真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法

2023-08-06 14:16:26 4

專利名稱：真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法
技術領域：
本發明是關於一種真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法，特別是指一種用於有機發光顯示器薄膜基底的真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法。
背景技術：
有機發光顯示器(Organic Lighting Emitting Display，簡稱OLED)通常包括電子注入層、電子傳輸層、發光層、空穴傳輸層和空穴注入層等多層薄膜結構，該多層薄膜結構一般通過成膜方法形成，其各層薄膜的膜厚分布對有機電激發光顯示器的品質有較大的影響。
業界主要包括兩種成膜方法。一種是噴墨(Ink-jet Printing)方法，即將噴頭充滿待鍍液態材料，通過加熱產生氣泡或其它方法擠壓該液態材料，將其噴到欲鍍膜的基底上，該方法要求材料液滴微小，打點精確從而實現均勻成膜。另一種方法是真空蒸鍍法，即在真空條件下對蒸鍍材料進行加熱，使其熔融、蒸發後通過噴頭均勻沉積在欲鍍膜的基底上，冷卻後在該基底表面形成一層薄膜。
在真空蒸鍍法中，為提高基底蒸鍍膜厚的均勻性，一般真空蒸鍍裝置利用一條狀(Bar-Type)噴頭，該噴頭上設置有一排導氣孔，將基底放置在噴頭下方的工作檯上，蒸氣由導氣孔導出，通過噴頭和其下工作檯之間的位移，將蒸氣較均勻沉積在該基底上。
請同時參閱圖1和圖2，圖1是現有技術真空蒸鍍裝置的結構示意圖，圖2是圖1所示真空蒸鍍裝置的左視圖。該真空蒸鍍裝置1包括一真空腔11、一噴頭12、一工作檯13和一導氣管15。該噴頭12和該工作檯13在該真空腔11內相對設置，該噴頭12是長條形，其具有一腔體122，該腔體122與該導氣管15相連通。該噴頭12上進一步設置有多個導氣孔121，該導氣孔121等間距分布在該噴頭12上。
採用該真空蒸鍍裝置1的真空蒸鍍方法如下所述首先，將待鍍基底21放置在該工作檯13上；其次，提供一抽氣裝置(圖未示)將該真空腔11抽成真空；最後，維持該真空腔11為真空狀態，由該導氣管15向該噴頭12提供蒸氣，同時，該噴頭12在機械臂(圖未示)控制下開始相對於該工作檯13移動，蒸氣通過該腔體122並經該導氣孔121噴出沉積在該基底21上。
請參閱圖3，圖3是該真空蒸鍍裝置1的蒸氣流動動作示意圖。待鍍蒸氣通過該導氣管15進入該噴頭12的腔體122，在該腔體122內擴散後通過該導氣孔121噴出沉積在該基底21上。但是，由於該導氣孔121為均勻分布，而該蒸氣通過該導氣孔121時並非均勻分布，從中間部分的導氣孔121噴出的蒸氣流速和密度較大，從外圍部分的導氣孔121噴出的蒸氣的流速和密度較小，從而容易導致該基底21的沉積膜厚度中間部分較大，外圍部分較小。

發明內容為了克服現有真空蒸鍍裝置蒸鍍不均的現象，提供一種可提高蒸鍍均勻性的真空蒸鍍裝置實為必要。
為了克服現有真空蒸鍍裝置蒸鍍不均的現象，提供一種可提高蒸鍍均勻性的真空蒸鍍方法實為必要。
一種真空蒸鍍裝置包括一真空腔、一噴頭、一工作檯、一導氣管和一擴散裝置。該噴頭和該工作檯在該真空腔內相對設置，該噴頭設置有多個導氣孔，該導氣管與該導氣孔相連通，該擴散裝置固定在該噴頭上。
