蝕刻速率控制的製作方法
2023-05-17 00:35:01
專利名稱：蝕刻速率控制的製作方法
技術領域：
本發明涉及光化學蝕刻以在基底上形成空腔。
背景技術：
光化學蝕刻通常包括在已塗覆光刻膠材料層的可蝕刻基底上放置掩模，然後曝光該光刻膠材料。如果使用負性光刻膠，則曝光區域的光刻膠被固化並且耐化學蝕刻劑。用溶劑洗去未曝光的光刻膠區域，使得下面的基底層的一部分未被覆蓋以備蝕刻。如果使用正性光刻膠，則曝光區域不牢固並易於洗去。
當已施用光刻膠掩模時，將化學蝕刻劑施用到基底以在基底上未覆蓋的區域產生空腔。通常的應用，例如用於製造鉤子緊固件的微鉤模，尋求製造具有複雜形狀的非常小的模。美國專利US5900350描述了一種為鉤子緊固件產生微鉤模的方法，並且其全文通過引用在此納入。
發明概述一方面，本發明的特點在於一種在基底(例如，微鉤模板、半導體衝模、光學鏡片板等)上形成空腔的方法，其包括在基底上形成一個具有蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區圖案的光刻膠材料層。將化學蝕刻劑施用到基底上，使得蝕刻劑通過蝕刻劑通過區並底蝕蝕刻劑阻滯區，以在基底上的蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區下面形成單獨連續的空腔。
在某些結構中，在第一模板上形成的光刻膠材料圖案層包括將光刻膠材料施用於基底的至少一面；在光刻膠材料上放置具有遮蔽區的掩模，適於部分阻擋位於遮蔽區之下的光刻膠材料；以及使通過掩模的光曝光光刻膠材料。如果使用負性光刻膠，未曝光區域被除去，以產生具有蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區圖案的光刻膠材料層。如果使用正性光刻膠，曝光區域被除去以產生圖案層。某些結構中的光刻膠的蝕刻劑通過區可以包括由蝕刻劑阻滯區限定的孔，並且蝕刻劑阻滯區可以包括由無光刻膠材料的蝕刻劑通過區包圍的光刻膠材料的離散、限定區域。蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區的圖案可以為一致的以形成深度基本一致的空腔，或者也可以為非一致的以形成具有不同深度的空腔。在某些結構中，當施用蝕刻劑時，可以選擇蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區以形成延伸完全穿過基底的空腔。
在某些結構中，基底可以是適合與一個或多個附加板組裝的模板，以限定用於接觸緊固件的鉤子組件上的鉤子或杆的模。
另一方面，本發明的特點在於一種在基底上形成空腔方法，該方法包括將光刻膠材料施用到基底上；在光刻膠材料上放置具有遮蔽區的掩模，適於部分阻擋位於遮蔽區下面的光刻膠材料曝光；使通過掩模的光曝光光刻膠材料；以及向該板施用化學蝕刻劑使得在基底上對應於掩模遮蔽區的區域內形成單獨的連續空腔。
另一方面，本發明的特點為一種形成片狀產品的方法，該片狀產品具有從寬表面延伸的凸出物陣列，該方法包括通過形成光刻膠材料層來在第一模板上形成空腔，所述光刻膠材料層包括在第一模板至少一面上的蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區的圖案。將化學蝕刻劑施用到該板上，以使蝕刻劑底蝕蝕刻劑阻滯區以在該板上蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區下面的區域內形成單獨的連續空腔。第一模板與一個或多個附加板組裝以形成模具，空腔協同臨近板的表面至少部分地限定從模表面向內延伸的模空腔陣列之一。將樹脂施用到模表面並且迫使一些樹脂進入模空腔以形成從形成於模表面上的樹脂層整體延伸的凸出物陣列。
