一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法與裝置的製作方法

2023-05-09 16:54:46 2

專利名稱：一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法與裝置的製作方法
技術領域：
本發明屬於半導體製造裝備技術領域，主要涉及一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法與裝置。
背景技術：
光刻機是極大規模集成電路製造中重要的超精密裝備之一。縱觀光刻機的發展歷程，光刻機從接觸式光刻機、接近式光刻機、全矽片掃描投影式光刻機、分步重複投影式光刻機發展到目前流行的步進掃描投影式光刻機的發展歷程。光刻機性能的三大指標光刻機解析度、套刻精度、產率一直是人們追求的目標。工件臺系統作為光刻機的核心組成部分， 其主要特點是要實現高速和高加、減速度的超精密運動控制，即在高速和高加速度條件下具備納米定位精度，以配合光刻過程中的上片、預對準、對準、曝光和下片等加工製造工序。 光刻機工件臺技術對於提高光刻機的三大性能至關重要。產率是光刻機發展追求的主要目標之一。為了減少矽片更換時間，矽片直徑已經從150mm、200mm增加到目前的300mm。在不斷提高矽片尺寸的同時，工件臺技術也在不斷發展。為了提高生產效率，最直接的方式是提高工件臺的運動加速度和速度，但這需要增加大量裝置以抑制系統動態性能的惡化，這將大大提高代價以保證原有精度。雙工件臺技術是如今提高光刻機生產效率最有效的技術手段。兩工位並行工作，曝光和測量調整可同時進行，縮短單片工作時間從而提高生產效率。荷蘭ASML公司基於Twir^can技術(即雙工件臺技術)光刻機是目前最具有代表性的光刻機。提高雙工件臺的運行效率是目前光刻機工件臺技術的發展目標之一。影響雙工件臺運行效率的因素之一是雙工件臺的換臺效率。換臺效率直接影響雙工件臺的運行效率以及光刻機的產率。如何在儘可能縮短換臺時間的條件下減小換臺對其它系統的幹擾一直是研究的重點。在傳統雙臺切換過程中，工件臺與曝光和預處理工序中一樣為直線驅動。例如雙工件臺專利US2001/0004105A1和W098/40791中，每個工件臺有兩個可交換配合的單元來實現雙臺的交換，在不提高工件臺運動速度的前提下提高了產率，但由於工件臺與導軌之間也採用耦合連接方式，在換臺過程中工件臺與驅動單元會出現短暫的分離，對工件臺的定位精度產生較大影響。同時運動單元和導軌較長，運動質量較大，對於運動速度和加速度的提高都產生不良影響。專利CN101231471A中，採用H型驅動單元與過渡承接裝置上的摩擦輪對接，以避免導軌對接精度問題，但是工件臺在換臺時需要等待驅動單元與摩擦輪完成對接後才可進行換臺操作，對產率帶來很大影響。專利CN18^427A中，在測量位設置了一個X嚮導軌，曝光工位設置有兩個X嚮導軌，實現兩個工位的並行工作，但由於驅動單元固定在基座上，在工件臺運動時會有較大力傳遞到基座上，對整體帶來不良影響。上述方案中，換臺時都沒有考慮換臺時導向裝置的運動對效率的影響。從換臺節拍上考慮都採用五節拍形式，即在換臺過程中，兩個工件臺需要停留一段時間使得抓卡裝置完成交換，從而完成換臺工作。在對光刻機產率要求越來越高的情況下，抓卡裝置的交換時間也會對產率產生很大的影響。