具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器的製作方法
2023-05-17 11:32:16
專利名稱：具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器的製作方法
技術領域：
本發明有關於一種平面顯示器(flat panel display)，特別是有關於一種具有非矩陣型遮光結構(non-matrix light shielding structure)的平面顯示器。
背景技術：
液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)是目前最被廣泛使用的一種平面顯示器，其具有低消耗電功率、薄型輕量以及低電壓驅動等特徵。一般而言，在液晶顯示器中，液晶層夾在兩透明基板(例如玻璃基板)之間，其中一透明基板其上方配置有驅動元件，例如薄膜電晶體(thin filmtransistors，TFTs)。在液晶顯示器的顯示區中，像素區(pixel area)的陣列由水平延伸的掃描線和垂直延伸的信號線所限定。每一像素區具有一薄膜電晶體和一像素電極。
圖19是表示傳統的薄膜電晶體液晶顯示器(TFT LCD)的剖面圖。在下基板方面，蝕刻停止層反轉交錯型(etch stopper inverse staggered type)薄膜電晶體15設置於下玻璃基板1的一部分上，由銦錫氧化物(ITO)所構成的像素電極8設置在下玻璃基板1的另一部分上。在薄膜電晶體15上會覆蓋一層保護層9，用以保護薄膜電晶體15。此薄膜電晶體15包括控制極2a、源極7a和漏極7b。絕緣層3設置於儲存電極2b和像素電極8之間，藉此構成一電容器17。圖中，符號7表示主動區，符號5表示蝕刻停止層，而符號6表示歐姆接觸層。
在上基板方面，用以遮光的黑色矩陣(black matrix)12設置在上玻璃基板11的一部分上，用以避免液晶顯示器的顏色幹擾。RGB彩色濾光層13設置在上玻璃基板11的另一部分，且對應於像素電極8的區域。共用電極14設置在黑色矩陣12和彩色濾光層13上，其材料為ITO。
Masaaki等人於1996/10/1和2000/5/16公開的美國專利第5,561,440號和第6,064,358號中，公開了設置在上玻璃基板的遮光結構具有成矩陣排列的開口，且與下玻璃基板的TFT陣列對準，而每一像素電極與遮光結構中的開口對準，此外，每一像素電極的邊緣與遮光結構的周圍重疊。Morii於2002/7/23公開的美國專利第6,424,394號中，公開了遮光結構的形狀是格子狀(grid-shaped)。如圖20所示，黑色矩陣12(即格子狀的遮光結構)是以斜線表示，開口部分18(即透光部分)是以空白表示。黑色矩陣12會遮蔽彩色濾光片13每一顏色像素區的影像部分的周圍區域，以避免鄰近的紅(R)、綠(G)、藍(B)像素相互滲色，因此可以避免顏色的混雜。黑色矩陣12通常是用來改善彩色顯示器的對比度，並用來增加顯示器的品質。
然而，在進行上基板的製作期間，由於黑色矩陣和玻璃基板之間的熱膨脹係數不同以及黑色矩陣和彩色濾光片之間的熱膨脹係數不同，由鉻(Cr)構成的黑色矩陣12會遭受到相當大的應力。上基板製作所需的熱循環會誘發應力的產生，致使RGB彩色濾光片剝離，藉此釋放黑色矩陣中的應力。
發明內容
有鑑於此，本發明主要目的是提供一種避免彩色濾光片剝離的平面顯示器。
本發明的另一目的在於提供一種可減少來自於遮光結構的應力的平面顯示器。
為了達到上述的目的，本發明提出一種具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，包括多個掃描線和多個信號線，這些掃描線和這些信號線相互垂直，並限定多個像素區；一具有多個主空間和多個間隙的主遮光結構，其中這些主空間大致對應於這些像素區，每一間隙大致對應於掃描線或信號線，每一主空間連接至少一間隙，且每一間隙連接兩相鄰的主空間；以及多個輔助遮光結構，這輔助遮光結構些對應於這些間隙。
