透明吸音面板的製作方法

2023-12-02 09:51:56 2

本申請根據35U.S.C.§119要求2014年03月20日提交的美國臨時申請系列第61/968135號的優先權，本文以該申請的內容為基礎並通過參考將其完整地結合於此。

背景

在各種室內或戶外環境中，例如辦公室、接待大廳或生產車間、保健設施和醫院、運動場和遊泳池、教室等，可能需要且依法規定對環境提供聲學條件。聲學條件可通過混響來描述，且常規地使用吸音元件來控制這個，例如連接到牆壁、天花板和其它表面的吸音面板。

作為用於與室內牆壁和天花板連接的表面的吸音面板可使用各種物理效應來吸音。一些常規的吸音面板包括纖維基吸收劑，其包括用於當聲波滲透進入面板時抑制聲音的礦物纖維(石頭和玻璃絨)的多孔面板。這些常規面板通過在面板的孔或結構中的粘性損失，來降低聲波的能量。一些常規吸音面板包括基於Helmholz共振器原理的結構。這種面板通常包括裂縫或孔眼以及在面板後面的纖維織物(含或不含墊子)或多孔纖維材料，從而獲得令人滿意的吸收。

這種常規吸音面板有多種不足。例如，當損壞或磨損時，這種常規面板可能向環境產生纖維。因為這些特徵常常由熔融的玻璃或石頭製成，任何空氣傳播的纖維可能刺激周圍環境中人類的消化道。此外，這些纖維可能限制這種面板的外觀，因為可能難以使它們保持乾淨，因為它們要求在清潔時使用最少的水分，且在外部面板或暴露於水分的位置(例如遊泳池等)時，可出現與黴菌相關的問題。

微觀穿孔面板可避免常規纖維面板的不足；然而,常規微觀穿孔面板和箔通過在面板表面上輥壓具有多個許多小的尖峰的工具來生產。生產微觀穿孔面板的其它方法，例如雷射切割和塑性模塑用於更厚的面板，但因為某些基材材料和某些孔深度和/或分布的原因，尚沒有市場競爭力。

因此，本工業領域需要提供能用於內部和外部環境且沒有常規面板的不足的透明吸音面板。本領域還需要新的吸音面板，其提供可易於製造的清潔的和光滑的表面。

概述

本發明總體涉及用於內部和外部環境且使用玻璃、玻璃陶瓷或其它材料的吸音面板。在一些實施方式中，示例性材料可為光敏性的。因此,在一些實施方式中，光敏性材料可進行掩模和圖案化來形成用於抑制聲波的微觀-穿孔。

在一些實施方式中，提供一種製備吸音面板的方法。所述方法可包含提供第一光敏性材料片材,將具有第一多個特徵的第一掩模施加到第一光敏性材料片材,和將掩模的材料暴露於紫外光。所述方法還包含加熱光敏性材料的第一片材來在第一片材的暴露部分中形成晶體，以及蝕刻晶體來在光敏性材料的第一片材中形成第二多個特徵。

在其它實施方式中，提供吸音面板，其具有光敏性材料的第一片材和彈性表面，所述彈性表面與光敏性材料的第一片材相隔預定距離。光敏性材料的片材包含在其中蝕刻的第一多個特徵，第一多個特徵的尺寸和分布以及預定距離確定為面板吸音特徵的函數。

在其它實施方式中，提供吸音面板，其包括光敏性材料的第一片材和彈性表面，所述彈性表面與光敏性材料的第一片材相隔預定距離。光敏性材料的第一片材可包含不使用機械蝕刻的情況下在其中形成的(即，通過化學蝕刻或不含機械蝕刻的其它方法形成的)多個特徵。

在以下的詳細描述中給出了要求保護的主題內容的其他特徵和優點，其中的部分特徵和優點對本領域的技術人員而言，根據所作描述就容易看出，或者通過實施包括以下詳細描述、權利要求書以及附圖在內的本文所述的要求保護的主題而被認識。