專利CN101201555中，利用傳送帶和對接滑塊完成換臺過程，運動節拍少，操作維護簡單，但傳送帶機構和對接滑塊固定在基臺上，因此在換臺過程中，會有較大的力作用在基臺上，對整體動態性能影響較大。專利CN1485694中，利用Y向直線電機和直線導軌的對接完成換臺操作，但由於基臺中間的間隙過大而引入橋接裝置，使得運動節拍增加，增加了換臺時間，同時X向直線電機磁鋼部分固定在基臺上，換臺時運動部件的運動會對基臺產生較大的反作用力，進而影響整個系統的動態性能。專利 CN101770181中利用置換單元的對接完成換臺工作，但其導向裝置固定在基臺上，在換臺運動中，運動部件會對基臺產生較大的反作用力，進而影響整個系統的動態性能。因此目前的雙臺直線換臺方案有待改進。迴轉換臺方案較直線換臺方案有獨特優勢，因此出現了採用旋轉方式換臺的雙工件臺技術。例如歐洲專利W098/28665採用帶傳動實現工件臺上曝光工位和測量位的兩個工件臺交換位置，簡化了換臺工序，但是帶傳動難以實現納米定位精度。專利CN 101071275A和專利ZL 200920105252. 5採用旋轉整個基臺的方式實現雙工件臺的換位，簡化了系統結構，同時兩個工件臺運動無重疊區域，避免了碰撞安全隱患。但是通過旋轉整個基臺實現工件臺換位存在轉動慣量大，大功率旋轉電機精密定位困難和發熱量大引起系統溫升等問題，同時迴轉半徑大，使光刻機主機結構顯著增大。專利CN 102141739A採用旋轉兩個工件臺的方式實現雙工件臺的換位，換臺過程中基臺不動，具有轉動慣量小的優點。但是，上述四個迴轉換臺方案沒有考慮迴轉換臺方式下工件臺相位反轉與光學系統難以配合的問題。在光刻機曝光和預處理工序中，光學系統需要對工件臺各位置傳感器和對準標記進行檢測，由於各位置傳感器和對準標記分布不均，各對準標記結構原理不一致，工件臺存在朝向問題。當迴轉換臺後，工件臺旋轉180°造成工件臺位置傳感器和對準標記反向，因此目前迴轉換臺方案還有待改進。此外迴轉換臺方式的旋轉特性造成工件臺線纜纏繞以及雷射幹涉儀反射鏡旋轉導致目標丟失等問題還有待解決。

發明內容
本發明針對上述已有技術中存在的不足，提出了一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法與裝置。此裝置採用旋轉工件臺的方式進行雙臺切換，簡化了系統結構， 降低了轉動慣量，縮短了雙臺切換時間，提高了換臺效率和光刻機的產率。同時利用工件臺的自旋，解決了以往迴轉換臺方案所忽視的工件臺反向，工件臺線纜纏繞，迴轉半徑大，轉動慣量大等一系列問題。本發明的目的是這樣實現的一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法，該方法包括如下步驟系統初始狀態為處於曝光工位的第一工件臺曝光完畢，測量位的第二工件臺對準完畢，並規定此時工件臺相位為正，接下來進行雙工件臺換位；第一步，將第二工件臺驅動到第二工件臺旋轉軸與軸接裝置對接的預定位置，對接成功後，利用第二工件臺自旋機構使第二工件臺逆時針(或順時針)旋轉180°，此時第二工件臺為負相位，然後再與X向第二長行程直線運動單元對接；第二步，第一工件臺、第二工件臺沿Y軸同步相向驅動至與迴轉換臺裝置對接的預定位置，並同步可靠對接，然後迴轉換臺裝置攜第一工件臺、第二工件臺繞迴轉軸0-0' 順時針(或逆時針)迴轉180°，此時第二工件臺恢復到正相位，第一工件臺變為負相位；
