蔭罩和具有該蔭罩的澱積裝置的製作方法
2023-05-17 09:30:16
專利名稱：蔭罩和具有該蔭罩的澱積裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及蔭罩(shadowmask)和具有該蔭罩的澱積裝置。
背景技術：
近來，已經開發出能夠在短時間內處理大容量存儲數據的信息處理 器以及能夠將該信息處理器所處理的數據顯示為圖像的顯示裝置。
顯示裝置典型地包括液晶顯示器(LCD)、有機發光二極體(OLED)、 等離子體顯示板(PDP)等。
在以上裝置中，OLED能夠在低電壓下工作並且可以製造得較薄。
此外，OLED具有寬的視角和快的響應速度。
此外，OLED可以顯示具有與LCD或PDP所提供的顯示質量相似 的顯示質量的圖像，並且還可通過簡單的工藝進行製造。
通常，OLED包括設置在透明基板上的透明電極、設置在該透明 電極上的有機發光層、以及設置在該有機發光層上的金屬電極。
在它們之中，有機發光層具有包括各種有機材料的多層結構。例如， 有機發光層包括諸如空穴注入層HIL和空穴傳輸層HTL、發射層EML、 電子注入層EIL和電子傳輸層ETL的有機層。
通常，通過汽相澱積法形成有機發光層。形成有機發光層的現有技 術汽相澱積裝置包括室(chamber)和蔭罩。詳細地說，現有技術的汽 相澱積裝置包括呈圓柱形的室以及呈矩形板形狀並具有開口的蔭 罩。在室的下表面上設置有具有構成有機發光層的澱積材料的有機 端P 。
有機埠中的澱積材料在升華溫度下升華，並且升華的材料通 過蔭罩的開口向室的上表面移動。穿過蔭罩的澱積材料以預定圖案
澱積在室的上表面上設置的基板上。
然而，為了形成有機發光層而從澱積裝置的有機埠升華的澱 積材料是通過室與蔭罩之間的間隙以及蔭罩的開口而提供至基板 的。因此，基板和室的內部容易被汙染。
發明內容
本發明一個目的是提供一種能夠防止室和基板被汙染的蔭罩。 本發明的另一目的是提供一種具有能夠防止室和基板被汙染的蔭罩 的澱積裝置。
為了實現以上目的，本發明提供了一種蔭罩，該蔭罩包括罩體， 該罩體的外側沿室的內側隔開預定間隔；和開口，該開口透過所述罩體
而形成。
為了實現以上目的，本發明提供了一種澱積裝置，該澱積裝置包括 室；蔭罩，該蔭罩將所述室分成上部和下部，並且具有使所述上部和所 述下部相連通的開口；澱積單元，該澱積單元設置在所述室的所述下部，
其中所述澱積單元容納有澱積材料；和支承部件，該支承部件沿所述室
的內側設置以支承所述蔭罩的邊緣。
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圖1是根據本發明的一個實施方式的蔭罩的平面圖2是根據本發明的另一實施方式的蔭罩的平面圖3是根據本發明的一個實施方式的澱積裝置的剖視圖4是根據本發明的又一實施方式的圖2中所示的蔭罩的平面圖5是根據本發明的再一實施方式的蔭罩的平面圖6是示出了根據本發明的另一實施方式的澱積裝置的室的平面
圖7是示出了蔭罩被連接至圖6中的澱積裝置的狀態的平面圖； 圖8是示出了根據本發明的又一實施方式的澱積裝置的室的平面 圖；以及
圖9是示出了蔭罩被連接至圖8中的澱積裝置的狀態的平面圖。
具體實施例方式
雖然將參照附圖描述根據實施方式的蔭罩和具有該蔭罩的澱積裝 置，但是應該理解，本領域的技術人員能夠想到會落入本公開的原理的 精神和範圍內的許多其他變型例和實施方式。在附圖中，為了本發明的 精確，放大或縮小了室、澱積單元、基板固定單元、蔭罩和其他結構的 大小。在本發明中，當描述層形成在…"上"、"上表面上"或"下表面 上"時，意味著所述層直接或間接地形成在室、澱積單元、基板固定單 元、蔭罩和其他結構的上表面或下表面上，並且其他室、澱積單元、基 板固定單元、蔭罩和結構可以另外形成在基板上。
蔭罩
圖1是根據本發明的一個實施方式的蔭罩的平面圖。
