據帶負電的微小氣泡的電荷效應等而降低了對旋轉刷3的附著和對基板9的再附著，其結果，確認清洗後的基板9上殘留的汙染粒子個數減少了。在圖7(b)中，作為在電極圖案形成後清洗中從基板9除去的汙染粒子，有電極金屬粉和抗蝕劑殘渣等，但是與電極圖案形成前清洗的實驗結果相比，有汙染粒子的殘留個數能進ー步減少的趨勢，認為依賴於對具有明確極性的電極金屬粉的再附著的防止效果。此外還可知，即使僅在利用旋轉刷3清洗基板9時，將清洗液的供給方法變更為使、清洗液供給部27關閉的節能化方式，也能得到相同水平的改善效果。在電極圖案的形成前和形成後的任意實施結果中，也通過向旋轉刷3或基板9供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液而實現了殘留汙染粒子的降低，確認到本實施方式的有用性。其結果，在液晶顯示器的生產エ序中，由於能夠大幅度地降低在前述中詳細說明的顯示裝置的製造裝置組中的各製造裝置內和裝置間的基板移動エ序的需要部位上進行刷清洗的基板清洗エ序後的殘留汙染粒子所引起的電極配線的斷線的發生、伴隨著電極間漏電和絕緣膜的絕緣不良等的TFT的性能不良、以及由基板粘合エ序中產生的夾入異物而引起的顯示不良等的產生部位的數量，因此也可以提高成品率以及縮短作為不良對策所實施的修理作業時間，實現生產效率的改善。再有，本實施方式對液晶顯示器的製造エ序進行了詳細說明，但在等離子顯示器和有機EL顯不器等的基板清洗エ序、Si晶片或薄I旲太陽電池等的製造エ序中也有效。 (其他實施方式)已經舉出在第一實施方式中設置有旋轉刷3專用的清洗液供給部即第一清洗液供給部6和基板9專用的清洗液供給部即第二清洗液供給部7的情況為例，以及舉出在第ニ實施方式中設置有旋轉刷3專用的清洗液供給部即第一清洗液供給部27和基板9專用的清洗液供給部即第二清洗液供給部28a、28b的情況為例，進行了說明，但也可以設置單一的清洗液供給部，設置成可以切換該清洗液供給部的清洗液供給方向。利用清洗液的供給方向的切換，能夠成為具有向旋轉刷3的清洗液供給和向基板9的清洗液供給的2個形式的結構，在基板9被輸送到與旋轉刷3的接觸位置之前，向旋轉刷3供給清洗液，在基板9被輸送到了與旋轉刷3的接觸位置上吋，向位幹與旋轉刷3的接觸位置上的基板9供給清洗液。在此，關於清洗液的消耗量，例如，在從三系統的各個清洗液供給部(第一實施方式的6、7、第二實施方式的27、28a、28b)，供給IOL/分的清洗液的條件下，利用在旋轉刷3與基板9的接觸時停止向旋轉刷3供給的清洗液的方法，就不需要大約IOL/分的清洗液，在設置單一的清洗液供給部並切換清洗液的供給方向的情況下，能夠節省20L/分的清洗液的供給。此外，關於清洗液的供給量，例如，三系統的各個清洗液供給部(第一實施方式的
6、7、第二實施方式的27、28a、28b)的液供給量、即來自三個噴嘴的液供給量，也可以分別不同。已經說明了本發明的幾個實施方式，但是這些實施方式只是作為例子而提出的，並不是想限定發明的範圍。這些新的實施方式可以以其他各種各樣的方式進行實施，可以在不脫離發明主g的範圍內進行各種各樣的省略、置換、變更。這些實施方式或其變形包含在發明範圍或主g內，並且也包含在權利要求所記載的發明及其等同的範圍內。
權利要求
1.ー種基板清洗裝置，其特徵在於，具備 輸送機構，輸送基板； 旋轉刷，由通過與所述基板摩擦而帶負電的材料形成，通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子；和 第一清洗液供給部，向所述旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液。
2.ー種基板清洗裝置，其特徵在於，具備 輸送機構，輸送玻璃制的基板； 旋轉刷，由通過與所述基板摩擦而帶負電的尼龍形成，通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子；和 第一清洗液供給部，向所述旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液。
3.根據權利要求I或2所述的基板清洗裝置，其特徵在幹， 所述第一清洗液供給部從所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置之前起，向所述旋轉刷供給所述清洗液。
4.根據權利要求I或2所述的基板清洗裝置，其特徵在幹， 除了所述第一清洗液供給部，還具備第二清洗液供給部，所述第二清洗液供給部向位幹與所述旋轉刷的接觸位置上的所述基板供給所述清洗液； 在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置的情況下，所述第一清洗液供給部停止所述清洗液的供給，所述第二清洗液供給部供給所述清洗液。
5.根據權利要求I或2所述的基板清洗裝置，其特徵在幹， 所述第一清洗液供給部被設置成能夠切換清洗液供給方向，在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置之前，向所述旋轉刷供給所述清洗液，在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置時，切換清洗液供給方向，向位幹與所述旋轉刷的接觸位置上的所述基板供給所述清洗液。
