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流體超平膜機的製作方法

2023-07-27 18:14:06

專利名稱:流體超平膜機的製作方法
技術領域:
本實用新型涉及一種流體超平膜機。
背景技術:
目前市場上用的淋釉機是鐘罩淋釉型,其淋釉為弧形斷面。鐘罩 淋釉不均勻,主要是淋釉的弧形斷面對瓷磚的四個角施釉不均勻,導 致磚的釉面層厚薄不均勻,達不到理想的效果。實用新型內容本實用新型的目的在於克服現有技術存在的缺點,提供一種流體 超平膜機。為達到上述目的,本實用新型採取了如下技術方案 流體超平膜機,包括錐形加釉鬥,篩網巻筒,施釉箱,機架及自動衝洗裝置。錐形加釉鬥安裝在施釉箱前上方位置,施釉箱安裝在機架上,篩網巻筒和自動衝洗裝置安裝在施釉箱內部。上述技術方案中,泵至錐形加釉鬥內的釉是通過溢流的方式流到施釉箱。上述技術方案中,所述的篩網巻筒可為圓筒或圓柱筒。 上述技術方案中,施釉箱的由不鏽鋼板衝壓成的底板和半園輥筒 及輥棒組成兩個波谷和兩個波峰,所述的施釉箱內的底板可為曲面底板或平面底板。上述技術方案中,施釉箱內設有兩個篩網巻筒,使釉流動均勻和 消除氣泡。上述技術方案中,在半園輥筒的水平面一側加工有一平直刀口; 平直刀口可為各種角度,但其較為優選的角度是45度。上述技術方案中,半圓輥筒及輥棒可為空心或實心;釉流過施釉 箱內兩個波谷和波峰,最後通過輥筒的刀口呈直線均勻平穩地溢流到 磚面上。上述技術方案中,在施釉箱內裝有自動衝洗裝置。 以下對上述零部件的功能及特徵進行具體描述1. 錐形加釉鬥外形尺寸4>250*700腿高(下半部分為錐形), 其作用是將泵上來的釉溢留到施釉箱內,多餘的釉回流到釉桶內。2. 篩網巻筒外形尺寸4>80*1000mm,其作用是使釉流動均勻 和消除氣泡。3. 施釉箱外形尺寸(長)1000* (寬),1000* (高)400mm, 由側板,曲線底板和半圓輥筒組成。曲線底板由不鏽鋼板衝壓而成; 半園輥筒(H55 (半園)*1000腿,輥筒的水平面一側加工有一道45 度的直線刀口。曲線底板和半園輥筒組成兩個波谷和波峰。4. 機架外形尺寸(長)1300* (寬)1172* (高)1170iran,由 40*80方管焊成,四腳可調節高低。5. 自動衝洗裝置施釉箱內設有兩根cJ)25W000mm的噴水管, 每根管上裝有9個高壓噴水嘴。清洗時噴水管可往復擺動。與現有技術相比,本實用新型具有如下有益效果本實用新型徹底解決了施釉不均勻的問題,淋釉的均勻性和穩定 性得到很好的控制,無波紋、滴漏、氣泡等現象,由於是直線施釉, 產品的邊緣部分和其它部分厚薄一致,解決了鐘罩淋釉邊緣部分較厚 的問題,操作簡單,且配置有自動控制裝置,在國內屬首創,填補了 我國陶瓷行業的一項空白。


圖1為本實用新型的結構示意圖; 圖2為圖1的右視圖; 圖3為圖1的俯視圖; 圖4為的半園輥筒結構示意圖;圖5為本實用新型的原理示意圖。
具體實施方式
以下結合說明書附圖來對本實用新型作進一步的描述,但本實用 新型所要求保護的範圍並不局限於實施方式所描述之範圍。圖1為本實用新型的結構示意圖;圖2為圖1的右視圖;圖3為 圖l的俯視圖;圖4為半園輥筒的結構示意圖;圖5為本實用新型的 原理示意圖。如圖1 3所示流體超平膜機,包括錐形漏鬥l,篩網巻筒2,施釉箱3,機架4, 及自動衝洗系統5。錐形漏鬥位於施釉箱的前上方,由獨立的立柱支 承;篩網巻筒及衝洗水管位於施釉箱內,由施釉箱的側板支承;衝洗 水管由齒條齒輪帶動可往復擺動。機架用於支承施釉箱。本實用新型裝置的工藝流程如下釉被泵到錐形加釉鬥,然後溢流到施釉箱的前部。再向前流過 由不鏽鋼板壓成的曲線底板和半圓輥棒組成的的兩個波谷和兩個波 峰後,最後經半園輥筒的45度直線刀口均勻平穩地溢流到磚面上。輥 筒及其刀口嚴格按照制定的科學工藝流程加工,尺寸精確,形狀穩定, 表面光亮如鏡,,為均勻施釉提供有力的保證。與現有技術相比,本實用新型具有如下有益效果-本實用新型徹底解決了施釉不均勻的問題,淋釉的穩定性得到很 好的控制,無波紋、波狀、滴漏、氣泡等現象,由於是直線施釉,產 品的邊緣部分和其它部分厚薄一致,解決了鐘罩淋釉邊緣部分較厚的 問題,操作簡單方便,且有自動操作裝置,在國內屬首創,填補了我 國陶瓷行業的一項空白。
權利要求1.流體超平膜機,其特徵在於包括錐形加釉鬥,篩網捲筒,施釉箱,機架及自動衝洗裝置;錐形加釉鬥安裝在施釉箱前上方位置,施釉箱安裝在機架上,篩網捲筒及自動清洗裝置安裝在施釉箱內部。
2. 根據權利要求1所述的流體超平膜機,其特徵在於在施釉 箱內前後位置設置有兩個不鏽鋼篩網巻成的篩網巻筒。
3. 根據權利要求2所述的流體超平膜機,其特徵在於所述的 篩網巻筒可為圓筒或圓柱筒。
4. 根據權利要求1所述的流體超平膜機,其特徵在於在施釉 箱內還設有底板和半圓輥筒及輥棒;底板和半圓輥筒及輥棒組成兩個 波谷和兩個波峰。
5. 根據權利要求4所述的流體超平膜機,其特徵在於施釉箱 內的底板可為曲面底板或平面底板。
6. 根據權利要求4所述的流體超平膜機,其特徵在於所述的半圓輥筒及輥棒可為空心或實心。
7. 根據權利要求4所述的流體超平膜機,其特徵在於在半園輥筒的一側開有一的平直刀口 。
8. 根據權利要求7所述的流體超平膜機,其特徵在於上述平直刀口的角度是45度。
專利摘要本實用新型公開了一種流體超平膜機。本實用新型由錐形加釉鬥,施釉箱,篩網捲筒或篩網,機架及自動衝洗裝置等組成。本實用新型徹底解決了用現行的鐘罩淋釉方法存在的不均勻的問題,淋釉的均勻性和穩定性得到很好的控制,無波紋、滴漏、氣泡等現象。由於是直線施釉,產品的邊緣部分和其它部分厚薄一致,解決了鐘罩淋釉邊緣部分較厚的問題,操作簡單方便,配置有自動控制裝置,在國內屬首創,填補了我國陶瓷行業的一項空白。
文檔編號C04B41/86GK201092563SQ20072005658
公開日2008年7月30日 申請日期2007年9月5日 優先權日2007年9月5日
發明者燈 何 申請人:燈 何

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