本發明並提供一種具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器。在第一基板中，其包括(1)多個掃描線和多個信號線，這些掃描線和這些信號線相互垂直，並限定多個像素區；設置於該像素區的多個像素電極，設置於這些信號線和這些像素電極之間的多個條狀遮光層，且這些條狀遮光層與這些像素電極重疊；以及(2)多個輔助遮光結構。在第二基板中，其包括(1)一具有多個主空間和多個間隙的主遮光結構，其中這些主空間大致對應於這些像素區，每一間隙大致對應於掃描線或信號線，每一主空間連接至少一間隙，且每一間隙連接兩相鄰的主空間；以及(2)一設置於主遮光結構上的彩色濾光片。此外，一設置第一和第二基板之間的液晶層。其中，輔助遮光結構與間隙相對應。
本發明還提供一種具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其結構如下所述。第一和第二掃描線彼此平行於一第一方向，第一和第二信號線彼此平行於一第二方向，其中第一和第二掃描線以及第一和第二信號線限定一像素區。遮光結構包括主遮光結構和輔助遮光結構。其中，主遮光結構具有一主空間和一間隙，其中，主空間對應於上述的像素區，間隙連接上述的主空間和鄰近的主空間。其中，輔助遮光結構設置於間隙下，且與主遮光結構部分重疊。
為使本發明的上述和其他目的、特徵、和優點能更明顯易懂，下文特舉出較佳實施例，並結合附圖，作詳細說明如下。
圖1是本發明第一實施例的液晶顯示器的一像素區的平面圖。
圖2A是圖1的A-A′切線的剖面圖。
圖2B是圖1的B-B′切線的剖面圖。
圖2C是圖1的C-C′切線的剖面圖。
圖3是多個鄰近的像素區中的魚骨狀遮光元件的平面圖。
圖4是多個鄰近的像素區中魚骨狀遮光元件間的魚骨空間的平面圖。
圖5是圖1的像素區中的主遮光結構的單位構成元件的平面圖。
圖6是圖1的左側構件的相對空間立體圖，其中輔助遮光層是對應於間隙處，且與支幹部分重疊。
圖7是多像素區的結構配置圖。
圖8是獨立的遮光結構與條狀遮光層和信號線重疊的示意圖。
圖9是與條狀遮光層接觸且與信號線重疊的遮光結構的示意圖。
圖10是與信號線接觸且與條狀遮光層重疊的遮光結構的示意圖。
圖11是本發明第二實施例的液晶顯示器的一像素的平面圖。
圖12A是圖11的A-A′切線的剖面圖。
圖12B是圖11的B-B′切線的剖面圖。
圖12C是圖11的C-C′切線的剖面圖。
圖13是多個鄰近的像素區中的魚骨狀遮光元件的平面圖。
圖14是圖11的像素區中的部分兩相鄰魚骨狀遮光元件的平面圖。
圖15是多像素區的結構配置圖。
圖16是本發明第三實施例的液晶顯示器的多像素區的平面圖，其中，間隙是隨機放置在掃描線和信號線上。
圖17是本發明第四實施例的一種IPS-LCD的像素單元的平面圖。
圖18是圖17的A-A′剖面圖。
圖19是表示傳統的薄膜電晶體液晶顯示器的剖面圖。
圖20是表示傳統的黑色矩陣的示意圖。
符號說明下玻璃基板1 控制極2a儲存電極2b 絕緣層3主動區4 蝕刻停止層5歐姆接觸層6 源極7a漏極7b 像素電極8保護層9 上玻璃基板11黑色矩陣12 RGB彩色濾光層13共用電極14 薄膜電晶體15電容器17 開口部分18上基板562、662下基板561、661液晶層557、657、857發光源564、664上透明基板858下透明基板556、656、856TFT510、610掃描線510A、501B、601A、601B、701、801信號線500A、500B、600A、600B、700、800像素電極554、654、754條狀遮光層551A、551B、651A、651B輔助遮光層509A、509B、519A、519B
輔助遮光層609A、609B、619A、619B獨立的遮光結構529遮光結構509′、519′透明共用電極563、663主遮光結構559、659、859RGB彩色濾光片560、660、860魚骨狀遮光元件559A、559A1、559A2魚骨狀遮光元件659A、659A1、659A2魚骨狀空間508、608支幹559C、559C1、559C2、659C、659C1、659C2主幹559B、659B間隙508S、508S1、508S2、608S、608S1、608S2間隙708S、808S主空間508L、608L、708L、808L控制極絕緣層555、655保護層550、650、818電容器605上電極板606開口607輔助遮光層639、639A、639B控制極電極G控制極絕緣層812半導體層815通道層816和源極/漏極電極817信號電極854共用電極863a共用電極線863b下配向膜層820上配向膜層864