參照圖1，蔭罩10包括罩體12和貫穿罩體12形成的開口 14。
罩體12呈板形。在本實施方式中，罩體12具有與和罩體12相連接
的室16的形狀相對應的形狀。
蔭罩10的罩體12的外側與室16的內側隔開預定間隔。
例如，連接至圓柱形的室16的罩體12與室16的內側隔幵預定間隔，
從而罩體12呈盤形。
可在圓柱室16的內側設置支承體以支承罩體12。支承體可以為沿
著罩體12的邊沿的環形。
圖2是根據本發明另一實施方式的蔭罩的平面圖。
參照圖2，蔭罩20包括罩體22和貫穿罩體22形成的開口 24。
罩體22呈板形。在本實施方式中，罩體22具有與和罩體22相連接
的室18的形狀相對應的形狀。
蔭罩20的罩體22的外側與室18的內側隔開預定間隔。
例如，連接至呈六面體形的室18的罩體22與室18的內側隔開預定
間隔，從而罩體22呈矩形板形狀。
可在呈六面體形的室18的內側設置支承部件以支承罩體22。支承
部件可以為沿著罩體22的邊沿的矩形帶形狀。在以上實施方式中，室16呈圓柱形，室18呈六面體形，蔭罩10呈 盤形，而蔭罩20呈矩形板形狀。然而，蔭罩可以具有各種與室的形狀相 對應的形狀。
根據以上實施方式，因為蔭罩10的外側與室16的內側之間的間隔 以及蔭罩20的外側與室18的內側之間的間隔是固定地形成的，所以從 室16和18產生的有機材料可以通過蔭罩10和20的開口 14和24而排 出到室16和18之外。
澱積裝置
圖3是根據本發明的一個實施方式的澱積裝置的剖視圖。 參照圖3，澱積裝置100包括室10、蔭罩40、澱積單元20和支承 部件50。
室10為具有容納空間的三維形狀。例如，室10為具有容納空間的 多面體形或圓柱形。在本實施方式中，室10可呈例如圓柱形。然而，室 10也可呈六面體形或多面體形。
呈例如圓柱形的室10包括下室體12和連接至下室體12的上室體 14。上室體14打開或關閉室10。室IO連接至用於將室的內部壓力降低 到大氣壓以下的真空泵16。真空泵16通過管18而連接至室10。
在室10中設置有澱積單元20。澱積單元20可被設置在室10的底 表面上並且呈槽形。澱積單元20具有容納空間，並且在其容納空間中可 以容納可升華有機材料。
在澱積單元20的外側設置有加熱單元27，用以使容納在澱積單元 20中的有機材料升華。加熱單元27可包括電加熱器，並且加熱單元27 可使容納在澱積單元20中的有機材料升華。
在室10上設置有面對澱積單元20的基板固定單元30。基板固定單 元30呈板形，並且在基板固定單元30下方設置有基板34。在本實施方 式中，基板34呈例如長方體板形。呈長方體板形的基板34可應用於例 如具有有機光產生層32的OLED。
有機光產生層32可包括形成在基板34上的空穴注入層、空穴傳輸 層、有機發光層、電子傳輸層以及電子注入層。 基板固定單元30例如使用真空壓力吸住並固定基板34。然而，基
板固定單元30也可使用靜電來固定基板34。
將支承部件50設置在例如下室體12的內側。支承部件50可呈例如
從下室體12的內側突出的環形。然而，可以沿著下室體12的內側以預
定間隔形成多個支承部件50。支承部件50支承蔭罩40。此外，支承部
件50向蔭罩40施加張力以防止蔭罩40彎曲。
圖4是根據本發明又一實施方式的圖2所示的蔭罩的平面圖。 參照圖4,蔭罩40包括罩體44和貫穿罩體44形成的開口 42。 罩體44呈板形。在本實施方式中，罩體44具有與和罩體44相連接
的室10的形狀相對應的形狀。
蔭罩40的罩體44的外側43與室10的內側隔開預定間隔。
例如，當室10呈圓柱形時，連接至圓柱形的室10的罩體44與室
10的內側隔開預定間隔。相應地，當在平面圖中觀察時，罩體44呈盤形。 將蔭罩40設置在室10的內側設置的支承部件50上。 圖5是根據本發明再一實施方式的蔭罩的平面圖。 參照圖5，連接至室10的蔭罩60包括罩體64和貫穿罩體64形成