第三步，第一工件臺、第二工件臺與迴轉換臺裝置分離，驅動第二工件臺至曝光工位進行曝光處理，驅動第一工件臺至第一工件臺旋轉軸與軸接裝置對接的預定位置，對接成功後，利用第一工件臺自旋機構使第一工件臺逆時針(或順時針)旋轉180°，使之變為正相位並進行卸片、上片，之後系統回到初始狀態，完成一個工作周期。接下來為下一輪曝光工序，即重複上面的工序和換臺流程，但旋轉方向與上次相反。一種採用基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法的雙工件臺迴轉交換裝置，在基臺Y方向兩端部位處設置曝光工位和測量位，沿基臺兩側長邊上對應分別設置Y向長行程直線運動單元，在曝光工位和測量位上分別設置χ向第一長行程直線運動單元和χ 向第二長行程直線運動單元，第一工件臺和第二工件臺可分離地分別配裝在X向第一長行程直線運動單元和X向第二長行程直線運動單元上，X向第一長行程直線運動單元和X向第二長行程直線運動單元分別與Y向長行程直線運動單元成H型配置，且可以由Y向長行程直線運動單元驅動，第一工件臺和第二工件臺分別運行於曝光工位和測量位；在曝光工位和測量位之間設置一個迴轉換臺裝置，迴轉換臺裝置的機械結構包括設置於基臺下方的旋轉電機定子、貫穿基臺的旋轉電機動子、嵌入基臺內的軸套以及工件臺轉接裝置；在第一工件臺內部設置第一工件臺自旋機構，其結構包括第一工件臺旋轉軸以及第一工件臺自旋電機；在第二工件臺內部設置第二工件臺自旋機構，其結構包括第二工件臺旋轉軸以及第二工件臺自旋電機；在基臺的測量位處設置可升降的軸接裝置；第一工件臺側面設置第一工件臺轉接裝置，第二工件臺側面設置第二工件臺轉接裝置；第一工件臺和第二工件臺底面為氣浮面，且通過氣浮面將第一工件臺和第二工件臺氣浮在基臺之上；所述的第一工件臺旋轉軸與第一工件臺的橫向接觸面為徑向氣浮面；第二工件臺旋轉軸與第二工件臺的橫向接觸面為徑向氣浮面；軸接裝置分別與第一工件臺旋轉軸或第二工件臺旋轉軸聯結，並將其固定在基臺之上，固定後第一工件臺自旋機構可以使第一工件臺繞第一工件臺旋轉軸自旋，第二工件臺自旋機構可以使第二工件臺繞第二工件臺旋轉軸自旋；在迴轉換臺裝置的工件臺轉接裝置上設有與第一工件臺轉接裝置、第二工件臺轉接裝置對接的接口，對接後迴轉換臺裝置可以帶動第一工件臺和第二工件臺在基臺上做順時針和逆時針旋轉。與現有迴轉換臺方案相比，本發明在具體實施過程中具有轉動慣量小，在相同轉矩條件下所需換臺時間小等優點。提高光刻機的產率的同時，降低轉矩減小基臺對光刻機主框架的幹擾有利於提高系統運動控制精度和穩定性。本發明具有以下創新點和突出優點1)提出一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法。採用該方法換臺僅需三個節拍，即第一節拍是第二工件臺與軸接裝置對接並逆時針(或順時針)自旋180°， 再與X向第二長行程直線運動單元對接；第二節拍是第一工件臺、第二工件臺沿Y軸同步相向驅動至與迴轉換臺裝置對接的預定位置，並同步可靠對接，然後迴轉換臺裝置攜第一工件臺、第二工件臺繞迴轉軸0-0'順時針(或逆時針)迴轉180° ；第三節拍是兩工件臺與迴轉換臺裝置反向分離併到各自工位。該方法可解決現有線性換臺方法節拍過多(五個節拍)的問題，同時也可解決整體轉動平臺方式轉動慣量大，完成時間長的問題，同時換臺前後工件臺相位不變。與現有方法與裝置相比，本方法換臺時間短，可顯著提高換臺效率和光刻機的產片率，這是本發明的創新點和突出優點之一。2)提出一種快速平穩的迴轉驅動控制方法和結構方案。迴轉換臺過程連續平穩，