應理解，前面的一般性描述和以下的詳細描述介紹了各種實施方式，用來提供理解要求保護的主題的性質和特性的總體評述或框架。包括的附圖提供了對本發明的進一步的理解，附圖被結合在本說明書中並構成說明書的一部分。附圖以圖示形式說明了本文所述的各種實施方式，並與說明書一起用來解釋要求保護的主題的原理、操作和變體。

附圖簡要說明

提供這些附圖只是為了說明性目的，應理解本文所述的和所討論的實施方式不限於所示的設置和手段。

圖1是根據一些實施方式的方法的方框圖。

圖2A和2B顯示根據一些實施方式的示例性微觀穿孔面板結構和等效電路。

圖3A顯示根據一些實施方式的孔和蝕刻變化。

圖3B顯示根據一些實施方式的非限制性掩模設計。

圖4A和4B是根據一些實施方式的微觀穿孔樣品的光學照片。

圖5的一系列圖表顯示一些實施方式的吸音。

圖6是一些實施方式、常規玻璃和1英寸泡沫之間測量的吸音的圖表。

圖7A和7B的圖表比較了兩實施方式的實驗測量與理論模型。

圖8的圖表比較了其它實施方式的吸音測量隨穿孔比例的變化。

圖9的圖表比較了其它實施方式的吸音測量隨腔體深度的變化。

雖然為了說明和理解本發明可包括細節，但這些細節不應構成對範圍的限制，相反只是作為可包含進入特定實施方式和/或說明特定實施方式的特徵。

具體描述

參考附圖描述了透明吸音面板的各種實施方式，其中相同的元件具有相同的附圖標記以便於理解本發明。

在下面的描述中，在圖中所示的多個視圖中，類似的附圖標記表示類似或對於的部分。還應理解，除非另外指出，否則術語如「頂部」，「底部」，「向外」，「向內」等是常用詞語，不構成對術語的限制。此外，描述一個組為包含元素的組和它們的組合中的至少一個時，該組可包含許多所列元素，或單獨的或相互的組合，或者由它們組成，或者主要由它們組成。

類似的，每當將一個組描述為由一組要素中的至少一個要素或它們的組合組成時，所述組可以單個要素或相互組合的形式由任何數量的這些所列要素組成。除非另外說明，否則，列舉的數值範圍同時包括所述範圍的上限和下限。除非另外說明，否則，本文所用的不定冠詞「一個」和「一種」及其相應的定冠詞「該」表示至少一(個/種)，或者一(個/種)或多(個/種)。

本領域的技術人員將會認識到，可以對所描述的實施方式做出許多改變，而還能獲得本發明的有益的結果。還顯而易見的是，本發明所需的有益結果中的一部分可以通過選擇本發明所述的一些特徵而不利用其他的特徵來獲得。因此，本領域技術人員會認識到，許多更改和修改都是可能的，在某些情況下甚至是希望的，並且是本發明的一部分。因此，提供以下描述作為對本發明原理的說明，不構成對本發明的限制。

本領域普通技術人員將理解，在不偏離本發明的精神和範圍的情況下，可對本文所述的示例性實施方式進行許多修改。因此，該說明書無意於也不應構造成受限於所給出的實施例，但應賦予通過所附權利要求及其等同體所提供的全部的保護範圍。此外，還可使用本發明的一些特徵，而相應地不使用其它特徵。因此，提供示例或示意實施方式的上述說明，來顯示本發明的主題內容的原理，而不構成其限制，且可包括對本發明的修改和置換。