具體實施例方式
在製造上基板時，為了減少來自遮光結構的應力，本發明提出一種非矩陣型遮光結構。在此，本發明是以液晶顯示器為例做說明，然而本發明並非限定於此。適用於本發明的顯示器可以是反射型(reflective type)、穿透型(transmissive type)、投射型(projective type)或半穿透反射型(transflective type)，在每一像素區配置的驅動元件可以是薄膜電晶體(thin film transistor；TFT)、金屬-絕緣-金屬(metal insulator metal；MIM)、或類似此性質者。
以下的附圖是以液晶顯示器的常見結構為例，說明本發明的液晶顯示器的遮光結構。
第一實施例在第一實施例中是以穿透型液晶顯示器為例，並以TFT做為驅動元件。
圖1是本發明第一實施例的液晶顯示器的一像素區的平面圖。圖2A、圖2B和圖2C分別為圖1的A-A′、B-B′和C-C′切線的剖面圖。圖5是圖1的像素區中的主遮光結構的平面圖，遮光結構是設置於上透明基板上。
圖3是多個鄰近的像素區中位於上透明基板上的魚骨狀遮光元件的平面圖，圖4是多個鄰近的像素區中魚骨狀遮光元件間的魚骨空間的平面圖。
如圖2A至圖2C所示，液晶顯示器包括上基板562、下基板561、以及夾置於其間的液晶層557。發光源564設置於下基板561後面。
如圖1和圖2A至圖2C所示，就單一像素而言，下基板561包括下透明基板556、TFT510、沿X方向延伸的掃描線501A和501B、沿Y方向延伸的信號線500A和500B、以虛線表示的像素電極554、條狀遮光層551A和551B、以及輔助遮光層509A、509B、519A和519B。掃描線501A和501B以及信號線500A和500B限定一像素區，如圖1中以虛線表示的像素電極554是形成於像素區的主要部分。像素電極554是由TFT510所控制，TFT510配置於像素區的一角落，且與掃描線501B和信號線500B一起形成。
就下基板561而言，左邊的條狀遮光層551A形成於左邊的信號線500A和像素電極554之間，且與像素電極554的周圍部分重疊。而且，右邊的條狀遮光層551B形成於右邊的信號線500B和像素電極554之間，且與像素電極554的周圍部分重疊。接著以左邊的結構為例，左邊的輔助遮光結構(例如由輔助遮光層509A和519A所構成)形成於信號線500A和條狀遮光層551A之間，以避免其間的漏光。輔助遮光結構亦可以是獨立的遮光結構529，且與條狀遮光層551A和信號線500A重疊，如圖8所示，此外，輔助遮光結構還可以是與條狀遮光層551A接觸且與信號線500A重疊的遮光結構509′，如圖9所示；或是與信號線500A接觸且與條狀遮光層551A重疊的遮光結構519′，如圖10所示；或是與條狀遮光層551A接觸的次結構以及與信號線500A接觸的次結構的組合結構。在此實施例中是以最後一種為例來做說明。
如圖1和圖2B所示，左邊的輔助遮光結構是由輔助遮光層509A和519A所構成。輔助遮光層509A與條狀遮光層551A接觸，輔助遮光層519A與信號線500A接觸，且兩輔助遮光層509A和519A相互重疊。右邊的輔助遮光結構是由輔助遮光層509B和519B所構成。輔助遮光層509B與條狀遮光層551B接觸，輔助遮光層519B與信號線500B接觸，且兩輔助遮光層509B和519B相互重疊。
輔助遮光層509A、509B、519A和519B是主遮光結構559的互補結構，與在上基板562的主遮光結構559中的魚骨狀空間(如圖4標號508處)部分重疊。
上基板562包括透明共用電極563、主遮光結構559和RGB彩色濾光片560，RGB是三主要顏色。在圖2A至圖2C中，像素區的彩色濾光片560是以次濾光片R為例。
圖3和圖4是表示對應於多像素的主遮光結構559的示意圖。用於形成主遮光結構559的材料可以任何遮光材料，例如金屬或樹脂。主遮光結構559是由多個魚骨狀遮光元件559A所組成，魚骨狀遮光元件559A大致平行於Y方向，且彼此間藉助魚骨狀空間508做物理性分離。每一個魚骨狀遮光元件559A包括一主幹559B和多個支幹559C，其中，主幹559B朝X方向延伸，且遮蓋掃描線501，支幹559C自主幹559B兩側垂直延伸。魚骨狀空間508包括許多間隙508S和主空間508L。每一間隙508S是屬於不同魚骨狀遮光元件559A的兩相鄰支幹559C間最接近的區域。在製作期間，當主遮光結構559被擠壓或拉伸時，間隙508S所提供的空間可以避免主遮光結構559累積局部應力。在製造上基板562時，魚骨狀遮光元件559A的分隔提供了適當的空間來避免熱應力穿越整個LCD面板。
