感光性樹脂組合物的製作方法

2023-08-06 11:38:56

專利名稱：感光性樹脂組合物的製作方法
技術領域：
本發明涉及感光性樹脂組合物。更詳細地說，涉及厚膜固化性優異的感光性樹脂組合物。所述感光性樹脂組合物可以很好地用於塗料、印刷油墨、塗布劑、模塑材料(例如 MEMS用材料)、抗蝕劑材料、納米壓印材料、粘合劑、密封劑、光學部件用成型材料或建築材料用成型材料。
背景技術：
近年來，在塗料、印刷油墨、塗布劑、模塑材料(例如MEMS用材料)、抗蝕劑材料、納米壓印材料、粘合劑、密封劑或成型材料等領域中，對通過電子束、紫外線、可見光線等活性光線照射而固化的感光性樹脂進行了研究。這是由於所述感光性樹脂具有在熱固性樹脂中不具備的能短時間固化、無溶劑等優點。在塗料、印刷油墨、抗蝕劑材料、塗布劑等中，在含有染料或顏料等有色材料及無機顆粒等填充劑的情況下，存在因活性光線衰減從而無法使較深的部分也充分固化的問題。此外，在模塑材料(例如MEMS用材料)、納米壓印材料、粘合劑、密封劑或成型材料等中，在需要以厚膜進行固化的情況下，存在活性光線無法到達較深的部分，較深的部分無法充分固化的問題。為了解決所述的問題點，提出了通過用紫外線照射，由光產酸劑(photoacid generator)產生酸，從而能低溫固化的陽離子聚合性粘合劑(例如專利文獻1)，該方案與自由基聚合相比，存在固化速度慢、金屬部件會產生腐蝕等問題。此外，提出了通過用紫外線照射，由光產鹼劑(photcAase generator)產生鹼，從而能促進由熱自由基引發劑產生自由基，進行低溫快速固化的自由基聚合性粘合劑(例如專利文獻幻，但是專利文獻2記載的光產鹼劑對365nm的光吸收較小，對於作為通常廣泛使用的光源的高壓水銀燈的波長(i 線365nm、h線405nm、g線436歷)，存在敏感度不足的問題。例如，在塗料或印刷油墨中， 有時在感光性樹脂組合物中配入有顏料(例如氧化鈦)或具有芳環(aromatic ring)的粘合劑等，顏料或具有芳環的粘合劑會吸收照射光(例如，氧化鈦會吸收380nm以下的光，芳環會吸收365nm附近的光。)，因此以往的光產鹼劑不能產生鹼。專利文獻1 日本專利公開公報特開2000-169821號專利文獻2 日本專利公開公報特開2007-45900號

發明內容
本發明的目的是提供一種在350nm 500nm波長的光下能有效感光，並且厚膜固化性及深部固化性優異的感光性樹脂組合物。本發明人為了解決所述的問題，進行了專心的研究，從而獲得了本發明。S卩，本發明是一種感光性樹脂組合物，其特徵在於，含有光產鹼劑(A)、熱自由基引發劑(B)以及自由基聚合性物質(C)，所述光產鹼劑(A)是由通式(1)或通式( 表示的化合物，並且所述光產鹼劑(A)通過活性光線的照射產生鹼。
權利要求
1. 一種感光性樹脂組合物，其特徵在於，含有光產鹼劑(A)、熱自由基引發劑(B)以及自由基聚合性物質(C)，所述光產鹼劑(A)是由通式(1)或通式( 表示的化合物，並且所述光產鹼劑(A)通過活性光線的照射產生鹼，(CH2)m
2.如權利要求1所述的感光性樹脂組合物，其中，通式(1)或通式(2)中的Ar具有1 4個苯環骨架。
3.如權利要求1或2所述的感光性樹脂組合物，其中，通式(1)或通式O)中的Ar是從由通式(3)表示的化合物除去R6 R15中任一個後的1價殘基、從由通式(4)表示的化合物除去R16 妒中的任一個後的1價殘基或從由通式(5)表示的化合物除去R24 R33中的任一個後的1價殘基，
4.如權利要求1 3任一項所述的感光性樹脂組合物，其中，在通式(1)中，m為2或
5.如權利要求1 4任一項所述的感光性樹脂組合物，其中，所述熱自由基引發劑(B) 是有機過氧化物和/或偶氮化合物。
6.如權利要求1 5任一項所述的感光性樹脂組合物，其中，所述自由基聚合性物質 (C)是N-乙烯基化合物、單官能(甲基)丙烯酸酯單體、多官能(甲基)丙烯酸酯低聚物或馬來醯亞胺化合物。
7.如權利要求1 6任一項所述的感光性樹脂組合物，其中，所述感光性樹脂組合物還含有添加劑(D)，該添加劑(D)為選自無機微粒、顏料、分散劑、消泡劑、整平劑、粘著性賦予劑、觸變性賦予劑、滑爽劑、阻燃劑、抗靜電劑、抗氧化劑及紫外線吸收劑中的至少1種。
8.如權利要求1 7任一項所述的感光性樹脂組合物，該感光性樹脂組合物用作塗料、 印刷油墨、塗布劑、模塑材料、抗蝕劑材料、納米壓印材料、粘合劑、密封劑、光學部件用成型材料或建築材料用成型材料。
全文摘要
本發明提供一種在350nm～500nm波長的光下能有效感光，厚膜固化性及深部固化性優異的感光性樹脂組合物。本發明的感光性樹脂組合物的特徵在於，含有光產鹼劑(A)、熱自由基引發劑(B)以及自由基聚合性物質(C)，所述光產鹼劑(A)是由通式(1)或通式(2)表示的化合物，並且所述光產鹼劑(A)通過活性光線的照射產生鹼。[在通式(1)或通式(2)中，Ar是具有至少1個苯骨架、且可以被滷素原子等取代的芳香族烴基或雜環基；R1和R2各自獨立地表示1～20的烷基等；m為2～4的整數；R3～R5各自獨立地表示可以被滷素原子等取代的碳原子數為1～20的烷基、苯基或萘基；X-表示陰離子。]
文檔編號C07D487/04GK102307909SQ20108000701
公開日2012年1月4日 申請日期2010年2月9日 優先權日2009年2月18日
發明者向井孝夫, 榊原德 申請人:三亞普羅股份有限公司