5轉矩衝擊小，且速度快；同時迴轉轉矩嚴格作用在迴轉換臺裝置精密氣浮軸軸線上，不產生衝擊力，使平衡方向和位置及平衡力準確可控。解決了現有線性換臺方法與方案衝擊力和衝擊轉矩過大，力平衡方向、大小以及力與力矩平衡位置無法準確預測和準確平衡控制的難題；也解決了現有整體迴轉換臺方案質量和慣量過大、所需轉矩大、衝擊轉矩大和所需電機體積大、功能和發熱量大等一系列問題。可實現換臺過程無衝擊力、衝擊轉矩小、換臺速度快且平穩、力矩平衡精確且平衡時間短等多種優點，這是本發明的創新點和突出優點之二。3)提出一種換臺系統對衝力抵消方法和結構方案。在兩工件臺與迴轉換臺裝置對接與分離過程中，使兩工件臺的質心與迴轉換臺裝置迴轉軸心在一條直線上，且該直線與雙工件臺系統基臺氣浮平臺y向幾何中線重合，且過平衡質量框架的質心位置；可使換臺過程中兩工件臺與迴轉換臺裝置線性對接與分離時產生的衝擊力大小相等，方向相反，在平衡質量框架上的作用力合力為零。可解決現有線性換臺方案中線性衝擊力大和平衡質量框架質量與體積龐大及平衡速度慢等問題，可實現換臺過程中無衝擊力，換臺對接和分離速度快，對主機框架和基臺衝擊小等多項優點，這是本發明專利的創新點和突出優點之三。


圖1是本發明的總體結構示意圖；圖2是總體結構示意圖的剖視圖；圖3第一工件臺的剖視圖。圖4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14為工件臺換臺流程示意圖。圖中件號1-基臺；2-曝光工位；3-測量位；4a_第一工件臺；4b_第二工件臺； 5-Y向長行程直線運動單元；5a-Y向U型槽式第一直線電機；恥-Y向U型槽式第二直線電機；5c_Y向第一靜壓氣浮導軌；5d-Y向第二靜壓氣浮導軌；6-X向第一長行程直線運動單元；6a-X向平板第一直線電機定子；6b-X向平板第一直線電機動子；6c-X向第一靜壓氣浮導軌；6d-第一承載梁；7-X向第二長行程直線運動單元；7a-X向平板第二直線電機；7b-X 向平板第二直線電機動子；7c_X向第二靜壓氣浮導軌；7d-第二承載梁；8-迴轉換臺裝置； 8a_旋轉電機定子；8b-旋轉電機動子；8c-軸套；8d-工件臺轉接裝置；9-第一工件臺自旋機構；9a_第一工件臺旋轉軸；9b_第一工件臺自旋電機；10-第二工件臺自旋機構；IOa-第二工件臺旋轉軸；IOb-第二工件臺自旋電機；11-軸接裝置；12a-第一工件臺轉接裝置； 12b-第二工件臺轉接裝置。
具體實施例方式下面結合附圖對本發明實施方式進行詳細說明。一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法，該方法包括如下步驟系統初始狀態為處於曝光工位的第一工件臺曝光完畢，測量位的第二工件臺對準完畢，並規定此時工件臺相位為正，接下來進行雙工件臺換位；第一步，將第二工件臺驅動到第二工件臺旋轉軸與軸接裝置對接的預定位置，對接成功後，利用第二工件臺自旋機構使第二工件臺逆時針(或順時針)旋轉180°，此時第二工件臺為負相位，然後再與X向第二長行程直線運動單元對接；