為了做更進一說明，圖1和圖5是單一像素區的結構配置關係示意圖。魚骨狀遮光元件559A進一步區分為559A1和559A2，支幹559C進一步區分為559C1和559C2，間隙508S進一步區分為508S1和508S2。圖5是顯示部分兩相鄰的魚骨狀遮光元件559A1和559A2，其限定一光穿透像素區508L(魚骨狀空間508的其中一主空間)對應於下基板561的像素電極554。魚骨狀遮光元件559A1和559A2被魚骨狀空間508分離，其中對應於像素電極554的主要部分的主空間508L是由魚骨狀遮光元件559A1的兩相鄰支幹559C1和559C2，以及魚骨狀遮光元件559A2的兩相鄰支幹559C1和559C2，所限定而成。在像素區內，左邊的支幹559C1與部分信號線500A重疊，右邊的支幹559C2與部分信號線500B重疊，因此，左邊的間隙508S1暴露部分左邊的信號線500A，右邊的間隙508S2暴露部分右邊的信號線500B。左邊的輔助遮光層509A和519A對應於間隙508S1，且與支幹559C1部分重疊，如圖6所示。右邊的輔助遮光層509B和519B對應於間隙508S2，且與支幹559C2部分重疊。
條狀遮光層551A和551B以及輔助遮光層509A和509B的設置位置是低於信號線500A和500B。舉例而言，條狀遮光層551A和551B以及輔助遮光層509A和509B是與掃描線501A和501B一起形成，且形成自第一金屬層(M1)；信號線500A和500B以及輔助遮光層519A和519B是形成自第二金屬層(M2)。在第一金屬層(M1)中形成條狀遮光層551A和551B、輔助遮光層509A和509B、掃描線501A和501B後，形成一層間控制極絕緣層555覆蓋第一金屬層(M1)。接著，在第二金屬層(M2)中形成信號線500A和500B以及輔助遮光層519A和519B，且設置於控制極絕緣層555上。然後，在形成像素電極554之前形成保護層550。
接著參考圖7所示的多像素區的結構配置圖。遮光結構包括主遮光結構559、條狀遮光層551、與條狀遮光層551接觸的輔助遮光層509、以及與信號線500接觸的輔助遮光層519。
主遮光結構559可以允許光穿透像素電極554，並配合條狀遮光層551、輔助遮光層509和519來阻擋沒有穿過對應的像素電極554的光線。
第二實施例在第二實施例中是以穿透型液晶顯示器為例，並以TFT做為驅動元件。
圖11是本發明第二實施例的液晶顯示器的一像素區的平面圖。圖12A、圖12B和圖12C是分別為圖11的A-A′、B-B′和C-C′切線的剖面圖。圖14是圖11的像素區中設置於上透明基板上的部分兩相鄰魚骨狀遮光元件的平面圖。
圖13是多個鄰近的像素區中的魚骨狀遮光元件的平面圖，圖15是多像素區的結構配置圖。
如圖12A至圖12C所示，液晶顯示器包括上基板662、下基板661、以及夾置於其間的液晶層657。發光源664設置於下基板661後面。
如圖11和圖12A至圖12C所示，就單一像素而言，下基板661包括下透明基板656、TFT610、沿X方向延伸的掃描線601A和601B、沿Y方向延伸的信號線600A和600B、以虛線表示的像素電極654、條狀遮光層651A和651B、以及輔助遮光層609A、609B、619A和619B。掃描線601A和601B以及信號線600A和600B限定一像素區，如圖11中以虛線表示的像素電極654形成於像素區的主要部分。像素電極654是由TFT610所控制，TFT610配置於像素區的一角落，且與掃描線601B和信號線600B一起形成。電容器605的底部電極與掃描線601A和601B相鄰接，上電極606經由保護層650中的開口607連接至像素電極654。