本發明的實施方式總體涉及使用光敏性材料的吸音面板。示例性面板可為包含光敏性玻璃或玻璃-陶瓷(其它材料等)，且在製造過程中可進行掩模，暴露於紫外(UV)輻射,進行圖案化來形成吸音特徵，其可包括微觀穿孔、特徵或孔，其用於抑制聲音波前(sound wavefront)。應理解在本發明中，術語吸音特徵、穿孔、特徵、孔、通道及其複數形式互換使用；這種使用不應限制本文所附權利要求的範圍。示例性、非限制性光敏性材料可包含具有含有焦矽酸鋁Li2Si2O5的主要晶相的玻璃材料或玻璃陶瓷材料。圖1是根據一些實施方式的方法的方框圖。參考圖1,在步驟10中，基礎光敏性玻璃或玻璃-陶瓷可熔融和澆鑄成整體件產品，例如玻璃或玻璃-陶瓷片材或薄膜。在一些例子中,基礎光敏性玻璃和玻璃-陶瓷材料可衍生自SiO2-Li2O系統。在一些實施方式中,基礎光敏性玻璃或玻璃-陶瓷材料可以具有特定厚度(例如,約20微米-約2毫米)的薄膜或片材的形式來製備。在其它實施方式中,片材或膜可通過各種方法來強化,包含化學強化(例如,通過離子交換方法),熱強化(例如,通過回火或退化)或以其它方式強化，從而為示例性面板或結構提供額外的強度、耐刮擦性或其它合適的特徵。在一些實施方式中,基礎光敏性玻璃或玻璃-陶瓷材料可包含Ce3+-和Ag+-離子。示例性組合物包含約75-85重量％SiO2,約2-6重量％Al2O3,約7-11重量％Li2O,約3-6重量％K2O,約0.5-2.5重量％Na2O,約0.01-0.5重量％Ag,約0.01-0.5重量％Sb2O3,約0.01-0.04重量％CeO2,約0-0.01重量％Au,和約0-0.01重量％SnO2。在一種實施方式中,組合物可包含約79.6重量％SiO2,約4.0重量％Al2O3,約9.3重量％Li2O,約4.1重量％K2O,約1.6重量％Na2O,約0.11重量％Ag,約0.4重量％Sb2O3,約0.014重量％CeO2,約0.001重量％Au,和約0.003重量％SnO2。當然，這些光敏性組合物只是示例性的，且不應限制本文所附權利要求的範圍，因為可利用其它光敏性玻璃和玻璃陶瓷組合物。

在步驟12中，可使用掩模，將薄片材或產品暴露於UV光。在暴露於UV光的過程中，光電子可導致示例性組合物中的Ce3+氧化成Ce4+，結果，使用下述關係式可將Ag+還原成Ag0：Ce3++h·ν(312nm)→Ce4++e-；Ag++e-→Ag0。這種金屬膠體(例如,金屬銀)可為用於偏矽酸鋰Li2SiO3相的成核劑。結果，這個晶體相可通過在高溫例如約600℃下的受控的結晶來沉澱。因此,在一些實施方式中,在步驟14中，UV暴露的產品可進行熱處理，且偏矽酸鋰晶體Li2SiO3後續地從其沉澱。Li2SiO3可隨後在步驟16中進行蝕刻。在一些實施方式中,偏矽酸鋰晶體可用稀氫氟酸(HF)或另一合適的蝕刻劑進行蝕刻。其它蝕刻劑包括但不限於氫氧化鉀、異丙醇、EDP(乙二胺鄰苯二酚)、氫氧化四甲基銨、磷酸、醋酸、硝酸、鹽酸、過氧化氫、檸檬酸、硫酸、氟化銨、硝酸鈰銨、水及其組合。當然,在示例性實施方式中所用蝕刻劑類型可由待蝕刻的下面的基材或材料來決定。這樣，可容易地將限定的結構或圖案蝕刻進入包含吸音特徵的最終產品。在其它實施方式中,可在步驟18中再次進行UV暴露和熱處理，由此形成約40重量％主要晶相焦矽酸鋁以及α-石英，且總晶體含量是約60％。通過這種示例性UV和掩模技術以及後續的蝕刻步驟(s),根據本發明的實施方式可製備更小的和更複雜的吸音特徵(例如,穿孔,孔,通道等),例如,在約20-50微米的量級。

