一種區熔單晶爐的支撐機構的製作方法
2023-11-06 03:13:47 1
專利名稱：一種區熔單晶爐的支撐機構的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及設備支撐機構領域，特別涉及一種區熔單晶爐的支撐機構。
背景技術：
區熔矽單晶由於其生產工藝特點，相對雜質含量低，成為製造功率器件的優選材料。隨著現代電子技術的發展，小直徑的矽單晶已經無法滿足需要，而要生產大直徑的矽單晶，區熔爐設備爐體各結構都根據需求變大變重，而且根據拉制大直徑單晶矽的工藝需求，熔區穩定性要求變高，熔區與地面的減震也成了難以解決的問題。原來的區熔單晶爐多是爐體直接固定在爐體支架上，靠地基中的隔離帶來減少外界震動對拉晶的影響，但是隨著拉制單晶矽直徑的逐漸增大，這種結構已無法滿足拉制大直徑單晶矽的工藝需求。
實用新型內容本實用新型的目的是解決區熔單晶爐的爐體支撐穩定性和對爐體減震的問題。為此，本實用新型提出了一種區熔單晶爐的支撐機構。
本實用新型提供的技術方案為一種區熔單晶爐的支撐機構，包括一對支撐構件，所述一對支撐構件分別設置於區熔單晶爐的兩側，且均與所述區熔單晶爐上部的側壁固定連接；機架，其設置於所述一對支撐構件的下方，支撐所述一對支撐構件，所述機架的下部具有四個支腿結構，且所述每個支腿結構均設置有減震器。優選的是，所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述機架設置於所述區熔單晶爐支架的上方，所述機架設置有一容納所述區熔單晶爐的空間，其以以下方式設置所述機架的支腿結構位於所述區熔單晶爐支架的上方。優選的是，所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述支撐構件與所述區熔單晶爐上部的側壁之間為面接觸。優選的是，所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述支撐構件通過以下方式與所述區熔單晶爐上部的側壁固定連接，所述支撐構件與所述區熔單晶爐的表面接觸的部位沿縱向設置兩列螺栓，每一列螺栓還包括有多個螺栓，所述兩列螺栓固定連接所述支撐構件與所述區熔單晶爐上部的側壁。優選的是，所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述機架包括有四個橫梁和四個支腿結構，其中每兩個支腿結構位於所述同側橫梁的下方，支撐所述橫梁。優選的是，所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述支撐構件呈規則的立體構型。優選的是，所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述各支撐構件設置於所述與其對應的橫梁的一端，所述一對支撐構件之間形成容納所述區熔單晶爐爐體的空間。優選的是，所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述減震器採用鋼件加特殊橡膠材料製成。[0015]本實用新型所述的區熔單晶爐的支撐機構中，爐體的上爐室用兩列高強度螺栓固定在一對支撐構件上，且所述支撐構件與所述區熔單晶爐上部的側壁之間為面接觸，有效接觸面積大，增強了爐體的穩定性，減少了外界震動對熔區的影響。整個支撐機構靠四個減震器連接在爐體支架的上方，有利於保持設備穩定，減少在拉晶過程中的晶體熔區抖動，提聞了單晶成晶率。
圖1為本實用新型所述的區熔單晶爐的支撐機構的剖面示意圖；圖2為本實用新型所述的區熔單晶爐的支撐機構的安裝使用示意圖。
具體實施方式
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要的附圖作簡單的介紹。本實用新型提供了一種區熔單晶爐的支撐機構，包括一對支撐構件1，所述一對支撐構件分別設置於區熔單晶爐6的兩側，且均與所述區熔單晶爐上部的側壁固定連接；機架3，其設置於所述一對支撐構件的下方，支撐所述一對支撐構件，所述機架的下部具有四個支腿結構，且所述每個支腿結構均設置有減震器4。所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述機架設置於所述區熔單晶爐支架7的上方，所述機架設置有一容納所述區熔單晶爐的空間，其以以下方式設置所述機架的支腿結構位於所述區熔單晶爐支架的上方。所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述支撐構件與所述區熔單晶爐上部的側壁之間為面接觸。所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述支撐構件通過以下方式與所述區熔單晶爐上部的側壁固定連接，所述支撐構件與所述區熔單晶爐的表面接觸的部位沿縱向設置兩列螺栓2，每一列螺栓還包括有多個螺栓，所述兩列螺栓固定連接所述支撐構件與所述區熔單晶爐的側壁的上部。