就下基板661而言，左邊的條狀遮光層651A形成於左邊的信號線600A和像素電極654之間，且與像素電極654的周圍部分重疊。而且，右邊的條狀遮光層651B形成於右邊的信號線600B和像素電極654之間，且與像素電極654的周圍部分重疊。與像素電極654一起作用的電容電極與掃描線601A一起形成，且與像素電極654部分重疊，藉此避免掃描線601A和像素電極654之間的漏電流。輔助遮光結構(例如由接觸掃描線601B的輔助遮光層639B所構成)形成於掃描線601B和像素電極654之間，以避免其間的漏電流。另一輔助遮光層639A是用以避免掃描線601A和上面只示出部分的像素電極654之間的漏電流。
輔助遮光結構亦可以是獨立的遮光結構，且與像素電極654和掃描線601B重疊。
如圖11、圖12A和圖12B所示，輔助遮光結構是由分別與掃描線601A和601B接觸的輔助遮光層639A和639A所構成，並與其對應的像素電極654重疊。
輔助遮光層639和639B是主遮光結構659的互補結構，與在上基板662的主遮光結構659中的魚骨狀空間部分重疊。
上基板662包括透明共用電極663、主遮光結構659和RGB彩色濾光片660，RGB是三主要顏色。在圖12A至圖12C中，像素區的彩色濾光片660是以次濾光片R為例。
圖13是表示對應於多像素區的主遮光結構659的示意圖。用於形成主遮光結構659的材料可以任何遮光材料，例如金屬或樹脂。主遮光結構659是由多個魚骨狀遮光元件659A所組成，魚骨狀遮光元件659A大致平行於Y方向，且彼此間藉助魚骨狀空間608做物理性分離。如圖15所示，每一個魚骨狀遮光元件659A包括一主幹659B和多個支幹659C，其中，主幹659B是朝X方向延伸，且遮蓋信號線600，支幹659C是自主幹659B兩側垂直延伸。魚骨狀空間608包括許多間隙608S和主空間608L。每一間隙608S是屬於不同魚骨狀遮光元件659A的兩相鄰支幹659C間最接近的區域。在製作期間，當主遮光結構659被擠壓或拉伸時，間隙608S所提供的空間可以避免主遮光結構659累積局部應力。在製造上基板662時，魚骨狀遮光元件659A的分隔提供了適當的空間來避免熱應力穿越整個LCD面板。
繼續參照圖11和圖14。魚骨狀遮光元件659A進一步區分為659A1和659A2，支幹659C進一步區分為659C1和659C2，間隙608S進一步區分為608S1和608S2。圖14是顯示部分兩相鄰的魚骨狀遮光元件659A1和659A2，其限定一光穿透像素區608L(魚骨狀空間608的其中一主空間)對應於下基板661的像素電極654。魚骨狀遮光元件659A1和659A2被魚骨狀空間608分離，其中對應於像素電極654的主要部分的主空間608L是由魚骨狀遮光元件659A1的兩相鄰支幹659C1和659C2，以及魚骨狀遮光元件659A2的兩相鄰支幹659C1和659C2，所限定而成。在像素區內，上側的支幹659C1與部分掃描線601A重疊，下側的支幹659C2與部分掃描線601B重疊，因此，上側的間隙608S1暴露部分上側的掃描線601A，下側的間隙608S2暴露部分下側的掃描線601B。輔助遮光層639A和639B對應於間隙608S1和608S2，且分別與支幹659C1和659C2部分重疊，如圖11和圖14所示。
舉例而言，條狀遮光層651A和651B以及輔助遮光層639A和639B是與掃描線601A和601B一起形成，且形成自第一金屬層(M1)；信號線600A和600B以及上電極板606是形成自第二金屬層(M2)。在第一金屬層(M1)中形成條狀遮光層651A和651B、輔助遮光層639A和639B、電容器605的底部電極板、以及掃描線601A和601B後，形成一層控制極絕緣層655覆蓋第一金屬層(M1)，其材料例如是氮化矽、氧化矽或其他類似此性質者。接著，在第二金屬層(M2)中形成信號線600A和600B以及電容器605的上電極板606，且設置於控制極絕緣層655上。之後，在形成像素電極654之前形成保護層650，其材料例如是氮化矽、氧化矽或其他類似此性質者。
接著參考圖15所示的多像素區的結構配置圖。遮光結構包括主遮光結構659、條狀遮光層651、以及與掃描線601接觸的輔助遮光層639。
主遮光結構659可以允許光穿透像素電極654，並配合條狀遮光層651、輔助遮光層639來阻擋沒有穿過對應的像素電極654的光線。
