一種有機發光微型顯示器抗反射層清洗劑及清洗工藝的製作方法
2023-12-06 16:42:26 2
專利名稱：一種有機發光微型顯示器抗反射層清洗劑及清洗工藝的製作方法
技術領域：
本發明涉及有機發光領域，尤其是有機發光顯示器製造過程中的剝離清洗工藝及其光刻返工工藝中使用的清洗劑。
背景技術：
在有機發光顯示器的製造過程中，需要採用有抗反射層的雙層膠光刻(一層光刻膠，一層抗反射層)工藝來保證陽極剝離工藝的圖形質量。但是光刻膠下層的抗反射層很難在保證陽極不被破壞的情況下被通用溶劑所溶解，使得在剝離清洗工藝後，抗反射層仍殘留在陽極像素中而導致諸多缺陷的產生，而使用其他溶劑會造成二次汙染以及對金屬陽極表面的腐蝕，影響最終的發光效果和成品率。同樣由於該抗反射層光膠的存在造成了光刻工藝在返工過程中面臨諸多的困難。所以需要研究在不損傷金屬電極及IC電路的前提下達到完全清除抗反射層的效果。
發明內容
本發明的目的是針對有機發光顯示器抗反射層不便於清洗給像素點剝離工藝及光刻返工工藝帶來的困難，找到一種適用的清洗劑及與之配套的工藝。本發明公開了一種有機發光微型顯示器抗反射層清洗劑，其特徵在於用N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機胺類溶液按照體積比為15:4:Γ15:4:4混合而成。本發明還公開了使用這種清洗劑的清洗工藝，其特徵在於包括如下步驟:
(1)將N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機胺類溶液按照體積比為15:4:Γ15:4:4混合，配製成抗反射層清洗液，將陽極剝離後的有機發光顯示器IC片或待返工片放入抗反射層清洗液中，在溫度15 25°C下浸泡3-15分鐘，讓抗反射層溶解；
(2)清洗殘留的混合溶劑
i)將經過步驟(I)的陽極剝離後的有機發光顯示器IC片或待返工片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、N-甲基吡咯烷酮以及有機胺；
ii)依次使用異丙醇、純水及兆聲清洗有機發光顯示器IC片或待返工片。由於清除抗反射層必須使用鹼性溶劑破壞其交聯結構中的羧基(-C00H)，而通用的鹼性溶劑中普遍含有氫氧根離子(0H_)以及羥基(-0H)，這兩種離子會與金屬像素點中的鋁發生反應，從而降低像素點的電性能，導致顯示效果變差。針對這個矛盾，本發明採用的新型清洗劑中含有的有機胺中主要含有胺基(-NH2),胺基可以破壞抗反射層光膠中的羧基，使該光膠的交聯結構逐步瓦解，達到清洗抗反射層的目的。同時，由於胺基不與金屬像素點中的鋁反應，可以達到保護金屬像素點的效果。既對金屬像素點無腐蝕性又能完全去除抗反射層的配比溶劑進行清洗，具有清洗完全、無腐蝕、無殘留的優點，尤其適用於有機發光顯示器的陽極抗反射層清洗。
具體實施方式
實施例1、
(I)用一乙醇胺配比溶液清洗抗反射層
i)將N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與乙醇胺溶液按照體積比15:4:1比例混合，配置成抗反射層清洗液；
ii)將陽極剝離後的有機發光顯示器IC片放入抗反射層清洗液中，在、2(T25°C下浸泡8分鐘，將抗反射層溶解。( 2)清洗殘留的混合溶劑
i)將經過步驟(I)的有機發光顯示器IC片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、NMP以及乙醇胺；
ii)依次使用異丙醇、純水及兆聲清洗有機發光顯示器IC片。實施例2、· (1)用二乙醇胺配比溶液清洗抗反射層:
i)將N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與乙醇胺溶液按照15:4:2比例混合，配置成抗反射層清洗液；
ii)將光刻返工片放入抗反射層清洗液中，在一定2(T25°C下浸泡5 10分鐘，將抗反射層溶解；
(2)清洗殘留的混合溶劑:
i)將經過步驟(I)的光刻返工片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、NMP以及乙醇胺。ii)使用異丙醇、純水及兆聲清洗光刻返工片。本發明專門針對有機發光顯示器像素點剝離清洗工藝和光刻返工工藝中的抗反射層清洗提出了一種新型的抗反射層清洗方法，可提高有機發光顯示器生產中剝離工藝的良品率和返工片回收率，在工藝及批量生產中有較大的應用價值。
權利要求
1.一種有機發光微型顯示器抗反射層清洗劑，其特徵在於用N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機胺類溶液按照體積比為15:4:Γ15:4:4混合而成。
2.用權利要求1所述的有機發光微型顯示器抗反射層清洗劑進行清洗的工藝，其特徵在於包括如下步驟: (1)將N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機胺類溶液按照體積比為15:4:Γ15:4:4混合，配製成抗反射層清洗液，將陽極剝離後的有機發光顯示器IC片或待返工片放入抗反射層清洗液中，在溫度15 25°C下浸泡3-15分鐘，讓抗反射層溶解； (2)清洗殘留的混合溶劑 i)將經過步驟(I)的陽極剝離後的有機發光顯示器IC片或待返工片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、N-甲基吡咯烷酮以及有機胺； ii)依次 使用異丙醇、純水及兆聲清洗有機發光顯示器IC片或待返工片。
全文摘要
本發明涉及有機發光領域，尤其是有機發光顯示器製造過程中的剝離清洗工藝及其光刻返工工藝中使用的清洗劑。這種清洗劑用N-甲基吡咯烷酮、異丙醇與有機胺類溶液按照體積比為1541~1544混合而成，用這種有機發光微型顯示器抗反射層清洗劑進行清洗的步驟包括製備清洗劑，將陽極剝離後的有機發光顯示器IC片或待返工片放入抗反射層清洗液中，在溫度15~25℃下浸泡3-15分鐘，讓抗反射層溶解；將經過陽極剝離後的有機發光顯示器IC片或待返工片放入異丙醇中浸泡5-20分鐘，去除殘留的光刻膠、N-甲基吡咯烷酮以及有機胺；依次使用異丙醇、純水及兆聲清洗有機發光顯示器IC片或待返工片。具有清洗完全、無腐蝕、無殘留的優點，尤其適用於有機發光顯示器的陽極抗反射層清洗。
文檔編號C11D7/26GK103242985SQ20131011484
公開日2013年8月14日 申請日期2013年4月3日 優先權日2013年4月3日
發明者朱亞安, 楊煒平, 鄭雲, 段瑜, 王金義 申請人:雲南北方奧雷德光電科技股份有限公司