在某些結構中，第一模板的光刻膠圖案層的形成包括將光刻膠施用到該板的至少一面上；在光刻膠上放置具有遮蔽區的掩模，適合部分阻擋位於遮蔽區下的光刻膠材料；以及使通過掩模的光曝光光刻膠材料。如果使用負性光刻膠，未曝光區域被除去以產生具有光刻膠通過區和光刻膠阻滯區的圖案的光刻膠材料層。如果使用正性光刻膠，曝光區域被除去以產生圖案層。
在某些結構中，光刻膠的蝕刻劑通過區可以包括由蝕刻劑阻滯區限定的孔，並且蝕刻劑阻滯區可以包括由無光刻膠材料的蝕刻劑通過區包圍的光刻膠材料的離散、限定區域。蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區的圖案可以是一致的以形成深度基本一致的空腔，或者也可以是不一致的以形成具有不同深度的空腔。
在某些結構中，在第一模板上形成的空腔是用於接觸緊固件的鉤子組件的鉤子或杆形狀。
另一方面，本發明特點在於一種形成用於製造片狀產品的模(moldform)的方法，該片狀產品具有從其寬表面延伸出的凸出物陣列，該方法包括將光刻膠材料施用到第一模板的至少一面；在光刻膠材料上放置具有遮蔽區的掩模，適於部分地阻擋位於遮蔽區下面的光刻膠材料曝光；以及使通過掩模的光曝光光刻膠材料。將化學蝕刻劑施用到該板上，從而在該板上與掩模遮蔽區對應的區域上形成單獨連續的空腔。第一模板與一個或多個附加模板組裝以形成模，使得空腔協同相鄰板的表面至少部分地限定出從該模表面向內延伸的one or an array of模空腔。
在某些結構中，掩模的遮蔽區包括使用高解析度繪圖機或印表機印刷在非不透明片(例如Mylar膠片)上的光阻滯區和光通過區圖案(例如，由光阻滯區限定的孔或由無掩模材料的光通過區包圍的掩模材料的離散、限定區域)。掩模的遮蔽區可以包括具有一致曝光密度的區域，使得施用到板上的化學蝕刻劑得以在與具有一致曝光密度的掩模遮蔽區對應的區域產生深度大致一致的空腔。遮蔽區域可以包括具有不一致的曝光密度的區域，使得施用到板上的化學蝕刻劑得以在與具有不一致曝光密度的掩模遮蔽區對應的區域產生具有不同深度的空腔。掩模也可以包括第二區，該第二區適於完全阻擋位於第二區之下的光刻膠材料曝光。
在某些結構中，可蝕刻板限定某些截面形狀(例如，圓形、矩形等)的周長並且空腔是被沿著該板的周長蝕刻的。板中形成的空腔可以具有鉤子形狀，例如這樣一種形狀，其包括底部和頂端且橫截面積從空腔的底部到頂端逐漸減少。空腔也可以具有這樣的鉤子形狀，其包括鄰接彎曲部分的底座部分和至少一個從底座部分或彎曲部分凸出的倒鉤。在其他結構中，空腔可以具有杆的形狀。
本發明一個或更多個實施方案的細節在下面的附圖和說明中展現。本發明的其他特點、目的、和優點可以從說明書、附圖和權利要求中體現。
圖1是鉤子模的側視圖。
圖2-3是圖1中鉤子模的剖視圖。
圖4-5是擯觸緊固件的鉤子組件圖。
圖6是製造模製成型的鉤子組件過程的示意圖。
圖7A-7C是製造模製成型的鉤子部件的模製輥的示意圖。
圖8是用於產生鉤子模空腔的掩模的示意圖。
圖9A-9D是說明產生鉤子模空腔過程的系列示意圖。
圖10A-10D為產生具有在基底上深度逐步增加的空腔的過程的系列示意圖。
圖11A-11C用於產生鉤子模空腔的掩模示意圖。
圖12A和13A是用於製造分別示於圖12B和13B的鉤子的掩模的示意圖。
圖12B和13B是使用由分別示於圖12A和13A的掩模製造的模形成的鉤子部件的前視圖。
圖14A-14C是用來產生鉤子模空腔的掩模的示意圖。
圖15A、15C、15E、16A和17A是用來產生分別示於圖15B、15D、15F、16B和17B的鉤子和杆的掩模的示意圖。
圖15B、15D和15F是使用由分別示於圖15A、15C和15E的掩模形成的模成型的鉤子部件的前視圖。
圖16B是如圖16A所示的掩模產生的杆的透視圖。
圖17B是如圖17A所示的掩模產生的杆的頂視圖。
圖18A是用來產生如圖18B-18C所示的杆的掩模的示意圖。