第三實施例如圖7和圖15所示，穿過主遮光結構559和659中的間隙508S和608S的入射光線，會被處於不同層的輔助遮光結構所抵擋。間隙508S和608S所提供的空間，可用以避免應力穿越整個LCD面板。
參照圖16，在第三實施例中，間隙708S隨機放置在掃描線701和信號線700上。對應於像素電極754(以虛線表示)的每一主空間708L與至少一放置在掃描線701或信號線700的間隙708S連接，經由間隙708S連接至鄰近的主空間708L。
如果主遮光結構759的間隙708S設置在掃描線701和電容器705上，則設置在主遮光結構759下且延伸自掃描線701的輔助遮光層739可以阻擋穿過間隙708S的光線。
如果主遮光結構759的間隙708S設置在信號線700上，則設置在主遮光結構759下的輔助遮光結構(例如分別延伸自條狀遮光層751和信號線700的輔助遮光層709和719)可以阻擋穿過間隙708S的光線。
第四實施例在第四實施例中是以具有廣視角特性的IPS-LCD(in-plane switchingmode liquid crystal display)為例，說明本發明的技術。
圖17是IPS-LCD的像素單元的平面圖。如圖所示，像素單元區是由信號線800和掃描線801限定而成。共用電極線863b與掃描線801平行排列。薄膜電晶體(TFT)形成於信號線800和掃描線801的交錯處附近。如圖18所示，其為圖17的A-A′剖面圖，TFT包括控制極電極G、控制極絕緣層812、半導體層815、通道層816、和源極/漏極電極817。控制極電極G連接至掃描線801，源極/漏極電極817連接至信號線800。控制極絕緣層812形成於下透明基板856的整個表面上。
共用電極863a和信號電極854形成於像素區內。共用電極863a是於控制極電極G一起形成，且連接至共用電極線863b。信號電極854是與源極/漏極電極817一起形成，且連接至源極/漏極電極817。再者，保護層818和下配向膜層820放置在整個下透明基板856的表面上。
就上透明基板858而言，主遮光結構859(在圖17中是以虛線表示)是用以避免TFT、信號線800和掃描線801周圍的漏光。在像素區內，主遮光結構859由主空間808L和兩間隙808S限定而成，其中間隙808S設置在共用電極線863b上，以阻擋穿過間隙808S的光線。簡而言之，用以阻擋穿過間隙808S的光線的輔助遮光結構，是由不透光材料所形成的共用電極線863b本身。
這些間隙808S提供的空間可用以避免應力穿越整個LCD面板，因此可以避免彩色濾光片860的剝離。
彩色濾光片860和上配向膜層864是依序形成於主遮光結構859上。另外，液晶層857形成於下基板861和上基板862之間。
雖然本發明已以較佳實施例公開如上，然而其並非用以限定本發明，任何本技術領域的普通技術人員，在不脫離本發明的精神和範圍內，當然可作些更動與潤飾，因此本發明的保護範圍應當以權利要求所界定的為準。
權利要求
1.一種具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，包括多個掃描線和多個信號線，這些掃描線和信號線相互垂直，並限定多個像素區；一具有多個主空間和多個間隙的主遮光結構，其中這些主空間大致對應於這些像素區，每一間隙大致對應於掃描線或信號線，每一主空間連接至少一間隙，且每一間隙連接兩相鄰的主空間；以及對應於這些間隙的多個輔助遮光結構。
2.如權利要求1所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於還包括設置於這些像素區的多個像素電極。
3.如權利要求2所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於多個條狀遮光層設置於這些信號線和這些像素電極之間，且與這些像素電極和該主遮光結構部分重疊。
4.如權利要求3所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於一第一部分的這些輔助遮光結構對應於一第一部分對應於這些信號線的這些間隙，該第一部分的這些輔助遮光結構包括多個第一輔助遮光層，該第一輔助遮光層與這些信號線和該主遮光結構部分重疊，且與該條狀遮光層接觸；以及一第二部分的這些輔助遮光結構對應於一第二部分對應於這些掃描線的這些間隙，該第二部分的這些輔助遮光結構包括多個第二輔助遮光層，這些第二輔助遮光層與這些像素電極和該主遮光結構部分重疊，且與該條掃描線接觸。
