曝氣充分的曝氣頭的製作方法

2023-07-30 13:49:06 2

曝氣充分的曝氣頭的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種曝氣充分的曝氣頭，包括託盤，以所述託盤的進氣端為下端，所述託盤的上端設有支撐盤，所述支撐盤上均勻設有多個上、下相通的氣孔，所述支撐盤的上面安裝有具有微孔的膜片，所述膜片的微孔分別由內而外呈環狀分布形成多個微孔環；所述支撐盤的上表面設有由內而外的凹環，每一個所述凹環均位於相鄰兩個所述微孔環之間的下方，所述支撐盤位於所述凹環的位置以及相鄰兩個所述凹環之間的位置均設有所述氣孔。本實用新型通過在支撐盤上設置凹環後，曝氣頭在曝氣過程中，膜片上的微孔會同時受到來自微孔下方以及內、外側方向的氣流衝擊，其衝擊力量更大，所以通過微孔進入汙水中的空氣量更大，曝氣更充分。
【專利說明】曝氣充分的曝氣頭
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種用於城市汙水處理的盤式曝氣頭，尤其涉及一種曝氣充分的曝氣頭。
【背景技術】
[0002]在目前的城市汙水處理流程的後期生物池中，儘可能脫出汙水中的微生物，它是通過曝氣頭向汙水中充以空氣，即由曝氣頭的微孔施放時在水中產生微小氣泡，水中所得到的氧量將微生物集結在生物載體上來實現的。目前汙水處理主要採用盤式曝氣頭和鋼筒曝氣頭，盤式曝氣頭應用較多，其包括託盤，託盤的上端設有支撐盤，支撐盤上均勻設有多個上、下方向的氣孔，支撐盤的上面安裝有具有微孔的膜片。
[0003]目前的盤式曝氣頭，空氣由進氣端進入後直接通過支撐盤的氣孔和膜片微孔後實現曝氣功能，膜片的每一個微孔主要由其下方的支撐盤的氣孔提供空氣氣流，所以其氣流衝擊力量不夠大，通過微孔進入汙水中的空氣量不足，曝氣不夠充分。
實用新型內容
[0004]本實用新型的目的就在於為了解決上述問題而提供一種曝氣充分的曝氣頭。
[0005]本實用新型通過以下技術方案來實現上述目的:
[0006]本實用新型所述曝氣充分的曝氣頭包括託盤，以所述託盤的進氣端為下端，所述託盤的上端設有支撐盤，所述支撐盤上均勻設有多個上、下相通的氣孔，所述支撐盤的上面安裝有具有微孔的膜片，所述膜片的微孔分別由內而外呈環狀分布形成多個微孔環；所述支撐盤的上表面設有由內而外的凹環，每一個所述凹環均位於相鄰兩個所述微孔環之間的下方，所述支撐盤位於所述凹環的位置以及相鄰兩個所述凹環之間的位置均設有所述氣孔。
[0007]具體地，所述凹環的深度與所述支撐盤的厚度之比為三分之一至三分之二。；優選為二分之一。
[0008]本實用新型的有益效果在於:
[0009]本實用新型通過在支撐盤上設置凹環後，曝氣頭在曝氣過程中，膜片上的微孔會同時受到來自微孔下方以及內、外側方向的氣流衝擊，其衝擊力量更大，所以通過微孔進入汙水中的空氣量更大，曝氣更充分。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型所述曝氣充分的曝氣頭的俯視結構示意圖；
[0011]圖2是圖1中的A-A剖視圖；
[0012]圖3是本實用新型所述支撐盤的俯視結構示意圖；
[0013]圖4是圖3中的B-B剖視圖。【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖對本實用新型作進一步說明:
[0015]如圖1-圖4所示，本實用新型所述曝氣充分的曝氣頭包括託盤1，以託盤I的進氣端6為下端，託盤I的上端設有支撐盤4，支撐盤4上均勻設有多個上、下相通的氣孔5，支撐盤4的上面安裝有具有微孔3的膜片2，膜片2的微孔3分別由內而外呈環狀分布形成多個微孔環(見圖1的微孔3形成的微孔環)；支撐盤4的上表面設有由內而外的凹環7，凹環7的深度與支撐盤4的厚度之比為二分之一，也可以為三分之一至三分之二之間的其它比例，每一個凹環7均位於相鄰兩個微孔環之間的下方，支撐盤4位於凹環7的位置以及相鄰兩個凹環7之間的位置均設有氣孔5。圖4中，為了便於清楚示出凹環7的結構，圖中未示出氣孔5。
[0016]如圖1和圖2所示，使用時，將託盤I的進氣端6與供氣管(圖中未示出)連接，本曝氣頭置於汙水中。需要曝氣時，供氣管內的高壓空氣依次通過進氣端6、氣孔5和微孔3後進入汙水中，在此過程中，進氣端6內的空氣分別經過凹環7以及相鄰兩個凹環7之間的氣孔5同時進入膜片2與支撐盤4之間，膜片2上的微孔3會同時受到來自微孔3下方以及內、外側方向的氣流衝擊，其衝擊力量更大，所以通過微孔3進入汙水中的空氣量更大，曝氣更充分。
【權利要求】
1.一種曝氣充分的曝氣頭，包括託盤，以所述託盤的進氣端為下端，所述託盤的上端設有支撐盤，所述支撐盤上均勻設有多個上、下相通的氣孔，所述支撐盤的上面安裝有具有微孔的膜片，所述膜片的微孔分別由內而外呈環狀分布形成多個微孔環；其特徵在於:所述支撐盤的上表面設有由內而外的凹環，每一個所述凹環均位於相鄰兩個所述微孔環之間的下方，所述支撐盤位於所述凹環的位置以及相鄰兩個所述凹環之間的位置均設有所述氣孔。
2.根據權利要求1所述的曝氣充分的曝氣頭，其特徵在於:所述凹環的深度與所述支撐盤的厚度之比為三分之一至三分之二。
3.根據權利要求2所述的曝氣充分的曝氣頭，其特徵在於:所述凹環的深度與所述支撐盤的厚度之比為二分之一。
【文檔編號】C02F7/00GK203486959SQ201320578553
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年9月17日 優先權日:2013年9月17日
【發明者】謝弗伊 申請人:成都天宇創新科技有限公司