的開口 62。
當在平面圖中觀察時，罩體64呈矩形板形狀。在本實施方式中，罩 體64具有與和罩體64相連接的室10的形狀相對應的形狀。
蔭罩60的罩體64的外側與室10的內側隔幵預定間隔。
當室10呈六面體形時，連接至室10的罩體64與室10的內側隔開 預定間隔。相應地，罩體64呈矩形板形狀。
可以沿著六面體形的室10的內側將支承部件50設置在室10中，以 支承罩體64。
在圖4和5中，室IO呈圓柱形或六面體形，蔭罩40呈盤形，而蔭 罩60呈矩形板形狀。然而，蔭罩40和60可具有各種與室的形狀相對應 的形狀。
在下文中，將參照附圖描述根據本發明的澱積裝置的操作。 參照圖3至5，打幵室10的上室體14，然後將具有澱積材料25 (例
如可升華有機材料)的澱積單元20設置在室10中。
在本實施方式中，可升華有機材料可包括構成空穴注入層的空穴注 入材料、構成空穴傳輸層的空穴傳輸材料、構成有機發光層的有機發光 材料、構成電子傳輸層的電子傳輸材料、以及構成電子注入層的電子注 入材料。
在將具有澱積材料25的澱積單元20設置在室10內的狀態下，將蔭 罩40安裝在設置在室10內的支承部件50上，其中蔭罩40的外側沿著 室10的內側隔開預定間隔。
將基板34固定到室10中的基板固定單元30上，以在像素區32上 形成有機光產生層。通過真空壓力或靜電將基板34固定到基板固定單元 30上。
在將基板34固定到基板固定單元30上之後，將上室體14連接至下 室體12，從而使室10密封。
然後，通過真空泵16的工作，在密封的室10內部形成真空壓力， 並且通過由加熱單元27所產生的熱而使澱積單元20中容納的澱積材料 25升華。
從澱積單元20升華的澱積材料向室10的上部移動，從而到達蔭罩 40。然後，澱積材料穿過蔭罩40的開口 42而澱積在基板34上形成的像 素區32上。
因為蔭罩40的外側與室10的內側隔開了預定間隔，所以從澱積單 元20升華的澱積材料通過形成在蔭罩40中的開口而澱積在基板34上的 指定位置(例如像素區32)上，而不會從蔭罩40和室IO的內側之間穿 過。
圖6是示出了根據本發明的另一實施方式的澱積裝置的室的平面 圖，而圖7是示出了蔭罩被連接至圖6中的澱積裝置的狀態的平面圖。
參照圖6，澱積裝置100包括室10、澱積單元20和遮擋部件80， 並且在澱積裝置100中設置有圖6和7所示的蔭罩60。
室io為具有容納空間的三維形狀。例如，室10為具有容納空間的 多面體形或圓柱形。在本實施方式中，室10可呈例如圓柱形。
如圖3所示，呈圓柱形的室10包括下室體12和連接至下室體12的 上室體14。上室體14打開或關閉室10。室10連接至用於將室的內部壓 力降低到大氣壓以下的真空泵16。真空泵16通過管18而連接至室10。 在室10中設置有澱積單元20。澱積單元20可被設置在室10的底 表面上並且呈槽形。澱積單元20具有容納空間，並且在其容納空間中容 納有可升華有機材料。
在澱積單元20的外側設置有加熱單元27，用以使澱積單元20中的 有機材料升華。加熱單元27可包括電加熱器，加熱單元27使容納在澱 積單元20中的有機材料升華。
在室10上設置有面對澱積單元20的基板固定單元30。基板固定單 元30呈板形，基板34設置在基板固定單元30下方。在本實施方式中， 基板34呈例如長方體板形。呈長方體板形的基板34可應用於例如具有 有機光產生層32的OLED。
有機光產生層32可包括形成在基板34上的空穴注入層、空穴傳輸 層、有機發光層、電子傳輸層以及電子注入層。
基板固定單元30使用例如真空壓力吸住並固定基板34。然而，基 板固定單元30也可使用靜電來固定基板34。
參照圖6，蔭罩60包括罩體64和貫穿罩體64形成的開口 62。 當在平面圖中觀察時，罩體64呈板形。在本實施方式中，當在平面 圖中觀察時，罩體64呈矩形板形狀。即，在本實施方式中，室10呈圓 柱形，並且蔭罩60呈矩形板形狀。