5.如權利要求4所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於還包括多個電容器，這些電容器與這些掃描線鄰接，且對應於該第二部分的該間隙。
6.如權利要求3所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於一第一部分的這些輔助遮光結構對應於一第一部分對應於這些信號線的這些間隙，該第一部分的這些輔助遮光結構包括多個第三輔助遮光層，這些第三輔助遮光層與該條狀遮光層和該主遮光結構部分重疊，且與這些信號線接觸；以及一第二部分的這些輔助遮光結構對應於一第二部分對應於這些掃描線的這些間隙，該第二部分的這些輔助遮光結構包括多個第二輔助遮光層，這些第二輔助遮光層與這些像素電極和該主遮光結構部分重疊，且與該條掃描線接觸。
7.如權利要求6所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於還包括多個電容器，這些電容器與這些掃描線鄰接，且對應於該第二部分的該間隙。
8.如權利要求3所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於一第一部分的這些輔助遮光結構對應於一第一部分對應於這些信號線的這些間隙，該第一部分的這些輔助遮光結構包括多個第一和第三輔助遮光層，這些第一輔助遮光層與這些信號線和該主遮光結構部分重疊，且與該條狀遮光層接觸，這些第三輔助遮光層與該條狀遮光層和該主遮光結構部分重疊，且與這些信號線接觸；以及一第二部分的這些輔助遮光結構對應於一第二部分對應於這些掃描線的這些間隙，該第二部分的這些輔助遮光結構包括多個第二輔助遮光層，這些第二輔助遮光層與這些像素電極和該主遮光結構部分重疊，且與該條掃描線接觸。
9.如權利要求8所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，更包括多個電容器，這些電容器與這些掃描線鄰接，且對應於該第二部分的該間隙。
10.如權利要求3所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於這些輔助遮光結構對應於這些信號線的這些間隙，這些輔助遮光結構包括多個第一輔助遮光層，這些第一輔助遮光層與這些信號線和該主遮光結構部分重複，且與該條狀遮光層接觸。
11.如權利要求3所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於這些輔助遮光結構對應於這些信號線的這些間隙，這些輔助遮光結構包括多個第三輔助遮光層，這些第三輔助遮光層與該條狀遮光層和該主遮光結構部分重複，且與這些信號線接觸。
12.如權利要求3所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於這些輔助遮光結構對應於這些信號線的這些間隙，這些輔助遮光結構包括多個第一和第三輔助遮光層，這些第一輔助遮光層與這些信號線和該主遮光結構部分重疊，且與該條狀遮光層接觸，這些第三輔助遮光層與該條狀遮光層和該主遮光結構部分重疊，且與這些信號線接觸。
13.如權利要求1所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於這些間隙對應於這些掃描線，該主遮光結構包括多個魚骨狀遮光層，這些魚骨狀遮光層藉助多個魚骨狀空間彼此分隔，且與這些信號線平行，每一魚骨狀空間由多個主空間和多個間隙所構成。
14.如權利要求1所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於這些間隙對應於這些信號線，該主遮光結構包括多個魚骨狀遮光層，這些魚骨狀遮光層藉助多個魚骨狀空間彼此分隔，且與這些掃描線平行，每一魚骨狀空間由多個主空間和多個間隙所構成。
15.如權利要求1所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於還包括多個共用電極；一設置於這些共用電極之間的像素電極；以及一連接至這些共用電極上的共用電極線，這些共用電極由不透光材料所構成；其中，部分該共用電極線位於這些間隙下，且構成這些輔助遮光結構。
