防眩膜的製造方法和用於防眩膜製作的模具的製造方法

2023-05-17 08:32:11

專利名稱：防眩膜的製造方法和用於防眩膜製作的模具的製造方法
技術領域：
本發明涉及低濁度且防眩特性優異的防眩(antiglare)膜的製造方法、用於得到 該防眩膜的金屬模具的製造方法。
背景技術：
液晶顯示器和等離子顯示器面板、布勞恩管(陰極射線管CRT)顯示器、有機電致 發光(EL)顯示器等圖像顯示裝置，如果外部光映入其顯示面，則顯著損害辨識性。為了防 止這樣的外部光的映入，在重視畫質的電視機和個人電腦、在外部光強的室外使用的攝像 機和數位相機、利用反射光進行顯示的行動電話等中，目前為止在圖像顯示裝置的表面設 置有防止外光的映入的膜層。該膜層大致分為由實施了利用光學多層膜所致的幹涉的無反 射處理的膜形成的膜層和由實施了通過在表面形成微細的凹凸而使入射光散射並使映入 像模糊的防眩處理的膜形成的膜層。其中，前者的無反射膜，由於有必要形成光學膜厚均勻 的多層膜，因此成本升高。與其相對，後者的防眩膜能夠比較低價地製造，因此已廣泛用於 大型的個人電腦、監視器等用途。這樣的防眩膜，目前為止，通過例如在基材片材上塗布分散有微粒的樹脂溶液，調 節塗布膜厚而使微粒在塗布膜表面露出，從而在片材上形成無規的凹凸的方法等來製造。 但是，通過使這樣的微粒分散而製造的防眩膜，凹凸的配置、形狀由樹脂溶液中的 微粒的分 散狀態、塗布狀態等控制，因此難以獲得意向的凹凸，對於濁度低的防眩膜，存在不能獲得 充分的防眩效果的問題。此外，將這樣的現有的防眩膜配置於圖像顯示裝置的表面時，存在 容易產生整個顯示面因散射光而變得發白、成為顯示渾濁的顏色的所謂「泛白」的問題。此 夕卜，伴隨著最近的圖像顯示裝置的高清晰化，還具有容易產生圖像顯示裝置的像素和防眩 膜的表面凹凸形狀發生幹涉、結果產生亮度分布而難以看清的所謂「晃眼」現象的問題。為 了消除晃眼，也嘗試了在粘結劑樹脂和分散微粒之間設置折射率差來使光散射，但將這樣 的防眩膜配置在圖像顯示裝置的表面時，由於微粒和粘結劑樹脂界面的光的散射，還存在 對比度容易降低的問題。另一方面，也嘗試了在不含有微粒的情況下僅通過在透明樹脂層的表面形成的微 細的凹凸來顯現防眩性。例如，特開2002-189106號公報(專利文獻1)中公開了通過在壓 花鑄型和透明樹脂膜之間夾有電離放射線固化性樹脂的狀態下使該電離放射線固化性樹 脂固化，從而形成三維10點平均粗糙度和三維粗糙度基準面上的鄰接凸部之間的平均距 離分別滿足規定值的微細的凹凸，在上述透明樹脂膜上設置了形成有該凹凸的電離放射線 固化性樹脂層的形式的防眩膜。但是，即使利用專利文獻1中公開的防眩膜也難以實現足 夠的防眩效果、泛白的抑制、高對比度和晃眼的抑制。此外，作為不是在顯示裝置的顯示面配置的防眩膜而是在液晶顯示裝置的背面側 配置的光擴散層，使用表面形成了微細凹凸的膜也公開於例如特開平6-34961號公報(專 利文獻2)、特開2004-45471號公報(專利文獻3)、特開2004-45472號公報(專利文獻4) 等中。其中，在專利文獻3、4中，作為在膜的表面形成凹凸的手法，公開了如下方法將電離放射線固化性樹脂液填充到具有使凹凸反轉的形狀的壓花輥，使填充的樹脂接觸在輥凹版 的旋轉方向同步移動的透明基材，透明基材與輥凹版接觸時，使輥凹版和透明基材之間的 樹脂固化，固化的同時使固化樹脂與透明基材密合後，從輥凹版將固化後的樹脂和透明基 材的層合體剝離。但是，對於這樣的專利文獻3、4中公開的方法，能夠使用的電離放射線固化性樹脂液的組成受到限制，而且不能期待用溶劑稀釋而塗布時的流平性，因此預測膜厚的均勻 性存在問題。