第二步，第一工件臺、第二工件臺沿Y軸同步相向驅動至與迴轉換臺裝置對接的預定位置，並同步可靠對接，然後迴轉換臺裝置攜第一工件臺、第二工件臺繞迴轉軸0-0' 順時針(或逆時針)迴轉180°，此時第二工件臺恢復到正相位，第一工件臺變為負相位；第三步，第一工件臺、第二工件臺與迴轉換臺裝置分離，驅動第二工件臺至曝光工位進行曝光處理，驅動第一工件臺至第一工件臺旋轉軸與軸接裝置對接的預定位置，對接成功後，利用第一工件臺自旋機構使第一工件臺逆時針(或順時針)旋轉180°，使之變為正相位並進行卸片、上片，之後系統回到初始狀態，完成一個工作周期。接下來為下一輪曝光工序，即重複上面的工序和換臺流程，但旋轉方向與上次相反。一種採用基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法的雙工件臺迴轉交換裝置，在基臺IY方向兩端部位處設置曝光工位2和測量位3，沿基臺1兩側長邊上對應分別設置Y向長行程直線運動單元5，在曝光工位2和測量位3上分別設置X向第一長行程直線運動單元6和X向第二長行程直線運動單元7，第一工件臺如和第二工件臺4b可分離地分別配裝在X向第一長行程直線運動單元6和X向第二長行程直線運動單元7上，X向第一長行程直線運動單元6和X向第二長行程直線運動單元7分別與Y向長行程直線運動單元5 成H型配置，且可以由Y向長行程直線運動單元5驅動，第一工件臺如和第二工件臺4b分別運行於曝光工位2和測量位3 ；在曝光工位2和測量位3之間設置一個迴轉換臺裝置8， 迴轉換臺裝置8的機械結構包括設置於基臺1下方的旋轉電機定子8a、貫穿基臺1的旋轉電機動子8b、嵌入基臺內的軸套8c以及工件臺轉接裝置8d;在第一工件臺如內部設置第一工件臺自旋機構9，其結構包括第一工件臺旋轉軸9a以及第一工件臺自旋電機9b ；在第二工件臺4b內部設置第二工件臺自旋機構10，其結構包括第二工件臺旋轉軸IOa以及第二工件臺自旋電機IOb ；在基臺1的測量位3處設置可升降的軸接裝置11 ；第一工件臺如側面設置第一工件臺轉接裝置12a，第二工件臺4b側面設置第二工件臺轉接裝置12b ；第一工件臺如和第二工件臺4b底面為氣浮面，且通過氣浮面將第一工件臺如和第二工件臺 4b氣浮在基臺1之上；所述的第一工件臺旋轉軸9a與第一工件臺如的橫向接觸面為徑向氣浮面；第二工件臺旋轉軸IOa與第二工件臺4b的橫向接觸面為徑向氣浮面；軸接裝置11 分別與第一工件臺旋轉軸9a或第二工件臺旋轉軸IOa聯結，並將其固定在基臺1之上，固定後第一工件臺自旋機構9可以使第一工件臺如繞第一工件臺旋轉軸9a自旋，第二工件臺自旋機構10可以使第二工件臺4b繞第二工件臺旋轉軸IOa自旋；在迴轉換臺裝置8的工件臺轉接裝置8d上設有與第一工件臺轉接裝置12a、第二工件臺轉接裝置12b對接的接口，對接後迴轉換臺裝置8可以帶動第一工件臺如和第二工件臺4b在基臺上做順時針和逆時針旋轉。本發明的換臺工作流程如下本發明換臺過程中工件臺需在水平方向旋轉180°，而曝光和預處理工序需要工件臺上表面各位置傳感器的配合，因此工件臺存在朝向問題。設定預處理、曝光、上下片工序中工件臺的朝向為正相位，當其在水平面旋轉180°後，朝向為負相位。如圖4所示，初始工作狀態，處於曝光工位2的第一工件臺如預對準完畢，處於測量位3的第二工件臺4b裝載新矽片完畢，此時工件臺的相位為正。接下來，曝光工位2開始進行曝光處理，與此同時處於測量位3的第二工件臺4b開始進行預對準處理。兩工件臺完成本工位所需時間不等， 一般曝光處理時間較長，位於測量位3的第二工件臺4b完成對準工作後處於等待狀態，待