所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述機架包括有四個橫梁和四個支腿結構，其中每兩個支腿結構位於所述同側橫梁的下方，支撐所述橫梁。所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述支撐構件呈規則的立體構型。所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述各支撐構件設置於所述與其對應的橫梁的一端，所述一對支撐構件之間形成容納所述區熔單晶爐爐體的空間。所述的區熔單晶爐的支撐機構中，所述減震器採用鋼件加特殊橡膠材料製成。本實用新型所述的區熔單晶爐的上爐室用兩列高強度螺栓2固定在所述的一對支撐構件I上，支撐構件可設計為直角三角形、直角梯形或長方形等至少一個角為直角的規則立體構型，本實施例中優選為直角三角形，其他各部分依次連接上爐室。所述支撐構件通過螺釘5安裝在機架3上，機架下面安裝有減震器4，構成整個爐體支撐機構。所述支撐機構安裝在爐體支架7上。所述四個減震器因採用特殊材料加工製作，可以承受整個爐體6的重量且具有較好的減震效果，所述減震器也可以根據實際需要設置為多個，當外界環境發生震動時，減震器可以起到緩衝甚至消除作用，有利於保持設備在拉晶過程中的穩定，增加了單晶的成晶率。 儘管本實用新型的實施方案已公開如上，但其並不僅僅限於說明書和實施方式中所列運用，它完全可以被適用於各種適合本實用新型的領域，對於熟悉本領域的人員而言，可容易地實現另外的修改，因此在不背離權利要求及等同範圍所限定的一般概念下，本實用新型並不限於特定的細節和這裡示出與描述的圖例。
權利要求1.一種區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，包括一對支撐構件，所述一對支撐構件分別設置於區熔單晶爐的兩側，且均與所述區熔單晶爐上部的側壁固定連接；機架，其設置於所述一對支撐構件的下方，支撐所述一對支撐構件，所述機架的下部具有四個支腿結構，且所述每個支腿結構均設置有減震器。
2.如權利要求1所述的區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，所述機架設置於所述區熔單晶爐支架的上方，所述機架設置有一容納所述區熔單晶爐的空間，其以以下方式設置 所述機架的支腿結構位於所述區熔單晶爐支架的上方。
3.如權利要求1所述的區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，所述支撐構件與所述區熔單晶爐上部的側壁之間為面接觸。
4.如權利要求3所述的區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，所述支撐構件通過以下方式與所述區熔單晶爐上部的側壁固定連接，所述支撐構件與所述區熔單晶爐的表面接觸的部位沿縱向設置兩列螺栓，每一列螺栓還包括有多個螺栓，所述兩列螺栓固定連接所述支撐構件與所述區熔單晶爐上部的側壁。
5.如權利要求2所述的區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，所述機架包括有四個橫梁和四個支腿結構，其中每兩個支腿結構位於所述同側橫梁的下方，支撐所述橫梁。
6.如權利要求3或4所述的區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，所述支撐構件呈規則的立體構型。
7.如權利要求5所述的區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，所述各支撐構件設置於所述與其對應的橫梁的一端，所述一對支撐構件之間形成容納所述區熔單晶爐爐體的空間。
8.如權利要求1所述的區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，所述減震器採用鋼件加特殊橡膠材料製成。
專利摘要本實用新型涉及設備支撐機構，特別涉及一種區熔單晶爐的支撐機構，其特徵在於，包括一對支撐構件，所述一對支撐構件分別設置於區熔單晶爐的兩側，且均與所述區熔單晶爐上部的側壁固定連接；機架，其設置於所述一對支撐構件的下方，支撐所述一對支撐構件，所述機架的下部具有四個支腿結構，且所述每個支腿結構均設置有減震器。本實用新型承受整個爐體設備的重量，安全，可靠，減震效果好，有效地減少了外界震動對熔區的影響，減少了拉晶過程中的晶體抖動，增加了單晶的成晶率。
文檔編號C30B13/00GK202881436SQ20122050378
公開日2013年4月17日 申請日期2012年9月28日 優先權日2012年9月28日
發明者袁靜, 李巖, 張繼宏 申請人:北京京運通科技股份有限公司