一種高光澤高透明度的珍珠製備方法
2023-06-12 01:30:56 4
專利名稱：一種高光澤高透明度的珍珠製備方法
技術領域：
本發明涉及珍珠的加工技術，具體涉及一種高光澤高透明度的珍珠製備方法。
背景技術：
光澤是評價珍珠質量的一個重要指標.，通過增光來改善珍珠的光澤是珍珠加工工藝中的重要工序。目前的增光技術，主要採用化學藥物浸泡、蒸煮等方法對珍珠表面及內部的汙物進行溶解、吸附。同時採用拋光材料等對珍珠表面進行打磨，磨掉珍珠表面的部分突起和雜物，拋光過程中也結合拋光蠟一同使用，填充珍珠表面的空隙和空洞，以此來改善珍珠對光的反射及折射效果，從而提高珍珠的光澤及透明度。現有的珍珠增光技術不能完全解決所有珍珠的增光問題，增光效果不穩定，對珍珠光澤及透明度的提升有限。特別是部分死光珠、弱光珠，難以通過現有的增光技術使得光澤及透明度獲得有效提升。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是克服上述技術缺陷的方法，提供了一種新型珍珠加工技術方法，它以天然珍珠、養殖珍珠為基材，通過濺射法在其表面複合一層透明膜層，其膜層與珍珠結合牢固、厚薄均勻、無色透明、耐磨、性質穩定，不僅不遮蓋珍珠本身的顏色， 還能有效提高珍珠的光澤度及透明度，珍珠光澤能夠達到強B以上，反射光明亮，表面映像清晰。為此，本發明採用如下的技術方案，一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，其步驟依次如下1.鍍膜前的鍍膜前的珍珠清洗及乾燥處理；a對珍珠進行超聲波除蠟，噴淋清洗；b對珍珠進行超聲波除油，噴淋清洗；c對珍珠進行純水超聲波處理2次以上；d對珍珠進行純水漂洗2次以上；e對珍珠進行熱風乾燥；2.將洗淨乾燥後的珍珠固定在真空多弧離子鍍膜機爐膛內的轉架上，採用真空機組進行抽排大氣，真空度保持在1. 0-5. OX ΙΟ"3 ；3.採用紅外線加溫至30_150°C ；4.通入氧氣，濺射總氣壓範圍為0. 1 7Pa ；5.將Ti靶加負偏電壓到400-600V，進行鍍膜，鍍膜時間為1_30分鐘。上述的製備方法中，採用超聲波除油除汙、噴淋，純水超聲波處理、純水漂洗，以及熱風烘乾，能夠獲得潔淨的珍珠表面，為獲得牢固、均勻的膜層奠定基礎。上述的製備方法中，採用紅外線加熱爐膛溫度至30-150°C，爐內溫度越高，膜層越牢固，同時在此溫度範圍內不損傷珍珠。上述的製備方法中，真空度保持在1. 0-5. 0 X IO-3,真空度越高膜層透明度越高，膜層顏色越純正，鍍膜效果越好。上述的製備方法中，非金屬膜為一層，非金屬為二氧化鈦，無毒性。鍍制的鍍層無色，具有良好的透明度、薄膜均勻、結合緊密、耐磨，厚薄可控制等優點，極薄的透明膜層提高了珍珠的光澤及透明度。上述的製備方法中，二氧化鈦膜層通過直流磁控反應濺射法獲得，鍍層厚在 30nm-1000nm,膜層厚度可根據客戶需求控制，適合工業化生產。本發明它以天然珍珠、養殖珍珠為基材，在其表面複合一層透明膜層，其膜層與珍珠結合牢固、厚薄均勻、無色透明、耐磨、性質穩定，不僅不遮蓋珍珠本身的顏色，還能有效提高珍珠的光澤度及透明度，珍珠光澤能夠達到強B以上，反射光明亮，表面映像清晰。下面結合具體實施方式
對本發明作詳細說明。