此外，對於專利文獻3、4中公開的方法，由於必須直接將樹脂液填充到壓花輥 凹版，為了確保凹凸面的均一性，對壓花輥凹版要求高機械精度，存在壓花輥的製作難的問題。其次，作為表面具有凹凸的膜的製作中使用的輥的製作方法，例如，上述專利文獻 2中公開了如下方法使用金屬等製作圓筒體，採用電子雕刻、蝕刻、噴砂等方法在其表面 形成凹凸。此外，特開2004-29240號公報(專利文獻5)中公開了採用噴珠粒(beads shot) 法製作壓花輥的方法，特開2004-90187號公報(專利文獻6)中公開了經過在壓花輥的表 面形成金屬鍍層的工序、對金屬鍍層的表面進行鏡面研磨的工序以及根據需要進行噴丸處 理的工序，製作壓花輥的方法。但是，這樣在壓花輥的表面實施了噴射處理的狀態下，產生由噴射粒子的粒徑分 布引起的凹凸徑的分布，同時難以控制由噴射得到的凹穴的深度，在再現性良好地得到防 眩功能優異的凹凸形狀方面存在問題。此外，上述的專利文獻1中，記載了優選使用在鐵的表面鍍鉻得到的輥，採用噴砂 法、噴珠粒法形成凹凸模面。還記載為了改善使用時的耐久性，優選對如此形成了凹凸的模 面實施鍍鉻等後使用，由此能夠實現硬膜化和防腐蝕。另一方面，上述專利文獻3、4各自的 實施例中記載了對鐵芯表面鍍鉻，進行#250的液體砂噴射處理後，再次進行鍍鉻處理，在 表面形成微細的凹凸形狀。但是，對於這樣的壓花輥的製作法，由於在硬度高的鉻鍍層上進行噴砂、噴珠粒， 所以難以形成凹凸，並且難以精密地控制形成的凹凸的形狀。此外，如特開2004-29672號 公報(專利文獻7)中也記載的那樣，鉻鍍層依賴於成為基底的材質及其形狀，常常表面粗 糙，在通過噴射形成的凹凸上形成由鉻鍍層產生的細小裂紋，因此存在難以對能夠形成什 麼樣的凹凸進行設計的課題。此外，由於存在由鉻鍍層產生的細小裂紋，因此還存在最終得 到的防眩膜的散射特性向不優選的方向變化的問題。此外，通過壓花輥母材表面的材質和 鍍種的組合，精加工的輥表面有多種多樣的變化，因此為了高精度地得到需要的表面凹凸 形狀，還存在必須選擇適當的輥表面的材質和適當的鍍種的問題。此外，即使得到了所希望 的表面凹凸形狀，因鍍種的不同，也有使用時的耐久性變得不足的情況。特開2000-284106號公報(專利文獻8)中記載了對基材實施噴砂加工後，實施蝕 刻工序和/或薄膜的層合工序，但對於噴砂工序前設置金屬鍍層既沒有記載也沒有暗示。 此外，特開2006-53371號公報(專利文獻9)中記載了研磨基材，實施噴砂加工後，實施非 電解鍍鎳。此外，特開2007-187952號公報(專利文獻10)中記載了對基材實施鍍銅或鍍鎳 後，進行研磨，實施噴砂加工後，實施鍍鉻，製作壓花版，此外，特開2007-237541號公報(專 利文獻11)中記載了實施鍍銅或鍍鎳後，進行研磨，實施噴砂加工後，實施蝕刻工序或鍍銅 工序後實施鍍鉻，製作壓花版。對於這些使用噴砂加工的製法，難以在精密控制的狀態下形成表面凹凸形狀，因此製作表面凹凸形狀具有50 μ m以上的周期的比較大的凹凸形狀。結 果存在如下問題這些大的凹凸形狀和圖像顯示裝置的像素幹涉，容易發生產生亮度分布 而難以看清的所謂晃眼。

發明內容
