電極箔反應槽的製作方法

2023-12-06 11:45:31 3

電極箔反應槽的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種電極箔反應槽，包括一兩個進液口和三個出液口，所述的進液口設置在所述的反應槽的頂部的後側，所述的出液口設置在所述的反應槽的頂部的前側，所述的反應槽還包括兩個進槽自循環口，所述的兩個進槽自循環口分別設置在所述的進液口的左右兩側。本實用新型所公開的電極箔反應槽的優點是，能夠充分攪拌槽液，使槽液混合均勻，產品質量較高。
【專利說明】電極箔反應槽
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種反應槽，更確切的說是一種電極箔反應槽。
【背景技術】
[0002]鋁箔生產工藝中需要使用電極箔反應槽，但是現有技術中的反應槽不能使喚槽液充分攪拌，混合不均勻，產品質量無法保證。
實用新型內容
[0003]本實用新型主要是解決現有技術所存在的技術問題，從而提供一種能夠充分攪拌槽液，使槽液混合均勻，產品質量較高的電極箔反應槽。
[0004]本實用新型的上述技術問題主要是通過下述技術方案得以解決的:
[0005]一種電極箔反應槽，包括一兩個進液口和三個出液口，所述的進液口設置在所述的反應槽的頂部的後側，所述的出液口設置在所述的反應槽的頂部的前側，所述的反應槽還包括兩個進槽自循環口，所述的兩個進槽自循環口分別設置在所述的進液口的左右兩側。
[0006]作為本實用新型較佳的實施例，所述的反應槽還包括一出槽自循環口，所述的出槽自循環口設置在所述的出液口的左側。
[0007]作為本實用新型較佳的實施例，所述的反應槽還包括一溢流排空口，所述的溢流排空口設置在所述的反應槽頂部的前側。
[0008]因此本實用新型的電極箔反應槽的優點是，能夠充分攪拌槽液，使槽液混合均勻，
產品質量較高。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0010]圖1為本實用新型的電極箔反應槽的俯視圖；
[0011]其中:
[0012]1、進液口 ；2、出液口 ；3、進槽自循環口 ；4、出槽自循環口 ；
[0013]5、溢流排空口。
【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖對本實用新型的優選實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優點和特徵能更易於被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護範圍做出更為清楚明確的界定。[0015]本實用新型提供了一種能夠充分攪拌槽液，使槽液混合均勻，產品質量較高的電極箔反應槽。
[0016]如圖1所示，一種電極箔反應槽，包括一兩個進液口 I和三個出液口 2，該進液口I設置在該反應槽的頂部的後側，該出液口 2設置在該反應槽的頂部的前側，該反應槽還包括兩個進槽自循環口 3，該兩個進槽自循環口 3分別設置在該進液口 I的左右兩側。
[0017]該反應槽還包括一出槽自循環口 4，該出槽自循環口 4設置在該出液口 2的左側。
[0018]該反應槽還包括一溢流排空口 5，該溢流排空口 5設置在該反應槽頂部的前側。
[0019]以上僅僅以一個實施方式來說明本實用新型的設計思路，在系統允許的情況下，本實用新型可以擴展為同時外接更多的功能模塊，從而最大限度擴展其功能。
[0020]以上所述，僅為本實用新型的【具體實施方式】，但本實用新型的保護範圍並不局限於此，任何不經過創造性勞動想到的變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護範圍之內。因此，本實用新型的保護範圍應該以權利要求書所限定的保護範圍為準。
【權利要求】
1.一種電極箔反應槽，包括一兩個進液口(I)和三個出液口(2)，其特徵在於，所述的進液口(I)設置在所述的反應槽的頂部的後側，所述的出液口(2)設置在所述的反應槽的頂部的前側，所述的反應槽還包括兩個進槽自循環口(3)，所述的兩個進槽自循環口(3)分別設置在所述的進液口(I)的左右兩側。
2.根據權利要求1所述的反應槽，其特徵在於，所述的反應槽還包括一出槽自循環口(4)，所述的出槽自循環口(4)設置在所述的出液口(2)的左側。
3.根據權利要求2所述的反應槽，其特徵在於，所述的反應槽還包括一溢流排空口(5)，所述的溢流排空口(5)設置在所述的反應槽頂部的前側。
【文檔編號】C25D1/04GK203462149SQ201320164140
【公開日】2014年3月5日 申請日期:2013年4月4日 優先權日:2012年4月10日
【發明者】季輝 申請人:泰州金陽光電子材料有限公司