觸控基板、觸控顯示面板、觸控顯示裝置製造方法
2023-07-10 06:28:46 2
觸控基板、觸控顯示面板、觸控顯示裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種觸控基板、觸控顯示面板、觸控顯示裝置，用於解決現有技術存在的觸控基板製備工藝需要的靶材種類多、觸控基板中信號發出電極和信號接收電極的通道間漏電流大、觸控單元的抗靜電能力低的問題。本實用新型提供的觸控基板、觸控顯示面板、觸控顯示裝置，由於架橋是採用金屬製備的,而隔離層是採用選自形成所述架橋的至少一種金屬製備的，其中，隔離層的介電常數為6-9。這樣在製備工藝中可以使用至少同一個金屬靶，減少了靶材的種類，簡化了工藝；另外，該隔離層，能夠減少信號發出電極和信號接收電極通道間的漏電流；降低隔離層的厚度，增強觸控時電場線的強度分布，進而提高觸摸靈敏性。
【專利說明】觸控基板、觸控顯示面板、觸控顯示裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及顯示【技術領域】，具體地，涉及一種觸控基板、觸控顯示面板、觸控顯示裝置。
【背景技術】
[0002]目前，在單層實現X方向和y方向的信號發射(驅動)或接受(感應)，需要採用架橋結構。如圖1和2所示，通常採用構圖工藝在襯底5上同層形成X方向和y方向的電極1，其中，將X方向電極11通過連接部111直接連接，然後，再在該相鄰區域4製作隔離層2，在隔離層2上製作架橋3，架橋3通過過孔將上述y方向的未連接的電極12進行連接，通常架橋3的圖形為矩形，通過兩端與電極12連接。
[0003]隔離層通常採用透明光阻材料(OC);但是OC製作的隔離層容易使在上述的X、y方向的電極之間產生漏電流:由於OC介電參數較低(約3.3)，隔離層中OC太薄容易導致X方向和I方向信號相互幹擾；0C材料太厚，不但會對電極在橋點對應的OC上的爬坡有影響，而且易減少觸控時電場線的分布，影響觸摸的觸摸靈敏性。
[0004]架橋3通常採用透明的金屬及金屬氧化物，這樣當隔離層採用非金屬製備，而架橋3採用透明的金屬及金屬氧化是需要不同的靶材，製備工藝複雜。
【發明內容】
[0005]解決上述問題所採用的技術方案是一種觸控基板，包括:襯底；在所述襯底的第一方向上間隔布置的多個第一電極，在所述襯底的第二方向上間隔布置的多個第二電極，相鄰所述第一電極在相鄰區域通過連接部電連接；
[0006]在所述連接部的一側設有隔離層，所述隔離層與所述連接部在垂直於所述襯底方向上至少部分重疊；
[0007]在所述隔離層遠離所述連接部的一側上設置的架橋，所述架橋將所述相鄰的第二電極電連接；
[0008]所述架橋是採用金屬製備的；所述隔離層是採用選自形成所述架橋的至少一種金屬製備的，其中，隔離層的介電常數為6-9。
[0009]優選的是，所述金屬包括鋁。
[0010]優選的是，所述金屬包括鉬和鋁。
[0011]優選的是，所述架橋包括位於兩端的擴張部和連接所述擴張部的主體部；所述擴張部為梯形，所述梯形的長邊遠離所述主體部；所述梯形長邊的長度大於所述主體部的寬度。
[0012]優選的是，所述架橋包括位於兩端的擴張部和連接所述擴張部的主體部；所述擴張部為弧形，所述弧形的頂部遠離所述主體部；所述弧形的弦長大於所述主體部的寬度。
[0013]本實用新型本實用新型的另一個目的還在於提供一種觸控顯示面板，所述觸控顯示面板上述的觸控基板。
[0014]本實用新型的另一個目的還在於提供一種觸控顯示裝置，所述觸控顯示裝置包括上述的觸控顯示面板。
[0015]本實用新型的觸控基板、觸控顯示面板、觸控顯示裝置，由於架橋是採用金屬製備的，而隔離層是採用選自形成所述架橋的至少一種金屬製備的，其中，隔離層的介電常數為6-9。這樣在製備工藝中可以使用至少同一個金屬靶，減少了靶材的種類，簡化了工藝；同時，可以充分利用該相同的金屬革巴；
[0016]另外，採用金屬的高介電材料作為隔離層，充分利用其高介電常數(6-9)，能夠減少信號發出電極和信號接收電極通道間的漏電流；金屬的高介電材料降低隔離層的厚度，增強觸控時電場線的強度分布，人體觸控體驗對X方向和y方向形成的互電容(互電容間相互形成電場)容易受人體電場線的影響，進而提高觸摸靈敏性；
[0017]同時，架橋通常設計成矩形，但這種設計在工藝製程的時候很容易造成形變，架橋的兩端變成尖端，使得觸控單元的抗靜電能力下降；同時，通過改變架橋的形狀提高了觸控單元的抗靜電能力。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0018]圖1為現有技術中觸控基板的局部俯視不意圖；