圖18B和18C是由圖18A所示的掩模成型的杆的側視圖和剖面圖。
圖18D是由圖18B-18C所示的杆形成的杆狀鉤子的示意圖。
圖19是用來製造帶有環狀轉向器的鉤子模的空腔的掩模的示意圖。
相同附圖標記在不同附圖中代表相同部件。
發明詳述參考圖1-3，用來形成接觸緊固件的鉤子組件的鉤子的模空腔10限定底座部分12和彎曲部分14並且具有高度H。模空腔10的底座部分12的橫截面在空腔的一個邊緣16的寬度W1逐漸擴展到中心部分18的寬度W2並且在空腔的另一邊緣20逐漸縮小到寬度W1。相似的，模空腔的彎曲部分14的橫截面在空腔的一個邊緣22的寬度W1逐漸擴展到中心部分24的寬度W2並且在空腔的另一邊緣26逐漸縮小到寬度W1。模空腔的增厚部分，例如18、24部分，有利於為由模空腔10形成的鉤子提供強度和彈性。
參考圖4和5，接觸緊固件的鉤子組件30包括片狀底部32和平行的多排整體模製成型的鉤子部件34。模製成型的鉤子部件由類似於如圖1和2所示模空腔形成，並且因此具有範圍從W1到W2逐漸變化的橫截面寬度。防破裂的凸起(未示出)，即已知的在底部上各排整體模製成型的鉤子部件間的間隔中升高的局部區域，依據應用的需要，既可以與鉤子部件對齊也可以偏離鉤子部件。
在一種實施方式中，每直線英寸約有24個鉤子部件(每直線釐米9.44個鉤子部件)。鉤子部件優選以約0.008英寸(0.203毫米)的距離36從側面(即機器橫截面方向)間隔開，並且底部12的最大厚度W2為約0.006英寸(0.152毫米)。這樣得到在機器橫截面方向的密度約為每英寸71個鉤子部件(每直線釐米27.95個部件)。因此，在本實施方式中每平方英寸約為1700個鉤子部件(每平方釐米263.5個部件)。
如圖6所示，製造這種模製成型的鉤子部件的方法需要將熔融樹脂40擠入冷卻的模製輥42和施壓輥44之間形成的輥隙。冷卻模製輥在其外圍具有構造成產生鉤子部件的模空腔10。可以從支持輥48向輥隙供應例如織布或無紡布的支持片材46。此支持片材可以包括適於與鉤子部件接合的環。然後，所得的緊固部件將包括用被稱為原處層壓(in situ laminating)的方法結合到支持片材的鉤子部件。該方法在美國專利US5900350中有詳細描述和闡明。
參考圖7A-7C，模製輥42包括安裝在冷卻的中心桶52上的系列工具環50。這些環在軸向上被壓制在一起以形成柱面。模空腔10沿一對相鄰的工具環的外圍設置，例如沿工具環50a、50b。間隔環54設置於各對相鄰工具環之間以提供需要的各排模空腔間的間距(例如圖5中所示尺寸36)。按照具體應用的需要，為模空腔與任何凸起或工具環上的其它結構提供預定的關係以為底部上的鉤子部件提供需要的關係。雖然在本實施方式中所有的由模板配合對形成的模空腔10都是相同的，但在其他實施方式中可以使用由模板配合對形成的各種模空腔。
模空腔10通過化學蝕刻方法沿工具環的外圍形成。在一種實施方式中，由17-7PH不鏽鋼或其他對化學蝕刻劑敏感的材料形成的工具環被塗覆有負性光刻膠材料層。如圖8所示，在光刻膠上放置掩模然後曝光。光刻膠未曝光的區域(即在掩模被塗黑部分之下的區域)用溶劑除去，例如含水的鹼性溶液，這使得下面的基底未被覆蓋以備蝕刻。然後，工具環被置於機器上並以強酸噴塗，這樣來除去工具環的曝光區域。
參考圖9A-9D，蝕刻深度通過掩模遮蔽區域的曝光密度控制。特別是，當使用負性光刻劑時，與在掩模之下具有較高曝光密度的區域(例如掩模60的遮蔽區域62)相比，在掩模之下具有低曝光密度的區域(例如掩模60被完全塗黑的區域61)將會導致較深的蝕刻。參考圖9A，可蝕刻工具環50被負性光刻膠材料64塗覆，並且在被塗覆的基底上放置圖案掩模60。該掩模限定光阻滯區60b和光通過區60a。光刻膠材料暴露於光65導致曝光區域固化且耐化學蝕刻劑，形成蝕刻劑阻滯區59。光刻膠的未曝光區域(即掩模被塗黑部分之下的區域)被洗掉以形成蝕刻劑通過區63，並且將化學蝕刻劑噴塗到工具環上。在板上的曝光區域間存在相對較大間隙的區域中，例如圖8中所示掩模60中完全被blocked-out的區域61，蝕刻劑蝕刻出深度為1/2W2的相對較深的空腔66。在板上的曝光區域臨近的區域中，例如掩模60的遮蔽區62，蝕刻劑蝕刻出一系列淺空腔67，所述淺空腔完全底蝕固化光刻膠的相鄰區域以在掩模遮蔽區域之下形成深度1/2W1的單獨空腔68a、68b。