本發明的目的在於，提供顯示優異的防眩性能、同時防止泛白所致的視認性的降 低、配置在高清晰的圖像顯示裝置的表面時不產生晃眼而顯現高對比度的防眩膜的製造方 法以及用於得到防眩膜的金屬模具的製造方法。本發明的防眩膜的製造方法，是包括基於無規配置有多個點徑不同的多種點的 圖形而在透明支持體上形成微細凹凸表面的防眩膜的製造方法，其中，平均點徑為6 30 μ m,點徑的變動係數為0. 1 0. 5，並且圖形的能譜在大於0 μ πΓ1且小於等於0. 04 μ πΓ1 中不具有最大值。本發明的防眩膜的製造方法中，優選基於上述圖形製作模具，將上述模具的凹凸 面轉印到透明支持體上，然後將轉印了凹凸面的透明支持體從模具剝離。 本發明還提供一種方法，其為上述模具的製造方法，其包括在模具用基材的表面 實施鍍銅或鍍鎳的第1鍍敷工序、對通過第1鍍敷工序實施了鍍敷的表面進行研磨的研磨 工序、在經研磨的面塗布形成感光性樹脂膜的感光性樹脂膜塗布工序、在感光性樹脂膜上 曝光上述圖形的曝光工序，將曝光了上述圖形的感光性樹脂膜顯影的顯影工序、使用經顯 影的感光性樹脂膜作為掩模進行蝕刻處理而在經研磨的鍍敷面形成凹凸的蝕刻工序、將感 光性樹脂膜剝離的感光性樹脂膜剝離工序、和對形成的凹凸面實施鍍鉻的第2鍍敷工序。本發明的模具的製造方法，優選在上述感光性樹脂膜剝離工序和上述第2鍍敷工 序之間包含通過蝕刻處理使形成的凹凸面鈍化的第2蝕刻工序。本發明的模具的製造方法，還優選實施了鍍鉻後，不對表面進行研磨，將鍍鉻面直 接用作模具的凹凸面。本發明的模具的製造方法，還優選由鍍鉻形成的鉻鍍層具有1 ΙΟμπι的厚度。根據本發明的防眩膜的製造方法和模具的製造方法，能夠再現性良好地製造顯示 優異的防眩性能、同時防止泛白所致的辨識性的降低、而且配置在高清晰的圖像顯示裝置 的表面時不產生晃眼而顯現高對比度的防眩膜。由與附圖關聯理解的與本發明有關的以下詳細說明，本方法的上述和其他目的、 特徵、局面和優點變得清晰。


圖1為示意地表示本發明的防眩膜的製造方法中能使用的優選的一例圖形的放 大圖。圖2為示意地表示點徑的變動係數為0時的圖形的放大圖。圖3為示意地表示離散地得到表示圖形的函數g(x，y)或t(x，y)的、離散地得到 圖形的灰度等級或透射率的狀態的圖。圖4為用灰度等級的二元離散函數g(x，y)表示圖1所示圖形的圖像數據的圖。圖5為用白和黑的層次表示將圖4所示的灰度等級的二元離散函數g(x，y)進行離散傅立葉變換而得到的能譜G2 (fx，fy)的圖。圖6為表示圖5所示的能譜G2(fx，fy)的fx=0的截面的圖。圖7為示意地表示本發明的模具的製造方法的前半部分的優選一例的圖。圖8為示意地表示本發明的模具的製造方法的後半部分的優選一例的圖。圖9為示意地表示第1蝕刻工序中側向蝕刻進行的狀態的圖。圖10為示意地表示由第1蝕刻工序形成的凹凸面通過第2蝕刻工序鈍化的狀態 的圖。圖11為用二元函數表示由比較例1的模具製作時使用的圖形得到的圖像數據的 灰度等級的圖。圖12為用二元函數表示由比較例2的模具製作時使用的圖形得到的圖像數據的 灰度等級的圖。圖13為表示比較例1和比較例2中使用的圖形的能譜的fx = 0的截面的圖。
具體實施例方式〈防眩膜的製造方法〉以下對本發明優選的實施方式進行詳細說明。本發明的防眩膜的製造方法，包括 為了高精度地形成具有特定的空間頻率分布的微細凹凸表面形狀(微細凹凸表面)，基於 無規地配置有多個具有平均點徑為6 30 μ m、點徑的變動係數為0. 1 0. 5的多種點徑 的點以使能譜在大於0 μ πΓ1且小於等於0. 04 μ πΓ1中不具有最大值的圖形，在透明支持體上 形成微細凹凸表面。在這裡，所謂「圖形」，意味著用於形成防眩膜的微細凹凸表面的圖像數 據、具有透光部和遮光部的掩模等。圖1為示意地表示本發明的防眩膜的製造方法中能使用的優選的一例圖形(具體 為在後述的實施例1中使用的圖形)的放大圖。本發明中，將黑色圓形表示的區域1記為 「點」，將點的直徑記為「點徑」，將圖形中的全部點的點徑的平均值記為「平均點徑」。此外， 所謂「點徑的變動係數」是指用點徑的標準差除以平均點徑得到的值。圖1所示的圖形的 平均點徑為18 μ m，點徑的變動係數為0. 