具體實施例方式實施例鍍膜步驟依次如下1.將珍珠浸泡在超聲波清洗設備中，加入除蠟劑和水，超聲波清洗2-10分鐘，取出後用水充分噴淋清洗；2.將步驟1清洗後的珍珠浸泡在超聲波清洗設備中，加入除油粉和水，超聲波清洗2-10分鐘，取出後用水充分噴淋清洗；3.將步驟2清洗後的珍珠浸泡在超聲波清洗設備中，加入純水，超聲波清洗2-10 分鐘，重複2次以上；4.將步驟3清洗後的珍珠進行純水漂洗2次以上；5.將步驟4清洗後的珍珠在30_50°C進行熱風乾燥；6.將洗淨乾燥後的珍珠固定在真空多弧離子鍍膜機爐膛內的轉架上，採用真空機組進行抽排大氣，真空度保持在1. 0-5. OX ΙΟ"3 ；7.採用紅外線將爐內溫度加溫至30_150°C ；8.在爐內通入氧氣，濺射總氣壓範圍為0. 1 7Pa，9.將純度為99. 99%的Ti靶加負偏電壓到400-600V，進行鍍膜，鍍膜時間為1_30分鐘。經過本發明製備的珍珠，具有較高的光澤度及透明度，珍珠光澤能夠達到強B以上，反射光明亮，表面映像清晰。
權利要求
1.一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，其步驟依次如下1)鍍膜前的珍珠清洗及乾燥處理a對珍珠進行超聲波除蠟，噴淋清洗； b對珍珠進行超聲波除油，噴淋清洗； c對珍珠進行純水超聲波處理2次以上； d對珍珠進行純水漂洗2次以上； e對珍珠進行熱風乾燥；2)將洗淨乾燥後的珍珠固定在真空多弧離子鍍膜機爐膛內的轉架上，採用真空機組進行抽排大氣，真空度保持在1. 0-5. OX ΙΟ"3 ；3)採用紅外線將爐內溫度加溫至30-150°C；4)在爐內通入氧氣，濺射總氣壓範圍為0.1 7Pa ；5)將Ti靶加負偏電壓到400-600V，進行鍍膜1-30分鐘。
2.根據權利要求1所述的一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，其特徵在於鍍膜前的珍珠清洗及乾燥處理採用超聲波除蠟、除油、噴淋，純水超聲波處理、純水漂洗，以及熱風烘乾珍珠。
3.根據權利要求1所述的一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，其特徵在於真空多弧離子鍍膜機的真空度保持在1. 0-5. OX 10_3。
4.根據權利要求1所述的一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，其特徵在於採用紅外線加熱爐內溫度至30-150°C。
5.根據權利要求1所述的一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，其特徵在於通入氧氣後，濺射總氣壓範圍為0. 1 7Pa。
6.根據權利要求1所述的一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，其特徵在於將Ti靶加負偏電壓到400-600V，鍍膜時間為1-30分鐘。
7.根據權利要求1所述的一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，其特徵在於所採用的靶材為鈦靶，通過與氧氣反應生成二氧化鈦膜層，濺射至珍珠上，鍍層厚度在30-1000nm。
全文摘要
本發明公開了一種高光澤高透明度的珍珠製備方法，通過直流磁控反應濺射法，在珍珠表面複合一層厚度在30nm-1000nm二氧化鈦膜層。鍍制的鍍層無色，具有良好的透明度、薄膜均勻、結合緊密、耐磨，厚薄可控制等優點。本發明解決了傳統增光工藝不穩定，不能完全解決所有珍珠的增光，增光效果不理想的技術問題，大大提高了珍珠的光澤度及透明度，珍珠光澤能夠達到強B以上，反射光明亮，表面映像清晰。
文檔編號C23C14/34GK102334784SQ20101023949
公開日2012年2月1日 申請日期2010年7月27日 優先權日2010年7月27日
發明者張康 申請人:張康