在其它實施方式中,吸音特徵可具有20微米,40微米,60微米,100微米,0.1毫米,0.3毫米0.5毫米,1.0毫米,1.5毫米,2.0毫米等的深度和/或直徑,且可穿孔穿過板的整體厚度。在其它實施方式中,板中的孔或特徵可具有不同深度或直徑，即，板中的每一孔或特徵可具有與相鄰孔或特徵不同或基本上相同的深度。圖3A顯示根據一些實施方式的孔和蝕刻變化。參考圖3A,根據一些實施方式的孔或特徵可具有不同直徑，穿過孔或特徵32,34的深度，可在穿孔面板33之前終止,可在圖案35中在相鄰的孔之間變化,可傾斜穿過孔或特徵36的深度,可為錐形形狀(或其它幾何形貌)37,或可為收縮管(throat)38形式。這種小的複雜的特徵難以使用機械或雷射加工工藝來生產，特別是對於需要用於大面積覆蓋的高穿孔比例的大量生產目的而言。

示例性實施方式因此可提供更小的孔或穿孔尺寸，以通過降低獲得高吸音所需的腔體深度來實現更薄的總體吸音結構。這個優勢可在內部和外部設計中節省空間。例如,示例性消音面板可使用粘性空氣流動的摩擦來抑制聲波。這種面板可包含微觀穿孔,例如穿過面板(或其部分)的孔，其中孔具有小於0.5毫米的直徑。常規微觀穿孔面板(MPP)箱(包含密封的腔體)可寬至100毫米；然而,使用通過本發明的實施方式實現的更小的穿孔特徵(例如，在約20-50微米的量級)，所需面板和後表面之間的腔體深度可顯著地降低到約10-20毫米，由此在建築和其它應用中減少消音所需的空間。此外，這種示例性面板不取決於纖維材料。這種吸音面板的應用包括但不限於汽車發動機的聲音隔離、建築、內部或外部空間中的吸音元件等。

圖2A是根據一些實施方式的示例性微觀穿孔面板(MPP)結構和等效電路。參考圖2A,示例性微觀穿孔的結構20包含面板21，其具有厚度(t)和各具有直徑(d)和在那之間的間隔(b)的微觀穿孔或孔22。孔22可設置在距後表面23一距離或腔體深度(D)處，且穿孔的面板21朝向聲音來源P。示例性結構20和/或面板21可由例如但不限於下述的材料形成：片材金屬、塑料、膠合板、丙烯酸材料、玻璃、玻璃陶瓷等。示例性MPP結構20的吸音性質可通過其參數和空氣性質來測定。例如,MPP的阻抗，即z＝r-iωm,通過下述公式來給出:

式中

且d,p,t分別表示MPP的孔直徑,穿孔比例和厚度(例如,收縮管長度),h表示粘度係數,r表示空氣密度,c表示聲速,和ω表示聲音的角頻率，其中ω＝2pf。

有些實施方式可包含單一MPP和剛性支撐的壁或基材且在那之間具有空氣腔體(腔體深度為D)，如圖2A(左邊和中間)所示，其隨後可通過等效電路(圖2A右邊)來進行建模。因此，通過孔和腔體可形成一系列Helmholtz共振器。其它實施方式可包含第二(或額外的)面板25以提供具有剛性支撐壁的雙葉MPP吸音器，以拓寬吸收範圍。在一非限制性實施方式中,可形成兩個共振器，如圖2B(左邊)所示，其等效電路如圖2B(右邊)所示。

已發現孔隙率或穿孔比例σ可使用下述關係式與孔直徑(d)和間隔(b)有關：

已知常規玻璃和玻璃陶瓷材料的吸音係數(α)接近零。這可導致過長的混響時間(RT)，如果在房間、大廳等的平坦的或彎曲的表面使用過多的玻璃，將導致損失語言清晰度和聲音不舒服。使用使吸音α與RT60相關的Sabine公式，反射直接聲音以衰減60dB所需的時間可使用下述關係式來確定：

