數控雕刻機光軸防水保護結構的製作方法

2023-08-01 04:12:11 3

數控雕刻機光軸防水保護結構的製作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種數控雕刻機光軸防水保護結構，包括光軸以及套設於光軸上可沿光軸往復運動的滑塊，所述滑塊與光軸外周上罩設有一槽狀護罩，所述槽狀護罩開口向下，所述槽狀護罩軸向兩端部與光軸固定連接，所述槽狀護罩外周套有滑塊護罩，所述滑塊護罩底部與滑塊底部固定連接。本實用新型通過設置滑塊護罩及槽狀護罩可大大減少加工時石粉、灰塵或切割飛濺的硬物損壞光軸和滑塊以及在雕刻石材時的用水引起光軸和滑塊內鋼珠遇水生鏽等問題，從而提高雕刻機的使用壽命，保存產品加工精度，減少維修成本，提高工作效率。
【專利說明】數控雕刻機光軸防水保護結構
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種數控雕刻機光軸防水保護結構。
【背景技術】
[0002]導軌是數控雕刻機比較重要的組成部分，就好比火車在軌道上行駛一樣，軌道的方向和平行度決定著火車能否安全行駛，導軌的性能決定了設備的運行精度和運行穩定性。如圖1所示，現有數控雕刻機導軌一般有光軸與滑塊構成，但光軸與滑塊外部沒有護罩，因此加工時石粉、灰塵、切割飛濺的硬物將損壞光軸和滑塊，尤其在雕刻石材時需要用水，光軸和滑塊內鋼珠遇水會生鏽，從而降低雕刻機的使用壽命，降低產品的精度，增大維修成本，誤工誤時。

【發明內容】

[0003]本實用新型針對上述雕刻機光軸未設置保護結構而容易損壞生鏽等問題，提供一種數控雕刻機光軸防水保護結構。
[0004]本實用新型的具體實施方案是:一種數控雕刻機光軸防水保護結構，包括光軸以及套設於光軸上可沿光軸往復運動的滑塊，所述滑塊與光軸外周上罩設有一槽狀護罩，所述槽狀護罩開口向下，所述槽狀護罩軸向兩端部與光軸固定連接，所述槽狀護罩外周套有滑塊護罩，所述滑塊護罩底部與滑塊底部固定連接。
[0005]進一步的，所述槽狀護罩開口處高於滑塊底部。
[0006]進一步的，所述滑塊護罩為中空矩形狀，所述滑塊護罩為中空矩形狀，所述滑塊護罩軸向長度與滑塊相同，所述滑塊護罩橫截面大於槽狀護罩橫截面。
[0007]進一步的，所述槽狀護罩與滑塊護罩為鋼材，厚度為2?15mm。
[0008]對比現有的雕刻機光軸及滑塊結構，本發明通過設置滑塊護罩及槽狀護罩可有效地防止加工時石粉、灰塵或切割飛濺的硬物損壞光軸和滑塊以及切割時加入的水或冷卻液易使光軸和滑塊內鋼珠遇水會生鏽等問題，提高雕刻機的使用壽命，保證產品的加工精度，減少維修成本，提高工作效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1為傳統光軸及滑塊結構示意圖。
[0010]圖2為本實用新型結構帶有滑塊護罩示意圖。
[0011]圖3為本實用新型結構帶有滑塊護罩及槽狀護罩的示意圖。
[0012]圖中:1-光軸，2-滑塊，3-滑塊護罩，4-槽狀護罩。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型做進一步詳細的說明。
[0014]如圖2?3所示，一種數控雕刻機光軸防水保護結構，包括光軸I以及套設於光軸上可沿光軸往復運動的滑塊2，所述滑塊與光軸外周上罩設有一槽狀護罩4，所述槽狀護罩4開口向下，所述槽狀護罩4軸向與光軸I固定連接，所述槽狀護罩4外周套有滑塊護罩3，所述滑塊護罩3底部與滑塊2底部固定連接。
[0015]進一步的，所述槽狀護罩4開口處高於滑塊2底部。
[0016]進一步的，所述滑塊護罩3為中空矩形狀，所述滑塊護罩3軸向長度與滑塊2相同，所述滑塊護罩橫截面大於槽狀護罩橫截面。
[0017]安裝時，首先將滑塊護罩3底部內壁與滑塊2底部外表面固定連接，滑塊護罩3內壁與滑塊2外表面的上部及左右兩邊留有空間，所留空間要足夠槽狀護罩4穿過，且不與滑塊及滑塊護罩相接觸(及槽狀護罩4外表面不於滑塊護罩3相接觸，槽狀護罩4內表面不與滑塊2相接觸)，這樣當滑塊2移動時，與滑塊固定連接的滑塊護罩3 —起運動，而介於滑塊2與滑塊護罩3之間的槽狀護罩4既不會影響滑塊2的移動，也能夠起到對光軸I的保護作用。採用該結構便於裝卸同時也使滑塊2部分具有雙層的護罩保護，效果更好。所述槽狀護罩4與滑塊護罩3可以為鋼材、鑄鐵或其他具有防水及具有較高的承載能力與抗衝擊能力的複合材質，槽狀護罩4與滑塊護罩3厚度可為2?15mm，在槽狀護罩4與滑塊護罩3外表面還可以塗覆防水漆，以提高防護罩的防水性能，延長使用壽命。
[0018]對比現有的雕刻機光軸及滑塊結構，本發明通過設置滑塊護罩及槽狀護罩可有效地防止加工時石粉、灰塵或切割飛濺的硬物損壞光軸和滑塊以及雕刻切割時加入的水或冷卻液易使光軸和滑塊內鋼珠生鏽等問題，具有防水、防塵、抗衝擊等功能，可大大提高雕刻機的使用壽命，保證產品的加工精度，減少維修成本，提高工作效率。
[0019]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，凡依本實用新型申請專利範圍所做的均等變化與修飾，皆應屬本實用新型的涵蓋範圍。
【權利要求】
1.一種數控雕刻機光軸防水保護結構，包括光軸以及套設於光軸上可沿光軸往復運動的滑塊，其特徵在於，所述滑塊與光軸外周上罩設有一槽狀護罩，所述槽狀護罩開口向下，所述槽狀護罩軸向兩端部與光軸固定連接，所述槽狀護罩外周套有滑塊護罩，所述滑塊護罩底部與滑塊底部固定連接。
2.根據權利要求1所述的一種數控雕刻機光軸防水保護結構，其特徵在於，所述槽狀護罩開口處高於滑塊底部。
3.根據權利要求1所述的一種數控雕刻機光軸防水保護結構，其特徵在於，所述滑塊護罩為中空矩形狀，所述滑塊護罩軸向長度與滑塊相同，所述滑塊護罩橫截面大於槽狀護罩橫截面。
4.根據權利要求1所述的一種數控雕刻機光軸防水保護結構，其特徵在於，所述槽狀護罩與滑塊護罩為鋼材，厚度為2?15mm。
【文檔編號】B44B1/06GK203496532SQ201320558829
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2013年9月10日 優先權日:2013年9月10日
【發明者】陳元培 申請人:陳元培