一種再生鐳射電化鋁薄膜的製作方法

2023-06-09 07:14:41 2

專利名稱：一種再生鐳射電化鋁薄膜的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種全息防偽印刷行業材料，特別涉及一種再生鐳射電化鋁薄膜。
背景技術：
在包裝行業，鐳射防偽技術在包裝材料上掀起了一場革命，防偽電化鋁燙印技術和鐳射電化鋁薄膜的應用越來越多，其用量也逐年大幅增長，但是在鐳射電化鋁薄膜製備過程中，大多以聚酯薄膜為基膜，在其上均勻塗布一層或者多層具有不同化學性質塗料的塗層，再採用熱模壓和熱燙印工藝完成整個製備過程，在熱模壓的生產過程中，常常會遇到粘版起皮的現象，本行業普遍認為這個現象引起的原因是模壓溫度過高，塗料的粘性過大造成的，普遍採用的解決方法是降低模壓溫度，降低模壓溫度又不能夠滿足產品的亮度對模壓溫度的要求，影響產品外觀效果和質量，如果模壓溫度太低，則電化鋁薄膜亮度不夠； 如果模壓溫度太高，則容易造成模壓起皮粘版的問題，導致產品下線。因此各個從事電化鋁製備的企業，都存在大量難以模壓的塗布下線半成品，導致成品率下降，造成了浪費，這種導致大批已經塗膜的在制品材料因為模壓工序的粘版現象而被迫下線的情況以往只能夠丟棄這樣的在制品，給公司造成很大的浪費，如何將即將成為報廢材料而丟棄的以塗薄膜材料重新再利用成為工程技術人員急待解決的問題，希望能夠找到一種方法或者材料使得下線在制品重新得到再利用，同時解決即保持塗層亮度、模壓時保證模壓溫度，還要在模壓過程中克服容易出現起皮粘板現象，方便控制，降低模壓廢品率是工程技術人員迫切需要解決的問題。

發明內容
本發明的目的就是為了克服上述現有技術存在的缺陷、提供一種能夠克服在制品缺陷、通過二次塗布下線半成品製成的再生鐳射電化鋁薄膜。本發明的目的是通過以下技術方案來完成
本發明所述的一種再生鐳射電化鋁薄膜的方法，其中所述納米二氧化矽純度為99% 以上。本發明一種再生鐳射電化鋁薄膜，包括在作為基材層的基膜上、依次塗布離型層、成像層、鍍鋁層、膠層，其特徵在於在成像層和鍍鋁層之間設置有一層耐溫區間為200-225°C的再生層，再生層塗布塗料的量控制在O. 05-0. 6g/m2之間，再生層厚度為 O. 025 μ m -O. 3 μ m，所述再生層是含有填料納米二氧化矽的丙烯酸樹脂塗層。本發明具有如下顯著優點提供一種能夠克服在制品在模壓時起皮粘版現象、通過二次塗布下線半成品製成的再生鐳射電化鋁薄膜能夠達到下道工序工藝要求，使得變為廢品的在制品得到重新利用，同時使用再生鐳射電化鋁薄膜之後，模壓速度可以由原來的30m/min提高到45m/min，生產效率提高了 50%，本發明所述製備再生鐳射電化鋁薄膜的塗料是一種能夠有效提高電化鋁半成品模壓耐溫性的模壓再生塗層塗料，採用該塗料塗敷的再生鐳射電化鋁薄膜不易起皮粘板，易於操作，提高電化鋁製備的成品率，即通過改善塗料的性能對因溫度控制問題而引起的粘版和起皮現象得到解決，模壓的膜帶的表面亮度較高，表觀優異；從本發明產品的實際製備來看，本發明塗料可明顯改善在製備中遇到的實際問題，並能顯著提高成品率，提高製備效率，使得下線在制品重新得到再利用，在節約材料和能源以及降低成本等方面取得了令人滿意的效果，本發明塗料可保證製備的穩定性和產品的使用性能，並能為公司帶來更大的經濟效益。


圖I:為本發明再生鐳射電化鋁薄膜的結構示意具體實施例方式
下面將結合具體實施例對本發明作詳細的介紹
在現有技術中，普通的鐳射電化鋁薄膜包括在基膜上依次塗覆有離型層2、成像層3、 鍍鋁層4製成鐳射電化鋁薄膜，這樣的薄膜在下一道模壓工序時，由於模壓溫度超出塗料的耐溫區間，容易產生起皮粘版現象，如圖I所示是本發明的一種再生鐳射電化鋁薄膜，包括在作為基材層的基膜I上、依次塗布離型層2、成像層3，在成像層3之後、鍍鋁層5之前，由於發現這時的塗層工藝參數不符合下一道工序的溫度要求，實際進入下一道工序生產時也同樣發現經常起皮粘版現象，質量不能夠達標，本發明就是在成像層3之後、鍍鋁層 5之前直接二次塗布一層本發明再生層塗料，即設置有一層再生層4，再生層4的耐溫區間為200-225°C，再生層4塗布塗料的量控制在O. 05-0. 6g/m2之間，再生層4厚度為O. 025 μ m -O. 3 μ m，所述再生層4是含有填料納米二氧化矽的丙烯酸樹脂塗層，塗布再生層4之後， 再在再生層4上進行鍍鋁得到鍍鋁層5，再採用熱模壓和熱燙印工藝完成整個製備過程， 所述再生層4是因該層樹脂附在半成品表面，阻隔容易粘版的半成品直接與模壓所用鎳板接觸，可以有效避免粘版，同時該層也具備良好的模壓性能，使模壓起皮粘板的情況得到解決。所述納米二氧化矽純度為99%以上。
權利要求
1.一種再生鐳射電化鋁薄膜，包括在作為基材層的基膜(I)上、依次塗布離型層(2)、 成像層(3)、鍍鋁層(5)，其特徵在於在成像層3和鍍鋁層5之間設置有一層耐溫區間為 200-2250C的再生層(4)，再生層(4)塗布塗料的量控制在O. 05-0. 6g/m2之間，再生層(4)厚度為O. 025 μ m -O. 3 μ m，所述再生層(4)是含有填料納米二氧化矽的丙烯酸樹脂塗層。
2.根據權利要求I所述的一種再生鐳射電化鋁薄膜，其特徵在於所述納米二氧化矽純度為99%以上。
全文摘要
本發明涉及一種全息防偽印刷行業材料，特別涉及一種再生鐳射電化鋁薄膜，提供一種能夠克服在制品缺陷、通過二次塗布下線半成品製成的再生鐳射電化鋁薄膜，包括在作為基材層的基膜上、依次塗布離型層、成像層、鍍鋁層，其特徵在於:在成像層和鍍鋁層之間設置有一層耐溫區間為200-225℃的再生層，再生層塗布塗料的量控制在0.05-0.6g/m2之間，再生層厚度為0.025ｕm-0.3ｕm，再生層是含有填料納米二氧化矽的丙烯酸樹脂塗層，本發明改善在產品製備中存在的薄膜塗層耐溫性差，造成模壓廢品率較高缺陷，不易起皮粘板，易於操作，提高電化鋁製備成品率，粘版和起皮現象得到解決，模壓的膜帶的表面亮度較高，表觀優異。
文檔編號B32B27/18GK102582164SQ201210054989
公開日2012年7月18日 申請日期2012年3月5日 優先權日2012年3月5日
發明者孔祥金, 李銘果 申請人:湖北聯合天誠防偽技術股份有限公司