類似的，如圖10A-10D所示，使用具有一系列長度遞增的光阻滯區的掩模69，形成深度從深度相對較淺端71a到深度相對較深端71b逐步變化的空腔70。特別是，如圖10A所示，負性光刻膠材料64塗覆可蝕刻基底72，並且將掩模69應用到光刻膠材料64的上部。掩模69上具有光通過區73a-73e之間的距離從圖案的一端到另一端逐步增加的圖案(即，D1＜D2＜D3＜D4)。光刻膠材料暴露於通過掩模的光65，並且除去未曝光的區域(即，掩模光阻滯區之下的範圍)，在基底上留下相似蝕刻劑通過區74a-74d和蝕刻劑阻滯區75a-75e的圖案。然後將化學蝕刻劑施用到製得的基底上，以產生與蝕刻劑阻滯區之間逐步增加的距離相對應的一系列逐步加深的蝕刻。蝕刻劑底蝕蝕刻劑阻滯區75b-75d的內部，從而產生具有深度逐漸變化的連續空腔。
在一種實施方式中，遮蔽掩模，例如圖8中所示的掩模60，通過使用高解析度繪圖機(例如10000dpi)在非不透明材料片材(例如玻璃板或塑料膜，如由公司總部設於Wilmington，DE的E.I.du Pont de Nemours製造的Mylar)上繪製掩模圖案而形成。其它實施方式可以使用其它已知的技術來製造光刻膠掩模，例如直接在基底上印刷具有選定圖案的光刻膠或用高解析度印刷機印刷掩模。如圖11A-11C所示，掩模可以使用各種圖案來控制蝕刻深度，包括點、孔、線、交叉影線(crosshatch)或它們的組合。
在光蝕刻過程中使用遮蔽光刻膠掩模提供了一種用於製造多種形狀和特點的鉤子的經濟合算的技術。例如，如圖12A-12B所示，用具有遮蔽的彎曲部分和被完全blocked-out的底座部分89的掩模86形成具有較寬底座部分82和較窄彎曲部分82的鉤子80。
類似地，如圖13A-13B所示，用在底部98緊密遮蔽且沿掩模長度方向逐漸較少緊密遮蔽的掩模96形成從寬底部92到狹窄的彎曲94逐漸變化的鉤子90。彎曲部相對較薄的圓錐狀鉤子，例如圖13B所示，能有效地抓住環。可是，如果鉤子的彎曲部分太薄，在使用過程中鉤子易於變形和破損。
例如圖14A中所示的掩模100的掩模可以被用於保持圓錐狀頂端102以有效地抓住鉤子，同時具有增厚部分104以增加鉤子彎曲部分的強度和彈性。
因為鉤子的鉤狀部分通常與其底部相比相當地窄，以一致遮蔽的掩模(例如，被完全塗黑的掩模)蝕刻的模空腔通常其頂端比其底部淺，因此產生頂端比底部窄的鉤子。這種蝕刻差異可以用例如圖14B中所示的掩模104的掩模補償，所述掩模完全遮住了模空腔頂端108且部分遮住了底部110。
參考圖14C，通過使用掩模112形成具有狹窄中間區的鉤子，該掩模112部分遮住模空腔的中間區114且完全遮住模空腔的底部116和頂端118。這種狹窄的中間區有利於與環的有效和長期接合。
如圖15A-15F所示，使用在需要倒鉤的位置136被blocked-out或非常緊密的遮蔽區的掩模130、132、134將倒鉤122或其它抓握特點結合到鉤子124、126、128中。位於或接近於例如圖15D中所示的鉤子126的鉤子末端的倒鉤也有利於與環的長期接合，並且可以導緻密閉強度性能增加。