22。從抑制晃眼的觀點出發，防眩膜的微細凹凸表面優選不包含50 μ m以上的長周期 成分。但是，對於只包含ΙΟμπι以下的短周期成分的微細凹凸表面，不顯現優異的防眩性 能。因此，為了顯現足夠的防眩效果，同時充分地防止晃眼，優選形成含有具有10 50μπι 的周期的表面形狀作為主要成分的微細凹凸表面。本發明人等發現，通過製作基於無規配置有多個點的圖形而在透明支持體上形成 了微細的凹凸形狀的防眩膜，所述的點具有使平均點徑和點徑的變動係數分別為上述規定 範圍內的多種點徑，從而使該防眩膜的微細凹凸表面顯示特定的空間頻率分布，在顯現足 夠的防眩效果的同時，充分地防止晃眼。用於形成防眩膜的微細凹凸表面的圖形的平均點 徑小於6 μ m時，在得到的防眩膜沒有形成用於有效顯現防眩性的周期大於10 μ m的微細凹 凸表面。此外，平均點徑大於30 μ m時，在得到的防眩膜上形成周期為50 μ m以上的微細凹凸表面，結果配置於高清晰的圖像顯示裝置的表面時發生晃眼。用於形成微細凹凸表面的圖形的點徑的變動係數小於0.1時，即使無規配置點， 圖形也具有局部的規則性。由這樣的圖形得到的微細凹凸表面也具有局部的規則性。具有帶有局部規則性的微細凹凸表面的防眩膜，觀察到幹涉色，辨識性降低。此外，點徑的變 動係數大於0.5時，存在多個點徑大的點，在由這樣的圖形得到的防眩膜容易形成周期為 50 μ m以上的微細凹凸表面，結果配置於高清晰的圖像顯示裝置的表面時發生晃眼。圖2為 示意地表示點徑的變動係數為0時的圖形的放大圖。圖2所示的實例中，產生局部規則排 列的部位。其次，對圖形的能譜進行說明。圖形的能譜，例如如果為圖像數據，則在將圖像數 據轉換為256灰度等級的灰色標度後，用二元函數g(x，y)表示圖像數據的灰度等級，將得 到的二元函數g(x，y)進行傅立葉變換而計算二元函數G(fx，fy)，將得到的二元函數G(fx， fy)平方而求得。此外，如果是具有透光部和遮光部的掩模，用二元函數t(x，y)表示透射 率，將得到的二元函數t(x，y)進行傅立葉變換而計算二元函數T(fx，fy)，將得到的二元函 數T(fx，fy)平方而求得。在這裡，χ和y表示圖像數據面內或掩模面內的正交坐標，
表示χ方向的頻率和y方向的頻率。在這裡，傅立葉變換由式(1)定義。此外，式(1)中的 η為圓周率，i為虛數單位，二元函數h(x，y)表示80^，7)30^，7)，二元函數!1仗，0表 示 G(fx，fy)、T(fx，fr)。 OQ CO"(人』厶)三JJM、力eXp[—2對(_/>十/；力}&辦式⑴
-OO-OO實際上求取圖形的能譜時，二元函數g(x，y)、t(x，y)不是以函數形式得到，多是 作為離散的數據點的集合即離散函數而得到。圖3為示意地表示離散地得到表示圖形的函 數g(x，y)或t(x，y)的、離散地得到圖形的灰度等級或透射率的狀態的圖。如圖3所示， 用(X，y)表示圖形面內的正交坐標，在圖形面3上用虛線表示χ軸方向上每ΔΧ分割的線 和y軸方向上每Ay分割的線，在實際的測定中，圖像數據的灰度等級、掩模的透射率作為 圖形面3上的各虛線的每個交點的離散的值而得到。得到的值的數由測定範圍和ΔΧ及Ay決定，如圖3所示，將χ軸方向的測定範圍 記為X = M Δ χ，將y軸方向的測定範圍記為Y = NAy時，則得到的值的數為(M+l) X (N+1) 個。如圖3所示，將膜投影面3上的著眼點A的坐標記為(jAx，kAy)(其中，j為 O M，k為O N。)時，則圖形為圖像數據時，著眼點A處的灰度等級可以表示為g(jAx， k Δ y)，圖形為掩模時，著眼點A處的灰度等級可以表示為t (j Δ χ，k Δ y)。