7位於曝光工位2的第一工件臺如完成曝光工作後，進行工件臺交換。工件臺交換使預處理完畢的第二工件臺4b移動到曝光工位2準備曝光，曝光完畢的第一工件臺如移動到測量位3換片。迴轉換臺會改變工件臺各自的相位，為了保證迴轉換臺之後第二工件臺4b仍為正相位，需在迴轉換臺前將其自旋180°。如圖5、6所示，先將第二工件臺4b移動到第二工件臺旋轉軸IOa與軸接裝置11對接的預定位置，對接成功後，利用第二工件臺自旋機構10使第二工件臺4b逆時針旋轉180°。此時第二工件臺4b 為負相位。然後，如圖7、8、9所示，將第一工件臺4a、第二工件臺4b與迴轉換臺裝置8對接。 工件臺轉接裝置8d分別與第一工件臺轉接裝置12a、第二工件臺轉接裝置12b對接。之後令X向第一長行程直線運動單元6和X向第二長行程直線運動單元7退開一定距離，留出迴轉換臺空間。如圖10、11所示，迴轉換臺裝置8帶動第一工件臺如和第二工件臺4b在基臺上做與第二工件臺4b的自旋方向相反的順時針旋轉運動。此時位於曝光工位2的第二工件臺 4b為正相位。位於測量位3的第一工件臺如為負相位，在進行上下片之前還需自旋180°， 調整到正相位。如圖12、13、14所示，第二工件臺4b脫離換臺裝置8之後運動到曝光工位2。第一工件臺如脫離換臺裝置8後運動到第一工件臺旋轉軸9a與軸接裝置11對接的預定位置， 對接成功後，利用第一工件臺自旋機構9使第一工件臺如做與迴轉換臺裝置8旋轉方向相反的逆時針運動，並旋轉180°。此時第一工件臺如的相位為正，可以進行上下片。待完成上下片之後，系統回到如圖4所示的初始狀態，並且第一工件臺如與第二工件臺4b交換位置，處於曝光工位2的第二工件臺4b預對準完畢，處於測量位3的第一工件臺如裝載新矽片完畢，完成一個工作周期。接下來為下一輪曝光工序，即重複上面的工序和換臺流程。
權利要求
1.一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法，其特徵在於該方法步驟是 系統初始狀態為處於曝光工位的第一工件臺曝光完畢，測量位的第二工件臺對準完畢，並規定此時工件臺相位為正，接下來進行雙工件臺換位；第一步，將第二工件臺驅動到第二工件臺旋轉軸與軸接裝置對接的預定位置，對接成功後，利用第二工件臺自旋機構使第二工件臺逆時針或順時針旋轉180°，此時第二工件臺為負相位，然後再與X向第二長行程直線運動單元對接；第二步，第一工件臺、第二工件臺沿Y軸同步相向驅動至與迴轉換臺裝置對接的預定位置，並同步可靠對接，然後迴轉換臺裝置攜第一工件臺、第二工件臺繞迴轉軸0-0'順時針或逆時針迴轉180°，此時第二工件臺恢復到正相位，第一工件臺變為負相位；第三步，第一工件臺、第二工件臺與迴轉換臺裝置分離，驅動第二工件臺至曝光工位進行曝光處理，驅動第一工件臺至第一工件臺旋轉軸與軸接裝置對接的預定位置，對接成功後，利用第一工件臺自旋機構使第一工件臺逆時針或順時針旋轉180°，使之變為正相位並進行卸片、上片，之後系統回到初始狀態，完成一個工作周期。接下來為下一輪曝光工序，即重複上面的工序和換臺流程，但旋轉方向與上次相反。