當如上所述室10呈圓柱形並且蔭罩60呈矩形板形狀時，在蔭罩60 的外側與室IO之間形成了隔開的空隙。因此，從澱積單元20升華的有 機材料從蔭罩60的外側與室10的內側之間以及蔭罩60的開口 62穿過， 從而室10和基板34會被汙染。
遮擋部件80防止有機材料從室10的內側與蔭罩60的外側之間穿過。
艮口，遮擋部件80與蔭罩60的邊緣部分重疊，從而防止了有機材料 從室10的內側與蔭罩60的外側之間穿過。因此，當在平面圖中觀察時，
通過遮擋部件80而在室10中形成了這樣的矩形開口，該矩形開口實際
上與蔭罩40的外形相同。
雖然室10的形狀與蔭罩60的形狀不同，但是通過遮擋部件80可以 防止有機材料從室10與蔭罩60之間穿過。
在本實施方式中，將遮擋部件80設置成可從室10拆下，將固定部 件(未示出)的一部分設置在遮擋部件80上並將該固定部件的其餘部分 連接到室IO的內側部分，以將遮擋部件80固定到室IO的內側部分。
圖8是示出了根據本發明的又一實施方式的澱積裝置的室的平面 圖，而圖9是示出了蔭罩被連接至圖8中的澱積裝置的狀態的平面圖。
圖8所示的澱積裝置100包括室10、澱積單元20和遮擋部件90。 將圖8和9所示的蔭罩40設置在圖3所示的澱積裝置100上。
室10為具有容納空間的三維形狀。例如，室10為具有容納空間的 六面體形。
如圖3所示，呈六面體形的室10包括下室體12和連接至下室體12 的上室體14。上室體14打開或關閉室10。室10連接至用於將室10的 內部壓力降低到大氣壓以下的真空泵16。真空泵16通過管18而連接至 室10。
在室10中設置有澱積單元20。澱積單元20可被設置在室10的底
表面上並且呈槽形。澱積單元20具有容納空間，並且在其容納空間中容 納有可升華有機材料。
在澱積單元20的外側設置有加熱單元27，用以使澱積單元20中的 有機材料升華。加熱單元27可包括電加熱器，並且加熱單元27使容納 在澱積單元20中的有機材料升華。
在室10上設置有面對澱積單元20的基板固定單元30。基板固定單 元30呈板形，基板34設置在基板固定單元30下方。在本實施方式中， 基板34呈例如長方體板形。呈長方體板形的基板34可應用於例如具有 有機光產生層32的OLED。
有機光產生層32可包括形成在基板34上的空穴注入層、空穴傳輸 層、有機發光層、電子傳輸層以及電子注入層。
基板固定單元30使用例如真空壓力吸住並固定基板34。然而，基 板固定單元30也可使用靜電來固定基板34。
參照圖9，蔭罩40包括罩體44和貫穿罩體44形成的開口 42。
當在平面圖中觀察時，罩體44呈板形。在本實施方式中，當在平面 圖中觀察時，罩體44呈盤形。即，在本實施方式中，室10呈六面體形， 並且蔭罩40呈盤形。
當如上所述室10呈六面體形並且蔭罩40呈盤形時，在蔭罩40的外 側與室IO之間形成了隔幵的空隙。因此，從澱積單元20升華的有機材 料從蔭罩40的外側與室10的內側之間以及蔭罩40的開口 42穿過，從 而室10和基板34會被汙染。
遮擋部件90防止有機材料從室10的內側與蔭罩40的外側之間穿過。
艮口，遮擋部件90與蔭罩40的邊緣部分重疊，從而防止了有機材料 從室10的內側與蔭罩40的外側之間穿過。因此，當在平面圖中觀察時， 通過遮擋部件90而在室10中形成了這樣的圓形開口，該圓形開口實際 上與蔭罩40的外形相同。
雖然室10的形狀與蔭罩40的形狀不同，但是遮擋部件90可以防止 有機材料從室10與蔭罩40之間穿過。
在本實施方式中，將遮擋部件90設置成可從室10拆下，將固定部 件(未示出)的一部分設置在遮擋部件卯上並將該固定部件的其餘部分 連接到室10的內側部分，以將遮擋部件90固定到室10的內側部分。