在這裡，就測定間隔ΔΧ和Ay而言，為了高精度地評價圖形的頻率分布，優選Δχ 禾口 Δ y均為5 μ m以下，更優選為2 μ m以下。此外，計算範圍X和Y，由於圖形的能譜的分辨 能力必須為Ο.ΟΙμπΓ1以下，所以優選X和Y均為200μπι以上，更優選X和Y均為500 μ m 以上。這樣，由作為(M+l) X (N+1)個值的集合得到的離散函數g(x，y)或t(x，y)和由式 (2)定義的離散傅立葉變換求出離散函數G(fx，fy)或T(fx，fy)，通過將離散函數G(fx，fy) 或T(fx，fy)平方，求出能譜的離散函數G2(fx，fy)、離散函數T2(fx，fy)。其中，式⑵中的1 為-(M+l)/2 (M+l)/2的整數，m為-(N+l)/2 (N+l)/2的整數。此外，Δ fx和Δ fy分 別為χ方向和y方向的頻率間隔，由式⑶和式⑷定義。ffi^L.^fy)^1f Xh(jAx,AAy)exp[-2π {βAxAfx + 細AM/J式(2)
V (Μ + 1)(7V + 1) ；=0 Ie=Q 圖4為用灰度等級的二元離散函數g(x，y)表示圖1所示的圖形的圖像數據。作 為圖4所示的圖形的圖像數據以12800dpi的256灰度等級製作。此外，圖4所示的二元離 散函數g(x，y)具有512X512個值，水平分辨能力Δχ和Ay均為2μπι。圖5為用白和黑的層次表示將圖4所示的灰度等級的二元離散函數g(x，y)進 行離散傅立葉變換而得到的能譜G2(fx，fy)的圖。圖5所示的離散函數G2 (fx，fy)也具有 512X512個值，水平分辨能力Afx和AfVSO.OOlOynT1。如圖4所示，為了製造本發明的 防眩膜而製作的圖形是無規的，因此圖5的能譜以原點為中心而對稱。因此，圖形的能譜的 最大值可由通過能譜的原點的截面求得。圖6為表示圖5所示的能譜G2(fx，fy)的仁=0的 截面的圖。由此可知，圖4所示的圖形在空間頻率0. 045 μ πΓ1具有最大值，但在大於0 μ πΓ1 且小於等於0. 04 μ πΓ1中不具有最大值。在用於製作防眩膜的圖形的能譜在大於0 μ πΓ1且小於等於0. 04 μ πΓ1中具有最大 值的情況下，在得到的防眩膜上容易形成周期為50μπ 以上的微細凹凸表面，其結果，配置 於高清晰的圖像顯示裝置的表面時產生晃眼。具有使用了上述圖形的微細凹凸表面的防眩膜，可以採用印刷法、圖形曝光法、壓 花法等製造。例如，對於印刷法，可以通過使用了光固化性樹脂或熱固化性樹脂的苯胺印 刷、絲網印刷、噴墨印刷等，在透明支承體上印刷上述圖形而製作後，進行乾燥，或者通過活 性光線或加熱使其固化，從而製造本發明的防眩膜。例如，在苯胺印刷中，製作基於上述圖形的凸版即柔性版，在柔性版的凸部塗布光 固化性樹脂，將塗布的光固化性樹脂轉印到透明支承體上後，通過活性光線進行固化，從而 可以在透明支承體上形成基於上述圖形的微細凹凸。如果是絲網印刷，可以製作基於上述 圖形的孔版即絲網，使用該絲網和光固化性樹脂，在透明支承體上印刷上述圖形後，利用活 性光線將光固化性樹脂固化，從而可以在透明支承體上形成微細凹凸。如果是噴墨印刷，直 接使用光固化性樹脂在透明支承體上印刷上述圖形，然後利用活性光線將光固化性樹脂固 化，從而可以在透明支承體上形成微細凹凸。採用這樣的印刷法形成的微細凹凸一般傾斜 角度急陡，存在在透明支承體上沒有形成樹脂層的部位，因此優選在採用印刷法形成的微 細凹凸上進一步塗布光固化性樹脂，使傾斜角度平滑，同時在透明支承體上全面形成樹脂 層。對於圖形曝光法，在透明支承體上塗布了光固化性樹脂後，通過使用了上述圖形 的利用雷射進行的直描曝光、介由具有上述圖形的掩模的全面曝光，進行圖形曝光，根據需 要顯影后，通過活性光線或加熱使其固化，從而可以製造本發明的防眩膜。