16.一種具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，包括一第一基板，該第一基板包括多個掃描線和多個信號線，這些掃描線和這些信號線相互垂直，並限定多個像素區；設置於該像素區的多個像素電極，多個條狀遮光層，這些條狀遮光層設置於這些信號線和這些像素電極之間，且與這些像素電極重疊，和多個輔助遮光結構；一第二基板，該第二基板包括一具有多個主空間和多個間隙的主遮光結構，其中這些主空間大致對應於這些像素區，每一間隙大致對應於這些掃描線或這些信號線，每一主空間連接至少一間隙，且每一間隙連接兩相鄰的主空間，和一設置於主遮光結構上的彩色濾光片；以及一設置該第一和第二基板之間的液晶層；其中，這些輔助遮光結構對應於這些間隙。
17.一種具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，包括彼此平行於一第一方向的第一和第二掃描線；彼此平行於一第二方向的第一和第二信號線，其中該第一和第二掃描線以及該第一和第二信號線限定一像素區；一具有一主空間和一間隙的主遮光結構，該主空間對應於該像素區，該間隙連接該主空間和一鄰近的主空間；以及一設置於該間隙下的輔助遮光結構，該輔助遮光層與該主遮光結構部分重疊。
18.如權利要求17所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於該間隙位於該第一掃描線上、一第一像素電極設置於該主空間下，一第二像素電極設置於該鄰近的主空間下，該第一和第二像素電極由該第一信號線所控制。
19.如權利要求18所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於一電容器鄰近該第一掃描線，且對應於該間隙。
20.如權利要求18所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於一輔助遮光結構鄰接該第一掃描線。
21.如權利要求17所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於該間隙位於該第一信號線上、一第一像素電極設置於該主空間下，一第二像素電極設置於該鄰近的主空間下，該第一和第二像素電極由該第一掃描線所控制。
22.如權利要求21所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於還包括在該第一信號線的兩側的第一和第二條狀遮光層；以及構成該輔助遮光結構的第一和第二輔助遮光層，且該第一和第二輔助遮光層與該第一信號線和該主遮光結構部分重疊，並分別與該第一和第二條狀遮光層接觸。
23.如權利要求21所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於還包括在該第一信號線的兩側的第一和第二條狀遮光層；以及構成該輔助遮光結構的第一和第二輔助遮光層，且該第一和第二輔助遮光層與該第一和第二條狀遮光層和該主遮光結構部分重疊，並與該第一信號線接觸。
24.如權利要求21所述的具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器，其特徵在於還包括在該第一信號線的兩側的第一和第二條狀遮光層；以及構成該輔助遮光結構的第一、第二、第三和第四輔助遮光層，其中該第一和第二輔助遮光層與該主遮光結構部分重疊，並分別與該第一和第二條狀遮光層接觸，該第三和第四輔助遮光層與該主遮光結構部分重疊，並與該第一信號線接觸，其中該第一和第二輔助遮光層與該第三和第四輔助遮光層互相重疊。
全文摘要
本發明提供一種具有非矩陣型遮光結構的平面顯示器。非矩陣型遮光結構包括主遮光結構和輔助遮光結構，其中主遮光結構具有間隙和對應於像素區的主空間，而輔助遮光結構對應於主遮光結構的間隙。每一間隙對應於掃描線或信號線。每一主空間與至少一間隙連接，而每一間隙連接兩相鄰的主空間。
文檔編號G02F1/1362GK1527107SQ200410033400
公開日2004年9月8日 申請日期2004年4月7日 優先權日2003年7月7日
發明者羅方禎, 胡冠彣 申請人:友達光電股份有限公司