2.一種如權利要求1所述方法的雙工件臺迴轉交換裝置，在基臺(I)Y方向兩端部位處設置曝光工位( 和測量位(3)，沿基臺(1)兩側長邊上對應分別設置Y向長行程直線運動單元(5)，在曝光工位( 和測量位C3)上分別設置X向第一長行程直線運動單元(6) 和X向第二長行程直線運動單元(7)，第一工件臺Ga)和第二工件臺Gb)可分離地分別配裝在X向第一長行程直線運動單元(6)和X向第二長行程直線運動單元(7)上，X向第一長行程直線運動單元(6)和X向第二長行程直線運動單元(7)分別與Y向長行程直線運動單元( 成H型配置，且可以由Y向長行程直線運動單元( 驅動，第一工件臺Ga)和第二工件臺Gb)分別運行於曝光工位( 和測量位(3)；其特徵在於在曝光工位(2)和測量位(3)之間設置一個迴轉換臺裝置(8)，迴轉換臺裝置(8)的機械結構包括設置於基臺⑴下方的旋轉電機定子(8a)、貫穿基臺⑴的旋轉電機動子(Sb)、嵌入基臺內的軸套 (8c)以及工件臺轉接裝置(8d)；在第一工件臺Ga)內部設置第一工件臺自旋機構(9)，其結構包括第一工件臺旋轉軸(9a)以及第一工件臺自旋電機(9b)；在第二工件臺Gb)內部設置第二工件臺自旋機構(10)，其結構包括第二工件臺旋轉軸(IOa)以及第二工件臺自旋電機(IOb)；在基臺(1)的測量位C3)處設置可升降的軸接裝置(11)；第一工件臺Ga)側面設置第一工件臺轉接裝置(1 )，第二工件臺Gb)側面設置第二工件臺轉接裝置(12b)； 第一工件臺Ga)和第二工件臺Gb)底面為氣浮面，且通過氣浮面將第一工件臺Ga)和第二工件臺Gb)氣浮在基臺(1)之上；所述的第一工件臺旋轉軸(9a)與第一工件臺Ga)的橫向接觸面為徑向氣浮面；第二工件臺旋轉軸(IOa)與第二工件臺Gb)的橫向接觸面為徑向氣浮面；軸接裝置(11)分別與第一工件臺旋轉軸(9a)或第二工件臺旋轉軸(IOa)聯結， 並將其固定在基臺(1)之上，固定後第一工件臺自旋機構(9)可以使第一工件臺Ga)繞第一工件臺旋轉軸(9a)自旋，第二工件臺自旋機構(10)可以使第二工件臺Gb)繞第二工件臺旋轉軸(IOa)自旋；在迴轉換臺裝置(8)的工件臺轉接裝置(8d)上設有與第一工件臺轉接裝置(1 )、第二工件臺轉接裝置(12b)對接的接口，對接後迴轉換臺裝置(8)可以帶動第一工件臺Ga)和第二工件臺Gb)在基臺上做順時針和逆時針旋轉。
全文摘要
一種基於測量位自轉調向的雙工件臺迴轉交換方法與裝置屬於半導體製造裝備技術領域，該裝置包含一個迴轉換臺裝置，其機械結構包括設置於基臺之下的旋轉電機定子、貫穿基臺的旋轉電機動子、嵌入基臺內的軸套以及矽片臺轉接裝置，該迴轉換臺裝置實現光刻機矽片臺位置交換，具有結構簡單、換臺節拍少、轉動慣量小、雙臺切換時間短等優點；該裝置在矽片臺內部設置有矽片臺自旋機構，其結構包括矽片臺旋轉軸以及矽片臺自旋電機，在基臺的測量位設置有可升降的軸接裝置，矽片臺自旋機構和軸接裝置可以實現矽片臺自旋，解決了以往旋轉換臺方案矽片臺相位反轉與光學系統配套難的問題。
文檔編號G03F7/20GK102393608SQ20111037782
公開日2012年3月28日 申請日期2011年11月12日 優先權日2011年11月12日
發明者楊遠源, 王雷, 譚久彬 申請人:哈爾濱工業大學