其中V表示房間或空間的體積，αi和Si分別表示表面的吸音係數和表面積。

通過利用本文所述的本發明的實施方式,示例性玻璃、玻璃陶瓷或其它材料表面可製成高度吸音設備。因此，示例性MPP(具有厚度(t),具有直徑(d)的孔,腔體深度(D)和它們之間的間隔(b)，參見例如圖2A-2B)結構的吸音(α)可使用公式(1)-(3)和下述關係式進行建模和描述:

雖然圖2A-2B顯示對稱的圓筒孔22圖案，但本文所述的權利要求不應這樣限制，因為孔或特徵的形狀、尺寸、分布、數目、構造等可為掩模設計和/或各MPP結構應用的函數。圖3B提供示例性、非限制性掩模設計30a,30b,30c,30d，其中可設計微觀孔的不同尺寸、形狀、分布，以滿足用戶的功能和/或美學要求。參考圖3B,掩模設計可包含各自具有基本上相似直徑和通過行和列對稱地排布的圓筒孔30a,各自具有基本上相似直徑和通過行和偏移列排布的圓筒孔30b,各自具有相似尺寸和通過行和偏移列排布的星形孔30c，具有不相似尺寸且不對稱排布的放射形式30d等。當然,這些掩模設計和後續的孔或特徵排布只是示例性的，且不應限制本文所附權利要求的範圍，因為孔的尺寸、形狀和分布可功能地或美學地適用於用戶的聲音和/或美學要求。因此,表面中微觀-特徵的任何任意形狀或者不同形狀的組合以及這種特徵的任意分布都是可能的，且進行了設想。通過UV暴露工藝，然後進行示例性化學蝕刻過程，在圖3A和3B中所示的這種複雜特徵可方便地轉移到光敏性玻璃、玻璃陶瓷或其它材料板，如上所述。

圖4A和4B是根據一些實施方式的微觀穿孔樣品的光學照片。參考圖4A,顯示的盤狀微觀穿孔樣品40具有通過行和列對稱排布地多組42圓筒孔或特徵。圖4B是圖4A中所示成組的特徵44的微觀視圖。所用的材料是光敏性材料，其具有包含下述的組成：約75-85重量％SiO2,約2-6重量％Al2O3,約7-11重量％Li2O,約3-6重量％K2O,約0.5-2.5重量％Na2O,約0.01-0.5重量％Ag,約0.01-0.5重量％Sb2O3,約0.01-0.04重量％CeO2,約0-0.01重量％Au,和約0-0.01重量％SnO2。微觀穿孔樣品40包含具有約100微米直徑的通孔44以及約200微米的相鄰孔之間的間隔。

然後，使用用於吸音測量的聲學阻抗管來測試圖4A和4B中所示的MPP結構。圖5的一系列圖表顯示一些實施方式的吸音。參考圖5,使用圖4A和4B所示的MPP結構，測量了用於5毫米,45毫米,105毫米和145毫米腔體深度(D)的實驗結果，並進行圖形化顯示。如所容易觀察到，與玻璃片材52相比，每一實施方式為吸音提供可察覺的改善。

圖6是一些實施方式、常規玻璃和1英寸泡沫之間測量的吸音的圖表。參考圖6,測量了具有135微米相鄰孔之間距離d、約0.66毫米板厚度t和5毫米腔體深度D的示例性MPP結構62的吸音，測量了具有135微米的相鄰孔之間距離d、約0.66毫米板厚度t和25毫米腔體深度D的示例性MPP結構64的吸音，且與1英寸泡沫芯66和常規玻璃68片材的吸音進行比較。觀察到常規玻璃具有非常低的吸收，但兩示例性MPP結構提供可與泡沫芯比擬的寬頻吸收。

