一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃的製作方法

2023-07-29 22:09:21 4

本發明涉及一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃。

背景技術：

低輻射玻璃又稱Low-E玻璃，是通過磁控真空濺射的方法，在優質浮法玻璃表面均勻地鍍上特殊的金屬膜系。低輻射玻璃從性能上主要分為單銀Low-E、雙銀Low-E和三銀Low-E，分別是在優質浮法玻璃表面鍍上氮化矽、氧化鋅、氧化錫等介質薄膜和銀等功能薄膜，從而達到所需要的光學性能和視覺顏色效果。

雙銀Low-E玻璃主要在玻璃表面上利用磁控濺射法沉積多層膜材,在多層膜層材料中沉積兩層以上的純銀基材而成的高性能玻璃製品。雙銀Low-E具有高可見光透射率、極高的遠紅外線反射率，該種覆蓋雙銀層的雙銀Low-E低輻射鍍膜玻璃可將98％以上的遠紅外熱輻射反射回去，可使玻璃的輻射率E值由0.84以上降低到0.15以下，其遮陽係數SC可根據工程需要在0.2～0.7之間變動。根據試驗模擬對比，在冬季在線低輻射鍍膜玻璃要比雙銀Low-E玻璃增加約40％的熱量損失；相對夏天在線低輻射鍍膜玻璃比雙銀Low-E鍍膜玻璃增加20％的熱量透過。

現有雙銀低輻射玻璃產品，其玻璃基體上的鍍設的膜層結構通常為氮化矽(氧化錫)/氧化鋅/銀/鎳鉻/氮化矽(氧化錫)/氧化鋅/銀/鎳鉻/氮化矽。為降低城市光汙染，降低玻璃產品的反射率，通常會選擇減少銀或者鎳鉻厚度，但是在降低反射率的同時，透過率增高、遮陽係數增大，選擇係數降低，無法滿足部分幕牆對玻璃產品的性能要求。

技術實現要素：

本發明的目的是提供一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃，從而使得玻璃產品兼具低反射率與低透過率性能。

為達到上述目的，本發明採用的技術方案是：一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃，包括玻璃基體和鍍設在所述玻璃基體上的複合膜層，所述複合膜層由第一介質層、第一吸收阻擋層、第二介質層、第一功能層、第二功能層、第二吸收阻擋層、第三介質層、第三功能層、第三吸收阻擋層、第四介質層自所述玻璃基體的表面向外依次層疊而成，其中，所述的第一功能層、第三功能層分別為Ag層，所述第二功能層為Cu層，所述第一介質層的厚度為0～30nm；第一吸收阻擋層的厚度為1～5nm；第二介質層的厚度為10～50nm；第一功能層的厚度為1～10nm；第二功能層的厚度為1～10nm；第二吸收阻擋層的厚度為1～10nm；第三介質層的厚度為40～100nm；第三功能層的厚度為5～15nm；第三吸收阻擋層的厚度為1～10nm；第四介質層的厚度為20～100nm。

優選地，所述第二功能層的厚度為5～8nm。

進一步地，所述第一功能層的厚度為3～6nm，第三功能層的厚度為11～13nm。

優選地，所述第一介質層、第二介質層、第三介質層、第四介質層為氧化鋅層或氮化矽層。

進一步地，所述第一介質層、第二介質層、第三介質層均為氧化鋅層，所述第四介質層為氮化矽層。

進一步地，所述第四介質層為氮化矽層，且其厚度為35～45nm。

優選地，所述第一吸收阻擋層、第二吸收阻擋層及第三吸收阻擋層均為鎳鉻層。

進一步地，所述第二吸收阻擋層與第三吸收阻擋層均為1～2nm。

作為一種優選的實施方式，所述複合膜層由自所述玻璃基體的表面向外依次層疊的氧化鋅層/鎳鉻層/氧化鋅層/銀層/銅層/鎳鉻層/氧化鋅層/銀層/鎳鉻層/氮化矽層組成，該複合膜層中各膜層的厚度分別為15.5nm/3.3nm/38.5nm/3.1nm/5.1nm/1.8nm/78.9nm/11.2nm/1.2nm/42.2nm。