遮蔽的掩模可以被用於製造接觸緊固件的鉤子部件的模板，所述鉤子部件使用美國專利申請US10/455,240中描述的杆或杆狀鉤子，該申請提交於2003年6月4日，名稱為「鉤和環緊固件」，申請人為MarkA.Clarner、GeorgeA.Provost和William L.Huber，該申請通過引用的方式在此全部納入。例如，如圖16A-16B所示，用具有較密的遮蔽區146和較疏的遮蔽區144的交替帶的掩模142形成杆狀鉤子140。類似地，如圖17A-17B所示，使用在兩個較疏的遮蔽帶156中間具有較密的遮蔽帶的掩模152形成四葉杆150。具有密度朝側面逐漸降低的緊密遮蔽區域的掩模，例如圖18A所示的掩模166，可以被用於製備圓柱形杆168，如圖18B-18C所示。杆168可以被再成型(postform)成如圖18D中所示的鉤子170的杆狀鉤。
如圖19所示，掩模160包括鉤子元件162的遮蔽區和一對鉤子轉向元件的兩個緊密遮蔽區域164。鉤子轉向元件為在某些應用中引導鉤子元件周圍的環的脊狀物或凸起。在本實施例中，掩模164的鉤子轉向部分被緊密的遮蔽，以產生較深蝕刻，從而導致較大的、更有效的環轉向器。
已經描述了本發明的許多實施方式。然而，可以理解的是在不離開本發明精神和範圍的情況下，可以做出各種改變。例如，上述各實施例中均使用了負性光刻膠。雖然從成本上考慮目前優選負性光刻膠，但也可以使用正性光刻膠。當使用正性光刻膠時，曝光區域是不牢固的且變得可溶並且因此易於被除去，且光刻膠殘餘部分(即由掩模覆蓋的區域)保留在板上。因此，適用正性光刻膠的掩模將會是適用負性光刻膠的掩模的負像。
如美國專利US5900350中詳細說明的，由例如圖6中所示的輥42的模製輥形成的鉤子在模製過程中經常變形，使得所得的鉤子與模的形狀不同。因此，可以用掩模形成模空腔，該掩模補償了在生產所需形狀的鉤子的模製過程中發生的變形。其它的實施方式也可以使用具有遮蔽區的掩模來控制在此公開描述的所得模空腔的深度，並且使用在美國專利US5900350中描述的變形補償技術。
此外，在適合生產鉤子緊固件的工具環上不必形成模空腔，所述緊固件如圖6所示通過將熔融樹脂通過冷卻模製輥和施壓輥之間形成的輥隙而形成，但可以在適於用其他技術生產緊固件的板上形成。例如，可以在具有直邊的可蝕刻板的外圍上形成一系列模空腔，當其被組裝在一起時形成具有一系列模空腔的總體平坦的模組件。然後，鉤子緊固件可以通過注射或澆鑄熔融樹脂到平坦的模組件或通過以平坦的模組件壓印熔融樹脂片材而製造。
此外，所述的製備微鉤模空腔的技術可以被擴展到各種在基底蝕刻空腔的光化學蝕刻應用中，例如由玻璃基底形成透鏡、由金屬基底製備錐形磁碟驅動數據磁頭、或由半導體基底製備集成電路。
因此，其它的實施方式在後附的權利要求的範圍內。
權利要求
1.形成片狀產品的方法，所述片狀產品具有從其寬表面延伸的凸出物(34)陣列，該方法包括在第一模板(50)上形成空腔，包括在該第一模板(50)的至少一面上形成光刻膠材料層(64)，該光刻膠材料層包括蝕刻劑通過區(63)和蝕刻劑阻滯區(59)的圖案；和將化學蝕刻劑施用到該板上使得蝕刻劑底蝕該蝕刻劑阻滯區以在該板上在所述蝕刻劑通過區和蝕刻劑阻滯區的圖案下面的區域內形成單獨的連續空腔(68a、68b)；用一個或多個附加板與第一模板組裝以形成模(42)，該空腔協同相鄰板的表面以至少部分限定從該模表面向內延伸的模空腔(10)陣列之一，和將樹脂(40)施用到該模的表面且迫使一些樹脂進入模空腔以形成從形成在該模表面的樹脂層(32)整體延伸的凸出物(34)陣列。
2.權利要求1所述的方法，其中該蝕刻劑通過區(63)包括由所述蝕刻劑阻滯區(59)限定的孔。
3.權利要求1或2所述的方法，其中蝕刻劑阻滯區域(59)包括由無光刻膠材料的由蝕刻劑通過區(63)包圍的光刻膠材料(64)的離散、限定區域。
4.上述任一權利要求的方法，其中蝕刻劑通過區(63)和蝕刻劑阻滯區域(59)的圖案是一致的。
5.權利要求4所述的方法，其中在板(50)上形成的空腔(10)在所述圖案下的區域中具有大致一致的深度。
6.上述任一權利要求的方法，其中蝕刻劑通過區(63)和蝕刻劑阻滯區(59)的圖案是不一致的，使得在板(50)上形成的空腔(10)在所述圖案下的區域中具有不同的深度。