圖7A和7B的圖表比較了兩實施方式的實驗測量與理論模型。參考圖7A,分別將具有10毫米腔體深度D、約1.3毫米板厚度t的吸音示例性MPP結構72以及具有35毫米腔體深度D和約1.3毫米板厚度t的示例性MPP結構74與相同結構73,75的模型預測的吸音進行比較。可觀察到兩種不同MPP結構的測量的和模型預測的吸音一致。參考圖7B,分別將具有25毫米腔體深度D、約0.66毫米板厚度t的吸音示例性MPP結構76以及具有5毫米腔體深度D和約0.66毫米板厚度t的示例性MPP結構78與相同結構77,79的模型預測的吸音進行比較。可同樣地觀察到兩種不同MPP結構的測量的和模型預測的吸音一致。

圖8的圖表比較了其它實施方式的吸音測量隨穿孔比例的變化。參考圖8,測量0.25％穿孔比例82,0.5％穿孔比例84,1％穿孔比例86,2.5％穿孔比例87,和5％穿孔比例88時，具有0.25毫米孔直徑和2毫米固定腔體深度D的示例性MPP結構的吸音。如圖8所示，可顯著觀察到將穿孔比例從0.25％增加到5％對MPP結構吸音的影響。

圖9的圖表比較了其它實施方式的吸音測量隨腔體深度的變化。參考圖9,測量腔體深度D為2毫米92,腔體深度D為4毫米94,腔體深度D為6毫米96,腔體深度D為8毫米97,和腔體深度D為10毫米98時，具有50微米孔直徑和10％固定穿孔比例的示例性MPP結構的吸音。如圖9所示,可顯著觀察到對於固定直徑50微米孔而言將腔體深度從2毫米增加到10毫米的影響。因此,由此斷定，基於多變量(d,b或σ,t,D)設計方法，本文所述的實施方式可優化地設計用於所需應用，例如吸音要求相對於光學透明度和/或孔圖案的視覺影響。

因此，有些實施方式可用於耗散聲能或將聲能轉換成熱量。在這些實施方式中，聲波傳播進入示例性面板，因為面板靠近後表面，且因為運動中的空氣和MPP表面之間的摩擦，結構內側的振蕩的空氣分子失去它們的聲能。其它實施方式還可通過孔幾何形貌和分布以及在面板後面的空氣間隙(腔體深度)來進行調節，如上所述。因此，通過改變幾何參數和材料參數，可調節一些實施方式的聲音性能來滿足各種應用中的多種規格。

因此，示例性實施方式可提供純淨、光滑和堅硬玻璃表面，其在建築和室內設計中是高度所需的，且可為吸音的。實施方式可為對照明是透明的、耐久的、耐刮擦的和防汙的，且可為有美學吸引力的，同時具有較低吸音-在已知其固有的接近零的吸音和較大的過量混響時間(RT)材料(例如玻璃)中非同尋常的特徵。因為這種較大的RT，常規玻璃在封閉空間例如教室、辦公室、會議室、病房和電梯轎廂中的應用受到限制；但是，如本文所述的示例性實施方式可用於平衡聲音並提供建築師、設計者和居住者等所要求的美學吸引力。

雖然實施方式描述為包括光敏性材料，但本文所附權利要求不應受限於此，因為設想了可將透明、基本上透明、不透明和/或著色丙烯酸類、玻璃陶瓷和聚合物用作示例性面板並適用於所述的方法。此外，雖然有些實施方式描述為具有平坦的面板形狀和特定的分布(例如，成某些圖案的孔)，但本文所附權利要求不應受限於此，因為取決於所用的掩模的類型，實施方式可為平坦的或彎曲的(例如三維的)且可具有裂縫、脊、通道或其它圖案(對稱的或不對稱的)。因此，實施方式可無需目前在製造吸音器中所使用的機械或雷射鑽孔工藝，且可三維地進行成形以滿足任何各種設計和應用需求。

本文所述的實施方式還可使用光敏性基材材料，且可有形成為具有掩模設計，其具有可在微觀穿孔面板結構產生所要求的或所需的吸音的微觀-特徵或圖案。由光敏性玻璃、玻璃陶瓷或其它材料製成的示例性實施方式還可使用印刷技術以添加其它設計吸引力來進一步裝飾。通過熱處理和材料組合物設計，不同的面板天然顏色也是可能的。

