一種光自潔陶瓷磚的製作方法

2023-06-13 22:53:06 1

專利名稱：一種光自潔陶瓷磚的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種建築材料，特別涉及一種光自潔陶瓷磚。
背景技術：
隨著經濟的發展，人們對建築物的內、外裝修水平也提高了，樓房牆壁外貼上陶瓷磚顯得整潔美觀，陶瓷磚作為一種優秀的建築材料也不再是簡單的構建作用和美化作用， 它還可以擁有一些特殊的功能。現有的瓷磚在使用一段時間後表面會蒙上汙垢灰塵，一般需要人工定期清洗，才能保持陶瓷磚表面的清潔，這種需要清洗的陶瓷磚維護費用較高，且外牆上一些比較高不容易清潔到的地方，要徹底清潔需要高空作業，人們在清洗陶瓷磚的過程中經常會發生安全事故，安全性極差，另外，人們在清洗陶瓷磚時通常需要使用化學劑，化學劑會對環境造成汙染，不夠節能、環保。
發明內容針對上述問題，本實用新型提出一種耐汙垢灰塵、耐磨損、節能環保，可自行清潔的光自潔陶瓷磚。為解決此技術問題，本實用新型採取以下方案一種光自潔陶瓷磚，包括陶瓷基體，還包括釉面層及金屬氧化薄膜層，所述釉面層設於陶瓷基體上方，所述金屬氧化薄膜層設於釉面層上方。進一步所述釉面層由底釉層及設於底釉層上方的生料釉層組成。通過採用前述技術方案，本實用新型的有益效果是本實用新型光自潔陶瓷磚，在陶瓷基體上方設有釉面層，所述釉面層上方設有金屬氧化薄膜層，金屬氧化薄膜層在光的照射下可以分解陶瓷磚表面各種有機化合物和部分無機化合物，從而達到自潔的功能，而且無須利用化學劑進行人工清洗，既節省了人力物力又符合環保要求。

圖1是本實用新型實施例結構示意圖。
具體實施方式
現結合附圖和具體實施例對本實用新型進一步說明。參考圖1，一種光自潔陶瓷磚，包括陶瓷基體1，還包括釉面層及金屬氧化薄膜層 3，所述釉面層設於陶瓷基體1上方，所述金屬氧化薄膜層3設於釉面層上方，所述釉面層由底釉層21及設於底釉層21上方的生料釉層22組成，所述金屬氧化薄膜層為金屬鈦氧化薄膜層，金屬鈦氧化薄膜層在光的照射，具有超親水性和超親油性，令附著在金屬氧化薄膜層表面的水分變成超親水性水膜，使汙跡不易附著，金屬鈦氧化薄膜層在光的照射下可以分解陶瓷磚表面各種有機化合物和部分無機化合物，從而使陶瓷磚達到自我清潔的效果，另外，本新型光自潔陶瓷磚無須利用化學劑進行人工清洗，既節省了人力物力又符合環保要求。 以上所記載，僅為利用本創作技術內容的實施例，任何熟悉本項技藝者運用本創作所做的修飾、變化，皆屬本創作主張的專利範圍，而不限於實施例所揭示者。
權利要求1.一種光自潔陶瓷磚，包括陶瓷基體，其特徵在於還包括釉面層及金屬氧化薄膜層， 所述釉面層設於陶瓷基體上方，所述金屬氧化薄膜層設於釉面層上方。
2.根據權利要求1所述的光自潔陶瓷磚，其特徵在於所述釉面層由底釉層及設於底釉層上方的生料釉層組成。
專利摘要本實用新型涉及建築材料，提供一種耐汙垢灰塵、耐磨損、節能環保，可自行清潔的光自潔陶瓷磚，包括陶瓷基體，還包括釉面層及金屬氧化薄膜層，所述釉面層設於陶瓷基體上方、所述金屬氧化薄膜層設於釉面層上方。
文檔編號E04F13/075GK202194331SQ20112024141
公開日2012年4月18日 申請日期2011年7月8日 優先權日2011年7月8日
發明者黃家洞 申請人:晉江恆達陶瓷有限公司