真空離子鍍膜系統的製作方法
2023-06-19 00:57:56 1
專利名稱:真空離子鍍膜系統的製作方法
【專利摘要】本實用新型是一種真空離子鍍膜系統。包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內設置有離子發射源，真空鍍膜室的左右兩側分別設置有一個前密封室和一個後密封室，後密封室後方設置有保溫室，前密封室的前方設置有前過渡室，保溫室的後方設置有後過渡室，還包括位於前過渡室、前密封室、真空鍍膜室、後密封室、保溫室、後過渡室內的輸送裝置，待鍍膜的板材能夠通過輸送裝置依次進入到各個室內；真空鍍膜室的一側設置有真空泵。採用上述的結構後，使膜料成為膜料蒸汽，均勻鍍在玻璃片上，有利於提高鍍膜的質量，設置的保溫室，起到加溫作用，進一步增強鍍膜強度，更重要的是可以在鍍完膜後出爐過程中使其具有過渡作用，有利於提高鍍膜強度和鍍膜質量。
【專利說明】真空離子鍍膜系統
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種鍍膜生產裝置，具體地說是一種真空離子鍍膜系統。
【背景技術】
[0002]鍍膜技術已經應用於人們的日常生活和工業各個領域，現有技術中製備金黃色的TiN膜、黑色的TiC膜、棕色的TiAlN膜和綠色的ZrO膜過程中，通常都需要採用真空離子鍍膜技術，現有的真空離子鍍膜設備一般包括爐體主機、抽氣系統、電控櫃三部分組成，現有的這種結構，生產效率低，生產過程複雜，鍍膜質量差，設備成本以及人工成本高。
【發明內容】
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是提供一種結構簡單、設備成本低，鍍膜質量好的真空離子鍍膜系統。
[0004]為了解決上述技術問題，本實用新型的真空離子鍍膜系統，包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內設置有離子發射源，真空鍍膜室的左右兩側分別設置有一個前密封室和一個後密封室，後密封室後方設置有保溫室，所述前密封室的前方設置有前過渡室，保溫室的後方設置有後過渡室，還包括位於前過渡室、前密封室、真空鍍膜室、後密封室、保溫室、後過渡室內的輸送裝置，待鍍膜的板材能夠通過輸送裝置依次進入到前過渡室、前密封室、真空鍍膜室、後密封室、保溫室、後過渡室內；所述真空鍍膜室的一側設置有用於抽真空的真空泵。
[0005]所述離子發射源設置有5個以上。
[0006]所述前密封室和後密封室內分別設置有密封門，各個密封門上均設置有感應開關，所述感應開關檢測到板材進入進出狀況後能夠啟閉密封室使板材進入前密封室或送出後S封室。
[0007]採用上述的結構後，一方面，通過離子源發射等離子體加熱膜料，使膜料成為膜料蒸汽，均勻鍍在玻璃片上，另外一方面，設置的密封室起到很好的密封作用，有利於提高鍍膜的質量，設置的保溫室，一方面可以起到加溫作用，進一步增強鍍膜強度，更重要的是可以在鍍完膜後出爐過程中使其具有過渡作用，有利於提高鍍膜強度和鍍膜質量。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型真空離子鍍膜系統的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下面墊結合具體實施例對本實用新型的真空離子鍍膜系統作詳盡說明。
[0010]如圖1所示，本實用新型的真空離子鍍膜系統，包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內設置有離子發射源，真空鍍膜室的左右兩側分別設置有一個前密封室和一個後密封室，後密封室後方設置有保溫室，所述前密封室的前方設置有前過渡室，保溫室的後方設置有後過渡室，還包括位於前過渡室、前密封室、真空鍍膜室、後密封室、保溫室、後過渡室內的輸送裝置，待鍍膜的板材能夠通過輸送裝置依次進入到前過渡室、前密封室、真空鍍膜室、後密封室、保溫室、後過渡室內；所述真空鍍膜室的一側設置有用於抽真空的真空泵；離子發射源設置有5個以上，前密封室和後密封室內分別設置有密封門，各個密封門上均設置有感應開關，所述感應開關檢測到板材進入進出狀況後能夠啟閉密封室使板材進入前密封室或送出後密封室。
【權利要求】
1.一種真空離子鍍膜系統，其特徵在於:包括真空鍍膜室，真空鍍膜室內設置有離子發射源，真空鍍膜室的左右兩側分別設置有一個前密封室和一個後密封室，所述後密封室後方設置有保溫室，所述前密封室的前方設置有前過渡室，保溫室的後方設置有後過渡室，還包括位於前過渡室、前密封室、真空鍍膜室、後密封室、保溫室、後過渡室內的輸送裝置，待鍍膜的板材能夠通過輸送裝置依次進入到前過渡室、前密封室、真空鍍膜室、後密封室、保溫室、後過渡室內；所述真空鍍膜室的一側設置有用於抽真空的真空泵。2.按照權利要求1所述的真空離子鍍膜系統，其特徵在於:所述離子發射源設置有5個以上。3.按照權利要求1所述的真空離子鍍膜系統，其特徵在於:所述前密封室和後密封室內分別設置有密封門，各個密封門上均設置有感應開關，所述感應開關檢測到板材進入進出狀況後能夠啟閉密封室使板材進入前密封室或送出後密封室。
【文檔編號】C23C14-32GK204265833SQ201420729923
【發明者】石芳萍 [申請人]深圳市炬宇泰科技有限公司