7.上述任一權利要求的方法，其中該空腔(10)為鉤子形，或該空腔為杆形。
8.上述任一權利要求的方法，其中形成光刻膠材料(64)層包括將光刻膠材料施用到第一模板的至少一面上；將掩模(60)放置在光刻膠材料上，該掩模包括遮蔽區(62)，適於部分阻擋置於該遮蔽區之下的光刻膠材料曝光；和以通過掩模的光曝光該光刻膠材料。
9.權利要求8所述的方法，其中光刻膠材料(64)包括負性光刻膠材料並且以光(65)進行曝光來將光刻膠材料固化到板(50)上，使得未曝光的光刻膠材料被除去。
10.形成用於形成片狀產品的模(42)的方法，所述片狀產品具有從其寬表面延伸的凸出物(34)陣列，該方法包括將光刻膠材料(64)施用到第一模板(50)的至少一面；將掩模(60)放置在該光刻膠材料上，該掩模包括遮蔽區(62)，適於部分地阻擋置於該遮蔽區之下的光刻膠材料的曝光；以通過掩模的光曝光該光刻膠材料；和將化學蝕刻劑施用到該板上，使得在該板上對應於掩模遮蔽區的區域中形成單獨連續的空腔(68a、68b)；用一個或多個附加板與第一模板(50)組裝以形成模(42)，空腔(68a、68b)協同相鄰板的表面至少部分地限定出從該模表面向內延伸的one or an array of模空腔(10)。
11.權利要求10所述的方法，其中光刻膠材料(64)包括正性光刻膠材料且以光(65)進行曝光使正性光刻膠材料降解，使得曝光的正性光刻膠材料被除去。
12.權利要求10或11所述的方法，其中掩模的遮蔽區(62)包括光阻滯區(60b)和光通過區(60a)的圖案。
13.權利要求12所述的方法，其中該光通過區(60a)包括由光阻滯區(60b)限定的孔，和/或其中不透光阻滯區包括由無掩模材料的光通過區包圍的掩模材料的離散、限定區域。
14.任一權利要求10到13所述的方法，其中掩模(60)的遮蔽區(62)包括線圖案。
15.任一權利要求10到14所述的方法，其中掩模(60)的遮蔽區(62)包括具有一致曝光密度的區域，使得將化學蝕刻劑施用到該板上得以在對應於具有一致曝光密度的掩模遮蔽區的區域產生具有大致一致深度(1/2W1)的空腔(68a、68b)。
16.任一權利要求10到14所述的方法，其中掩模(60)的遮蔽區(62)包括具有非一致曝光密度的區域，使得將化學蝕刻劑施用到板上得以在對應於具有非一致曝光密度的掩模遮蔽區的區域產生具有不同深度的空腔。
17.任一權利要求10到16所述的方法，其中掩模(50)進一步包括第二區(61)，該第二區適於完全阻擋置於該第二區之下的光刻膠材料(64)曝光。
18.任一權利要求10到17所述的方法，其中空腔(10)具有包括底部和頂端且從該空腔的底部到頂端逐漸減少的橫截面積的鉤子形狀。
19.任一權利要求10到18所述的方法，其中空腔(10)構形為形成具有鉤子形狀的緊固元件，該鉤子形狀包括底座部分和彎曲部分和從底座部分或彎曲部分凸出的至少一個倒鉤(122)。
20.任一權利要求10到19所述的方法，進一步包括用繪圖機形成掩模(50)。
全文摘要
在基底(例如，適於與一個或多個附加板組裝以限定出模具(42)的模板(50)，模具(42)用於在接觸緊固件的鉤子組件上形成鉤子或杆)的一面形成空腔(10)的方法，包括在基底上形成具有蝕刻劑通過區(65)和蝕刻劑阻滯區(59)圖案的光刻膠材料(64)層；並且將化學蝕刻劑施用到基底上施用，使得蝕刻劑底蝕蝕刻劑阻滯區(59)以在基底中形成單獨連續的空腔(68a、68b)。該空腔各個區域的相對蝕刻深度部分地由光刻膠材料中蝕刻劑通過區的密度控制。
文檔編號B29C59/02GK1976789SQ200580021333
公開日2007年6月6日 申請日期2005年4月28日 優先權日2004年4月30日
發明者馬克·A·克拉納 申請人:維爾克羅工業公司