6.ー種基板清洗方法，其特徵在於，具備 輸送基板的エ序；和 向旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液的エ序，所述旋轉刷由通過與所述基板摩擦而帶負電的材料形成，並通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子。
7.ー種基板清洗方法，其特徵在於，具備 輸送玻璃制的基板的エ序；和 向旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液的エ序，所述旋轉刷由通過與所述基板摩擦而帶負電的尼龍形成，並通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子。
8.根據權利要求6或7所述的基板清洗方法，其特徵在幹， 從所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置之前起，進行向所述旋轉刷的所述清洗液的供給。
9.根據權利要求6或7所述的基板清洗方法，其特徵在幹， 具有向位幹與所述旋轉刷的接觸位置上的所述基板供給所述清洗液的エ序，在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置吋，停止向所述旋轉刷的所述清洗液的供給，並且進行向所述基板的所述清洗液的供給。
10.根據權利要求6或7所述的基板清洗方法，其特徵在幹， 切換所述清洗液的供給方向，在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置之前，向所述旋轉刷供給所述清洗液，在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置時，向位幹與所述旋轉刷的接觸位置上的所述基板供給所述清洗液。
11.一種顯示裝置的製造裝置，具備對所輸送的顯示裝置用基板進行清洗的基板清洗裝置，其特徵在幹， 所述基板清洗裝置是權利要求I或2所述的基板清洗裝置。
12.—種顯示裝置的製造方法，具有對所輸送的顯示裝置用基板進行清洗的基板清洗エ序，其特徵在幹， 所述基板清洗エ序具有向旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液的エ序，所述旋轉刷由通過與所述基板摩擦而帶負電的材料形成，並通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子。
13.—種顯示裝置的製造方法，具有對所輸送的顯示裝置用的玻璃制基板進行清洗的基板清洗エ序，其特徵在幹， 所述基板清洗エ序具有向旋轉刷供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液的エ序，所述旋轉刷由通過與所述基板摩擦而帶負電的尼龍形成，並通過與所述基板接觸並進行旋轉來除去所述基板上附著的汙染粒子。
14.根據權利要求12或13所述的顯示裝置的製造方法，其特徵在幹， 從所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置之前起，進行向所述旋轉刷的所述清洗液的供給。
15.根據權利要求12或13所述的顯示裝置的製造方法，其特徵在幹， 具有向位幹與所述旋轉刷的接觸位置上的所述基板供給所述清洗液的エ序，在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置吋，停止向所述旋轉刷的所述清洗液的供給，並且進行向所述基板的所述清洗液的供給。
16.根據權利要求12或13所述的顯示裝置的製造方法，其特徵在幹， 通過對來自向位幹與所述旋轉刷的接觸位置上的所述基板供給所述清洗液的第二清洗液供給部的清洗液供給方向進行切換，在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置之前，向所述旋轉刷供給所述清洗液，在所述基板被輸送到與所述旋轉刷的接觸位置吋，切換清洗液供給方向，從所述第二清洗液供給部向位幹與所述旋轉刷的接觸位置上的所述基板供給所述清洗液。
17.根據權利要求12或13所述的顯示裝置的製造方法，其特徵在幹， 在對於形成電極圖案之前的所述基板的情況下和對於形成了電極圖案之後的所述基板的情況下進行所述基板清洗エ序。
全文摘要
提供一種能夠防止在清洗基板的旋轉刷上靜電吸附汙染粒子的基板清洗裝置、基板清洗方法、顯示裝置的製造裝置和顯示裝置的製造方法。實施方式涉及的基板清洗裝置(1)具備輸送機構(2)，輸送基板(9)；旋轉刷(3)，由通過與基板(9)摩擦而帶負電的材料形成，通過與基板(9)接觸並進行旋轉來除去基板(9)上附著的汙染粒子；和第一清洗液供給部(6)，向旋轉刷(3)供給含有帶負電的微小氣泡的清洗液。
文檔編號B08B3/08GK102646616SQ20121004119
公開日2012年8月22日 申請日期2012年2月21日 優先權日2011年2月21日
發明者安藤佳大, 寺門秀晃, 山元良高, 廣瀨治道, 田中康一, 田中潤一, 西部幸伸 申請人:夏普株式會社, 芝浦機械電子株式會社