一種真空蒸鍍方法包括以下步驟提供一真空蒸鍍裝置，該真空蒸鍍裝置具有一真空腔，一工作檯、一噴頭和一擴散裝置；將一待鍍基底放置在該工作檯上；將該真空腔抽成真空；維持該真空腔為真空狀態，提供一蒸氣通過該導氣管進入該噴頭，經該噴頭和該擴散裝置減速、擴散為均勻分布，同時，該噴頭相對於該工作檯連續移動，將蒸氣均勻蒸鍍在該基底上。
相較於現有技術，本發明的真空蒸鍍裝置的擴散裝置能將噴頭流出的蒸氣減速並擴散為較均勻分布，從而有效提高蒸鍍均勻性。

圖1是現有技術的真空蒸鍍裝置的結構示意圖。
圖2是圖1所示真空蒸鍍裝置的左視圖。
圖3是圖1所示真空蒸鍍裝置的蒸氣流動動作示意圖。
圖4是本發明真空蒸鍍裝置第一實施方式的結構示意圖。
圖5是圖4所示真空蒸鍍裝置的左視圖。
圖6是圖4所示真空蒸鍍裝置的擴散板平面示意圖。
圖7是本發明真空蒸鍍裝置第二實施方式的結構示意圖。
圖8是圖7所示真空蒸鍍裝置的擴散板的平面示意圖。
具體實施方式
請同時參閱圖4和圖5，圖4是本發明真空蒸鍍裝置第一實施方式的結構示意圖，圖5是圖4所示的蒸鍍裝置的左視圖。本發明真空蒸鍍裝置3包括一真空腔31、一噴頭32、一工作檯33、一擴散板34和一導氣管35。
該真空腔31是一可提供真空條件的腔體，其自身具有抽氣裝置(圖未示)，該抽氣裝置能夠持續工作，維持該真空腔31為真空狀態。該噴頭32與該工作檯33在該真空腔內相對設置，該噴頭32設置有多個導氣孔321，該導氣管35與該導氣孔321相連通，其在工作過程中向該噴頭32提供蒸氣，該擴散板34固定在該噴頭32上。請同時參閱圖6，圖6是該擴散板34的平面結構圖，該擴散板34上設置有多個開孔341，該開孔341分布在該擴散板34上，其形狀是圓柱形，該開孔341根據蒸氣流動特性設計成中間區域較疏，外圍區域較密的分布，從而將從該導氣孔321流出的蒸氣擴散為均勻分布。
該真空蒸鍍裝置3所用的真空蒸鍍方法包括以下步驟首先，將一待鍍基底41放置在該工作檯33上；其次，將該真空腔31抽真空；最後，維持該真空腔31為真空狀態，提供一蒸氣依次通過該導氣管35、該噴頭32和該擴散板34噴出，同時，該噴頭32相對於該工作檯33連續移動，將從該擴散板34噴出的蒸氣連續均勻蒸鍍在該基底41上。
相對於現有技術，本發明真空蒸鍍裝置3的擴散板34能將噴頭32噴出的流速、密度不均的蒸氣減速並經該擴散板34的分布不均的開孔341擴散為均勻分布，從而有效提高蒸鍍均勻性。
該真空蒸鍍裝置3的開孔341還可以是圓錐形，立方錐形或正稜柱形等其它形狀，該開孔341的孔徑大小可以根據需要設計成不相同。該真空蒸鍍裝置3可以進一步包括設置在該真空腔31內的一掩膜板，用以獲得所需要的蒸鍍圖形。該導氣管35導入的蒸氣是小分子材料蒸氣。該類型的擴散板34也可以用在噴頭32和基底41大小相當的面蒸鍍裝置中。
請參閱圖7，圖7是本發明真空蒸鍍裝置第二實施方式的結構示意圖。該真空蒸鍍裝置5的結構與本發明第一實施方式的真空蒸鍍裝置3的結構相似，其包括一真空腔51、一噴頭52、一工作檯53、一擴散板54和一導氣管55。該真空蒸鍍裝置5與該真空蒸鍍裝置3的區別在於該擴散板54是一設置至少一狹縫的擴散板。請參閱圖8，圖8是該擴散板54的平面示意圖。該擴散板54上設置有至少一狹縫541，該狹縫541平行分布在該擴散板54上，其形狀是矩形，其上設置有多個擾流間隙子542，該擾流間隙子542用兩根相互垂直的金屬絲固定在該狹縫541上，其是八面體型，表面是光滑結構，其分布規律是中間區域較密，兩邊較疏，並可以通過調節垂直於該狹縫541的金屬絲使該擾流間隙子542沿著該狹縫541移動，該擾流間隙子542的作用是減緩蒸氣流動速度，使蒸氣緩慢擴散成均勻分布。