[0019]圖2為現有技術中觸控基板的局部截面示意圖；
[0020]圖3為本實用新型實施例1中的觸控基板的局部截面示意圖；
[0021]圖4為為本實用新型實施例1中的觸控基板的架橋的擴徵部為弧形的俯視示意圖。
[0022]圖5為本實用新型實施例1中的觸控基板的架橋的擴徵部為梯形的俯視示意圖。
[0023]附圖標記說明:
[0024]1.電極；11.第一電極；111.連接部；12.第二電極；
[0025]2.隔離層；
[0026]3.架橋；31.主體部；32.擴張部；
[0027]4.相鄰區域；
[0028]5.襯底；
[0029]6.黑矩陣；
[0030]7.電極走線。
【具體實施方式】
[0031]為使本領域技術人員更好地理解本實用新型的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細描述。
[0032]實施例1:
[0033]如圖3-5所不，本實施例提供一種觸控基板，包括:襯底5 ;在所述襯底5的第一方向(圖3中垂直於紙面方向)上間隔布置的多個第一電極11，在所述襯底5的第二方向(圖3中水平方向)上間隔布置的多個第二電極12，相鄰所述第一電極11在相鄰區域4通過連接部111電連接；
[0034]在所述連接部111的一側設有隔離層2，所述隔離層2與所述連接部11在垂直於所述襯底5方向上至少部分重疊；
[0035]在所述隔離層2遠離所述連接部11的一側上設置的架橋3，所述架橋3將所述相鄰的第二電極12電連接；
[0036]所述架橋3是採用金屬製備的；所述隔離層2是採用選自形成所述架橋的至少一種金屬製備的，其中，隔離層的介電常數為6-9。
[0037]本實施例中由於架橋是採用金屬製備的，而隔離層是採用選自形成所述架橋的至少一種金屬製備的，其中，隔離層的介電常數為6-9。，這樣在製備工藝中可以使用至少同一個金屬靶，減少了靶材的種類，簡化了工藝；同時，可以充分利用該相同的金屬靶；
[0038]另外，採用金屬的高介電材料作為隔離層，充分利用其高介電常數(6-9)，能夠減少信號發出電極和信號接收電極通道間的漏電流；金屬的高介電材料降低隔離層的厚度，增強觸控時電場線的強度分布，人體觸控體驗對X方向和y方向形成的互電容(互電容間相互形成電場)容易受人體電場線的影響，進而提高觸摸靈敏性。
[0039]應當理解的是，架橋可以是多種金屬層形成的，也可以是單一金屬形成的。
[0040]優選的，所述金屬包括鋁。
[0041]應當理解的，所述金屬包括鋁，也就是說直接製備鋁金屬層即可；
[0042]優選的，所述金屬包括鉬和鋁，也就是兩種金屬層形成的架橋。
[0043]架橋通常設計成矩形，但這種設計在工藝製程的時候很容易造成形變，架橋的兩端變成尖端，使得觸控單元的抗靜電能力下降。
[0044]如圖4所示，本實施例中所述架橋3包括位於兩端的擴張部32和連接所述擴張部32的主體部31 ;所述擴張部32可以為弧形，所述弧形的頂部遠離所述主體部31 ;所述弧形的弦長大於所述主體部31的寬度。
[0045]如圖5所示，所述架橋3包括位於兩端的擴張部32和連接所述擴張部32的主體部31 ;所述擴張部32也可以為梯形，所述梯形的長邊遠離所述主體部31 ;所述梯形長邊的長度大於所述主體部31的寬度。
[0046]應當理解的是，上述的擴張部32也可以是其它形狀，只要其寬度大於主體部31的寬度即可。例如，橢圓形等等。
[0047]本實施例中，架橋3的圖形設計成擴張部32的寬度大於所述主體部31的寬度，能夠有效改善工藝製程中由於刻蝕精度的原因，造成架橋3主體兩端形成尖端，使得觸控基板的抗靜電能力下降的問題。
[0048]實施例2
[0049]本實施例提供一種觸控顯示面板的製備方法，包括以下步驟:
[0050]包括以下步驟:
[0051]步驟1.通過構圖工藝在襯底上形成黑矩陣的圖形；
[0052]如圖3所示，在襯底5上通過構圖工藝形成黑矩陣6的圖形，具體的形成工藝為現有技術範疇，在此不再一一贅述。
[0053]步驟2.採用金屬製備導電層，通過構圖工藝在所述導電層上形成架橋的圖形和金屬走線的圖形
[0054]具體地，通過磁控濺射工藝，轟擊鉬靶和鋁靶在步驟I中獲得的襯底5上依次沉積鉬/鋁導電層；通過構圖工藝形成架橋3的圖形和外圍電極走線7的圖形。
[0055]應當理解的是，若導電層為鋁導電層，則在該步驟中只需要鋁靶濺射即可。
[0056]磁控濺射工藝為現有技術範疇，在此不再一一贅述。