根據如上所述的本發明，防止了從澱積單元升華的澱積材料從蔭罩 的開口以外的地方穿過蔭罩，從而防止了室的內部被汙染，從而提高了 薄膜澱積裝置的工作能力。此外，可以防止附於室的內側的澱積材料與 室分離，從而澱積材料不會成為顆粒。
雖然已參照本發明的多個說明性實施方式而描述了實施方式，但是 應該理解，本領域的技術人員可以想到將落入本公開的原理的精神和範 圍內的許多其他變型例和實施方式。
權利要求
1、一種蔭罩，該蔭罩包括罩體，該罩體的外側沿室的內側隔開預定間隔；和開口，該開口貫穿所述罩體而形成。
2、 根據權利要求1所述的蔭罩，其中，所述室呈圓柱形並且所述罩 體呈盤形。
3、 根據權利要求1所述的蔭罩，其中，所述室呈六面體形並且所述 罩體呈矩形板形狀。
4、 一種澱積裝置，該澱積裝置包括 室；蔭罩，該蔭罩將所述室分成上部和下部並且具有開口，所述上部通 過所述開口與所述下部相連通； .澱積單元，該澱積單元設置在所述室的所述下部，其中所述澱積單 元容納有澱積材料；和支承部件，該支承部件沿所述室的內側設置以支承所述蔭罩的邊緣。
5、 根據權利要求4所述的澱積裝置，其中，所述室呈圓柱形並且所 述蔭罩呈盤形。
6、 根據權利要求4所述的澱積裝置，其中，所述室呈六面體形並且 所述蔭罩呈矩形板形狀。
7、 根據權利要求4所述的澱積裝置，其中，所述支承部件沿著所述 室的內側呈閉合環形突出。
8、 根據權利要求4所述的澱積裝置，其中，所述支承部件包括從所 述室的內側突出預定長度的突起。
9、 根據權利要求4所述的澱積裝置，其中，在所述室的上部設置有基板固定單元以固定基板。
10、 一種澱積裝置，該澱積裝置包括 蔭罩，該蔭罩具有開口；室，在該室中具有所述蔭罩；澱積單元，該澱積單元設置在所述室的下部，其中所述澱積單元容納有澱積材料；和遮擋部件，該遮擋部件介於所述室的內側與所述蔭罩的外側之間， 用以防止所述澱積材料從所述室的內側與所述蔭罩的外側之間穿過。
11、 根據權利要求10所述的澱積裝置，其中，所述蔭罩呈矩形板形 狀並且所述室呈圓柱形。
12、 根據權利要求ll所述的澱積裝置，其中，所述遮擋部件遮住所 述蔭罩的側面與所述室的曲面之間的空隙。
13、 根據權利要求10所述的澱積裝置，其中，所述蔭罩呈盤形並且 所述室呈六面體形。
14、 根據權利要求13所述的澱積裝置，其中，所述遮擋部件遮住所 述蔭罩的曲面與所述室的內側之間的空隙。
15、 根據權利要求10所述的澱積裝置，其中，所述遮擋部件還包括 設置在所述室的內側的拉伸單元，以對所述蔭罩施加張力以防止所述蔭 罩彎曲。
16、 根據權利要求10所述的澱積裝置，其中，所述遮擋部件與所述 蔭罩的邊緣重疊。
17、 根據權利要求10所述的澱積裝置，其中，在所述澱積單元周圍 設置有加熱單元，用以對所述澱積單元進行加熱。
18、 根據權利要求17所述的澱積裝置，其中，所述加熱單元包括電 加熱器。
19、 根據權利要求10所述的澱積裝置，其中，在所述室的內側設置 有支承部件，以支承所述遮擋部件。
全文摘要
本發明公開了蔭罩和具有該蔭罩的澱積裝置。該澱積裝置包括蔭罩，該蔭罩具有開口；室，在該室中具有所述蔭罩；澱積單元，該澱積單元設置在所述室的下部，其中所述澱積單元容納有澱積材料；和遮擋部件，該遮擋部件介於所述室的內側與所述蔭罩的外側之間，用以防止所述澱積材料從所述室的內側與所述蔭罩的外側之間穿過。防止了從澱積單元升華的澱積材料從蔭罩的開口以外的地方穿過蔭罩，從而防止了室的內部被汙染，從而提高了薄膜澱積裝置的工作能力。可以防止附於室的內側的澱積材料與室分離，從而澱積材料不會成為顆粒。
文檔編號C23C14/12GK101096746SQ20071012690
公開日2008年1月2日 申請日期2007年6月29日 優先權日2006年6月30日
發明者李在允, 李相根, 金廷炫 申請人:Lg.菲利浦Lcd株式會社