該真空蒸鍍裝置5對基底61進行蒸鍍，其所用的蒸鍍方法與本發明第一實施方式的蒸鍍裝置3所用的蒸鍍方法相似。不同的是，該蒸鍍裝置5是利用多個擾流間隙子542將從噴頭52噴出的蒸氣減速並擴散成均勻分布，從而達到提高蒸鍍均勻性的目的。且該擴散板54的蒸氣噴出口是狹縫，面積較大，能有效防止蒸氣沉積在該擴散板54而導致堵塞蒸氣噴出口的現象。
該真空蒸鍍裝置5的擾流間隙子542還可以是橄欖形，碟形等其它形狀，表面也可以具有條紋或螺紋等其它結構。該擾流間隙子542也可以用卡榫固定在該狹縫541上。該真空蒸鍍裝置5還可以進一步包括設置在該真空腔51內的一掩膜板，用來獲得所需要的蒸鍍圖案。該類型的擴散板54也可以用在噴頭52與基底61大小相當的面蒸鍍裝置中。
權利要求
1.一種真空蒸鍍裝置，其包括一真空腔、一噴頭、一工作檯和一導氣管，該噴頭設置在該真空腔內，其上設置有多個導氣孔，該工作檯與該噴頭相對設置在該真空腔內，該導氣管與該導氣孔相連通，其特徵在於該真空蒸鍍裝置進一步包括一擴散裝置，其固定在該噴頭上。
2.如權利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特徵在於該擴散裝置是設置有多個開孔的擴散板。
3.如權利要求2所述的真空蒸鍍裝置，其特徵在於該開孔分布為中間區域疏，兩側區域密。
4.如權利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特徵在於該擴散裝置是設置有至少一狹縫且該狹縫上設置有多個擾流間隙子的擴散板。
5.如權利要求4所述的真空蒸鍍裝置，其特徵在於該擾流間隙子分布為中間密，兩側疏。
6.如權利要求4所述的真空蒸鍍裝置，其特徵在於該擾流間隙子用金屬絲或卡榫固定在該狹縫處。
7.如權利要求1所述的真空蒸鍍裝置，其特徵在於其進一步包括設置於該工作檯上的一掩膜板。
8.一種真空蒸鍍方法，其包括以下步驟提供一真空蒸鍍裝置，其包括一真空腔、一噴頭、一工作檯、一導氣管和一擴散裝置，該噴頭和該工作檯相對設置於該真空腔內，該導氣管與該噴頭相連通，該擴散裝置固定於該噴頭上；將一基底置於該工作檯上；將該真空腔抽真空；提供一蒸氣由該導氣管導入該蒸鍍裝置，經該擴散裝置擴散為均勻分布，同時移動該噴頭將該蒸氣連續均勻蒸鍍於該基底上。
9.如權利要求8所述的真空蒸鍍方法，其特徵在於該擴散裝置是設置有多個開孔的擴散板。
10.如權利要求8所述的真空蒸鍍方法，其特徵在於該擴散裝置是設置有至少一狹縫的擴散板，且該狹縫上設置有多個擾流間隙子。
全文摘要
本發明提供一種真空蒸鍍裝置，其包括一真空腔、一噴頭、一供氣管、一擴散裝置和一工作檯，該噴頭與該工作檯相對設置在該真空腔內，該噴頭具有多個導氣孔，該供氣管與該導氣孔相連通，該擴散裝置固定於該噴頭上。本發明還提供一種採用上述蒸鍍裝置的真空蒸鍍方法。
文檔編號B05B1/14GK1970826SQ200510101739
公開日2007年5月30日 申請日期2005年11月24日 優先權日2005年11月24日
發明者黃榮龍, 彭家鵬, 賴建廷, 楊秋蓮 申請人:群康科技(深圳)有限公司, 群創光電股份有限公司