[0057]步驟3.採用形成所述架橋的至少一種金屬形成隔離層，通過構圖工藝形成隔離層的圖形
[0058]具體地，將上述的磁控濺射的工藝腔室中通入氬氣和氧氣，形成氬、氧氣等離子，通過氧氣等離子轟擊步驟3中的鋁靶材，形成氧化鋁沉澱層；
[0059]具體地，磁控濺射的工藝腔室抽真空到真空度為2.0E_3Pa。同時，向腔室內充入氬氣和氧氣，其體積流量分別為200SCCm和50SCCm，沉積工作的真空度為0.2Pa,濺射功率為8KW，工作電壓為400V，載玻璃基板的移動速率為lm/min，保證沉積氧化鋁的沉積膜厚在100nm-500nm區間內即可。
[0060]然後，通過構圖工藝形成隔離層2的圖形，所述隔離層2在所述架橋的長度方向上的長度小於所述架橋3的長度。
[0061]步驟4.形成電極層圖案
[0062]具體地，通過磁控濺射工藝在步驟3獲得的襯底5上沉積電極層，通常為氧化銦錫，然後通過構圖工藝形成在所述襯底5的第一方向(圖3中垂直於紙面方向)上間隔布置的多個第一電極11，在所述襯底5的第二方向(圖3中水平方向)上間隔布置的多個第二電極12，相鄰所述第一電極11在相鄰區域通過連接部111電連接，且所述連接部11與所述隔離層2在垂直於所述襯底方向上至少部分重疊。
[0063]本實施例中由於架橋3是採用鋁金屬層製備的，而隔離層2是採用氧化鋁(介電常數為6-9)材料製備的，這樣在製備工藝中可以使用同一個鋁靶，減少了靶材的種類，簡化了工藝；同時，可以充分利用鋁靶；另外，採用氧化鋁作為隔離層能夠減少第一電極和第二電極通道間的漏電流，提高觸摸靈敏性。
[0064]可選的，在上述襯底5還可以製作其它必要的功能層，其它功能層的製備方法為現有技術範疇，在此不再一一贅述。
[0065]應當理解的是，本實用新型中金屬鋁和氧化鋁，只是眾多金屬和相應含有該金屬高介電化合物中的一種，現有技術中的具有該性質的金屬均可適用。
[0066]實施例3
[0067]本實施例提供一種觸控顯示面板，所述觸控顯示面板包括上述的觸控基板。
[0068]實施例4
[0069]本實施例提供一種觸控顯示裝置，所述觸控顯示裝置包括上述的觸控顯示面板。
[0070]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本實用新型的原理而採用的示例性實施方式，然而本實用新型並不局限於此。對於本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本實用新型的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本實用新型的保護範圍。
【權利要求】
1.一種觸控基板，包括:襯底； 在所述襯底的第一方向上間隔布置的多個第一電極，在所述襯底的第二方向上間隔布置的多個第二電極，相鄰所述第一電極在相鄰區域通過連接部電連接； 在所述連接部的一側設有隔離層，所述隔離層與所述連接部在垂直於所述襯底方向上至少部分重疊； 在所述隔離層遠離所述連接部的一側上設置的架橋，所述架橋將所述相鄰的第二電極電連接； 所述架橋的材質是金屬；所述隔離層的材質包含選自形成所述架橋的至少一種金屬，其中，隔離層的介電常數為6-9。
2.根據權利要求1所述的觸控基板，其特徵在於，所述金屬包括鋁。
3.根據權利要求1所述的觸控基板，其特徵在於，所述金屬包括鉬和鋁。
4.根據權利要求1所述的觸控基板，其特徵在於，所述架橋包括位於兩端的擴張部和連接所述擴張部的主體部；所述擴張部為梯形，所述梯形的長邊遠離所述主體部；所述梯形長邊的長度大於所述主體部的寬度。
5.根據權利要求1所述的觸控基板，其特徵在於，所述架橋包括位於兩端的擴張部和連接所述擴張部的主體部；所述擴張部為弧形，所述弧形的頂部遠離所述主體部；所述弧形的弦長大於所述主體部的寬度。
6.一種觸控顯示面板，其特徵在於，所述觸控顯示面板包括如權利要求1-5任一項所述的觸控基板。
7.—種觸控顯示裝置，其特徵在於，所述觸控顯示裝置包括如權利要求6所述的觸控顯示面板。
【文檔編號】G06F3/044GK204229381SQ201420759118
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年12月4日 優先權日:2014年12月4日
【發明者】曾亭, 胡明, 丁賢林, 王慶浦, 張貴玉 申請人:合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司