在一些實施方式中，提供一種製備吸音面板的方法。所述方法可包含提供光敏性材料的第一片材,將具有第一多個特徵的第一掩模施加到光敏性材料的第一片材,和將掩模的材料暴露於紫外光。在一些實施方式中,提供光敏性材料的第一片材的步驟可包含下述步驟：熔融玻璃和將熔融的玻璃澆鑄成薄片材。所述方法還包含加熱光敏性材料的第一片材來在第一片材的暴露部分中形成晶體，以及蝕刻晶體來在光敏性材料的第一片材中形成第二多個特徵。在其它實施方式中，這種方法可包含對光敏性材料的第二片材重複這些步驟。在其它實施方式中,可提供與光敏性材料的第一片材或第二片材隔開且形狀基本上相同的彈性表面，其中光敏性材料的第一片材和第二片材在彈性表面和環境之間。在一些實施方式中,第二多個特徵基本上類似於第一多個特徵。在另一種實施方式中,所述方法包含將具有第三多個特徵的第二掩模施加到蝕刻的光敏性材料的第一片材,將掩模的材料暴露於紫外光,加熱光敏性材料的第一片材來在第一片材的暴露部分中形成晶體,和蝕刻晶體來在光敏性材料的第一片材中形成第四多個特徵。在一些實施方式中,第四多個特徵基本上類似於第一多個特徵。本文所述的片材材料可為平坦的或三維的。在一些實施方式中,所述方法可包含在施加掩模的步驟之前或者在蝕刻晶體的步驟之後，彎曲光敏性材料的第一片材。示例性光敏性材料可為但不限於玻璃或玻璃陶瓷材料。在一些實施方式中,光敏性材料的第一片材可包含約75-85重量％SiO2,約2-6重量％Al2O3,約7-11重量％Li2O,約3-6重量％K2O,約0.5-2.5重量％Na2O,約0.01-0.5重量％Ag,約0.01-0.5重量％Sb2O3,約0.01-0.04重量％CeO2,約0-0.01重量％Au,和約0-0.01重量％SnO2。在其它實施方式中,所述方法可包含對光敏性材料的第一片材進行染色、著色或裝飾。如有需要，還可強化光敏性材料的片材。片材中提供的特徵可具有最高達約20微米,最高達約40微米,最高達約60微米,最高達約100微米,最高達約0.1毫米,最高達約0.3毫米,最高達約0.5毫米,最高達約1.0毫米,最高達約1.5毫米,或最高達約2.0毫米的直徑或深度。

在其它實施方式中，提供吸音面板，其具有光敏性材料的第一片材和彈性表面，所述彈性表面與光敏性材料的第一片材相隔預定距離。光敏性材料的片材包含在其中蝕刻的第一多個特徵，第一多個特徵的尺寸和分布以及預定距離確定為面板吸音特徵的函數。在一些實施方式中,蝕刻特徵可通過下述來形成：將其中具有多個特徵的掩模施加到光敏性材料的第一片材,將掩模的材料暴露於紫外光,加熱材料玻璃來在暴露的玻璃中形成晶體,和蝕刻晶體來在材料的第一片材中形成多個特徵。在其它實施方式中,材料的第一片材是三維的。示例性光敏性材料可為但不限於玻璃或玻璃陶瓷材料。在一些實施方式中,光敏性材料的第一片材可包含約75-85重量％SiO2,約2-6重量％Al2O3,約7-11重量％Li2O,約3-6重量％K2O,約0.5-2.5重量％Na2O,約0.01-0.5重量％Ag,約0.01-0.5重量％Sb2O3,約0.01-0.04重量％CeO2,約0-0.01重量％Au,和約0-0.01重量％SnO2。片材的示例性厚度可為但不限於最高達約20微米,最高達約40微米,最高達約60微米,最高達約100微米,最高達約0.1毫米,最高達約0.3毫米,最高達約0.5毫米,最高達約1.0毫米,最高達約1.5毫米,或最高達約2.0毫米。光敏性材料可為半透明的、透明的、染色的、著色的或裝飾的，且還可為強化的。片材中提供的特徵可具有最高達約20微米,最高達約40微米,最高達約60微米,最高達約100微米,最高達約0.1毫米,最高達約0.3毫米,最高達約0.5毫米,最高達約1.0毫米,最高達約1.5毫米,或最高達約2.0毫米的直徑或深度。在另一種實施方式中,面板包含光敏性材料的第二片材，其具有在其中蝕刻的第二多個特徵,第二片材在第一片材和彈性表面中間。