作為另一種優選的實施方式，所述複合膜層由自所述玻璃基體的表面向外依次層疊的鎳鉻層/氧化鋅層/銀層/銅層/鎳鉻層/氧化鋅層/銀層/鎳鉻層/氮化矽層組成，該複合膜層中各膜層的厚度分別為2.6nm/41.7nm/5.1nm/7.1nm/1.0nm/80.6nm/12.2nm/1.8nm/39.2nm。

由於上述技術方案的運用，本發明與現有技術相比具有下列優點：本發明的一種低透過率低反射率的雙銀低輻射玻璃，其中通過在玻璃基體上鍍設新型結構的複合膜層而獲得新型的玻璃產品，該玻璃產品的反射率基本上能夠達到8％以下，而透過率在45％以下的超低反低透效果。這相比現有技術而言，其在進一步降低反射率的同時，還大幅地降低了透過率，使得玻璃產品的綜合性能得到了整體提升，以滿足幕牆玻璃的使用性能需求。

附圖說明

附圖1為本發明的雙銀低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體的實施例來對本發明的技術方案作進一步的闡述。

參見圖1所示，本發明的雙銀低輻射玻璃，其包括玻璃基體100和鍍設在玻璃基體100上的複合膜層200，該複合膜層200由第一介質層1、第一吸收阻擋層2、第二介質層3、第一功能層4、第二功能層5、第二吸收阻擋層6、第三介質層7、第三功能層8、第三吸收阻擋層9、第四介質層10自所述玻璃基體100的表面向外依次層疊而成。加工時，複合膜層200上的各膜層則是按照先後順序依次通過磁控濺射的方式鍍設在玻璃基體100上的。

該複合膜層200中，第一功能層4與第三功能層8採用的均為Ag層，而第二功能層5採用的為Cu層。第一功能層4的厚度為1～10nm，優選厚度範圍為3～6nm；第二功能層5的厚度為1～10nm，優選厚度範圍為5～8nm；第三功能層5的厚度為5～15nm；優選厚度範圍為11～13nm。

該複合膜層200中，第一介質層1、第二介質層3、第三介質層7、第四介質層10可以為氧化鋅層，也可以為氮化矽層。優選地，第一介質層1、第二介質層3、第三介質層7均採用氧化鋅層，而第四介質層10採用具有保護作用的氮化矽層。第一介質層1的厚度範圍選用0～30nm；第二介質層3的厚度範圍選用10～50nm；第三介質層7的厚度範圍選用40～100nm；第四介質層10的厚度範圍選用20～100nm，該第四介質層10的厚度範圍優選35～45nm。

該複合膜層200中，第一吸收阻擋層2、第二吸收阻擋層6及第三吸收阻擋層9均為鎳鉻層。第一吸收阻擋層2的厚度範圍選用1～5nm；第二吸收阻擋層6的厚度範圍選用1～10nm；第三吸收阻擋層9的厚度範圍選用1～10nm；其中，第二吸收阻擋層6與第三吸收阻擋層9的優選厚度範圍均為1～2nm。

以下給出本發明優選的實施例予以說明：

實施例1

參見表1所示為該實施例的雙銀低輻射玻璃上複合膜層200的具體結構及各膜層的厚度值：

表1

註：表1中的x為正數。

將上述的膜層按照相應厚度依次鍍設至玻璃基體100上，得到雙銀低輻射玻璃產品，經測量，該玻璃產品的反射率為7.27，透過率為41。

實施例2

參見表1所示為該實施例的雙銀低輻射玻璃上複合膜層200的具體結構及各膜層的厚度值：

表2

註：表1中的x為正數。

將上述的膜層按照相應厚度依次鍍設至玻璃基體100上，得到雙銀低輻射玻璃產品，經測量，該玻璃產品的反射率為7.89，透過率為40.5。

而現有技術中的玻璃產品，為實現低反射率的效果，透過率無法做低，其最好的也只能達到反射率11、透過率71的結果。

無疑，採用本發明技術方案獲得的玻璃產品，相比現有技術在進一步降低反射率的同時，還大幅地降低了透過率。該玻璃產品的反射率基本上能夠達到8％以下，而透過率在45％以下的超低反低透效果。

上述實施例只為說明本發明的技術構思及特點，其目的在於讓熟悉此項技術的人士能夠了解本發明的內容並據以實施，並不能以此限制本發明的保護範圍。凡根據本發明精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。