在其它實施方式中，提供吸音面板，其包括光敏性材料的第一片材和彈性表面，所述彈性表面與光敏性材料的第一片材相隔預定距離。光敏性材料的第一片材可包含在不使用機械蝕刻的情況下在其中形成的多個特徵。在一些實施方式中,蝕刻特徵可通過下述來形成：將其中具有多個特徵的掩模施加到光敏性材料的第一片材,將掩模的材料暴露於紫外光,加熱材料玻璃來在暴露的玻璃中形成晶體,和蝕刻晶體來在材料的第一片材中形成多個特徵。在其它實施方式中,材料的第一片材是三維的。示例性光敏性材料可為但不限於玻璃或玻璃陶瓷材料。在一些實施方式中,光敏性材料的第一片材可包含約75-85重量％SiO2,約2-6重量％Al2O3,約7-11重量％Li2O,約3-6重量％K2O,約0.5-2.5重量％Na2O,約0.01-0.5重量％Ag,約0.01-0.5重量％Sb2O3,約0.01-0.04重量％CeO2,約0-0.01重量％Au,和約0-0.01重量％SnO2。片材的示例性厚度可為但不限於最高達約20微米,最高達約40微米,最高達約60微米,最高達約100微米,最高達約0.1毫米,最高達約0.3毫米,最高達約0.5毫米,最高達約1.0毫米,最高達約1.5毫米,或最高達約2.0毫米。光敏性材料可為半透明的、透明的、染色的、著色的或裝飾的，且還可為強化的，或者具體來說，化學強化的或熱強化的。片材中提供的特徵可具有最高達約20微米,最高達約40微米,最高達約60微米,最高達約100微米,最高達約0.1毫米,最高達約0.3毫米,最高達約0.5毫米,最高達約1.0毫米,最高達約1.5毫米,或最高達約2.0毫米的直徑或深度。在另一種實施方式中,面板包含光敏性材料的第二片材，其具有在其中蝕刻的第二多個特徵,第二片材在第一片材和彈性表面中間。

雖然本說明書可包括許多細節，但這些細節不應構成其範圍的限制，相反這些特徵的描述可對於特定實施方式而所特有的。在本說明書的單獨的實施方式中描述的某些特徵也可以組合起來在單個實施方式中實現。反之，在單一實施方式的內容中描述的各種特徵也可以在多個實施方式中獨立地或者以任何適當次級組合的形式實現。而且，雖然上述特徵被描述成以某些組合的形式起作用，而且甚至最初也是這樣要求權利的，但所要求權利的組合中的一種或多種特徵在一些情況下可以從該組合中去除，所要求權利的組合可以針對次級組合或者次級組合的變化。

類似地，雖然在附圖中以特定的順序顯示操作，但這不應理解為要求這些操作按照所示的特定順序或按照先後順序來實施，或者實施所有所示的操作來獲得所需的結果。在一些實施方式中，多任務和平行的加工可為優選的。

如通過圖1-9中所述的各種構造和實施方式所示，描述了透明吸音面板的各種實施方式。

雖然已描述了本發明的優選的實施方式，但應理解所述的實施方式只是說明性的，本發明的範圍僅僅由所附權利要求來限定，當給予全範圍的等同體時，本領域普通技術人員自然地可進行許多修改和變化。