對於利用雷射進 行的直描曝光，在透明支承體上塗布光固化性樹脂後，利用雷射光將上述圖形直描曝光，通 過顯影使曝光的部位殘存或溶解，進而對殘存的光固化性樹脂照射活性光線而使其完全固 化，由此可以在透明支承體上形成基於上述圖形的微細凹凸。通過這樣的利用雷射進行的 直描曝光形成的微細凹凸，一般傾斜角度急陡，因此優選在通過利用雷射進行的直描曝光 形成的微細凹凸上進一步塗布光固化性樹脂，使傾斜角度平滑。在介由掩模的全面曝光中，製作具有上述圖形的掩模，在透明支承體上塗布光固化性樹脂後，介由該掩模將光固化性 樹脂曝光，在顯影工序中使曝光的部位殘存或溶解，進而對殘存的光固化性樹脂照射活性 光線而使其完全固化，從而可以在透明支承體上形成基於上述圖形的微細凹凸。在介由掩 模的全面曝光中，也可以通過適當控制接近間隙來控制微細凹凸的傾斜角度，也可以通過 將掩模製作成灰度等級掩模來控制曝光的程度，從而控制微細凹凸的傾斜角度。對於壓花法，使用上述的圖形製造具有微細凹凸表面的模具，將製造的模具的凹 凸面轉印到透明支承體上，接著從模具剝離轉印了凹凸面的透明支承體，從而可以製造本 發明的防眩膜。在這裡，從高精度並且再現性良好地製造微細凹凸表面的觀點出發，本發明 的防眩膜優選採用壓花法製造。 在這裡，作為壓花法，可以例示使用光固化性樹脂的UV壓花法、使用熱塑性樹脂 的熱壓花法，其中，從生產率的觀點出發，優選UV壓花法。UV壓花法是通過在透明支承體的表面形成光固化性樹脂層，邊將該光固化性樹脂 層壓到模具的凹凸面邊使其固化，從而將模具的凹凸面轉印到光固化性樹脂層的方法。具 體地，將紫外線固化型樹脂塗布到透明支承體上，在使塗布的紫外線固化型樹脂與模具的 凹凸面密合的狀態下從透明支承體側照射紫外線，使紫外線固化型樹脂固化，然後從模具 剝離形成了固化後的紫外線固化型樹脂層的透明支承體，從而將模具的形狀轉印於紫外線 固化型樹脂。使用UV壓花法時，作為透明支承體，只要是基本上光學上透明的膜即可，可以列 舉例如三乙醯纖維素膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚碳酸酯膜、以 降冰片烯系化合物為單體的非晶性環狀聚烯烴等熱塑性樹脂的溶劑流延膜、擠出膜等樹脂膜。此外，對使用UV壓花法時的紫外線固化型樹脂的種類並無特別限定，可以使用市 售的適宜產品。此外，也可以使用在紫外線固化型樹脂中組合適當選擇的光引發劑、即使是 波長比紫外線長的可見光也可固化的樹脂。具體地，可以分別單獨使用三羥甲基丙烷三丙 烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯，或將它們的2種以上混合使用，優選使用 將它們與Irgacure 907 (汽巴特種化學品公司制)、Irgacure 184 (汽巴特種化學品公司 制)、Lucirin TP0(BASF公司制)等光聚合引發劑混合的產物。另一方面，熱壓花法是在加熱狀態下將由熱塑性樹脂形成的透明支承體壓於模 具，將模具的表面形狀轉印於透明支承體的方法。作為熱壓花法中使用的透明支承體，只要 是基本上透明的支承體，可以是任何支承體，可以使用例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、 聚對苯二甲酸乙二醇酯、三乙醯纖維素、以降冰片烯系化合物為單體的非晶性環狀聚烯烴 等熱塑性樹脂的溶劑流延膜、擠出膜等。這些透明樹脂膜也適合用作上述說明的UV壓花法 中用於塗布紫外線固化型樹脂的透明支承體。以下對本發明的防眩膜的製造中使用的模具的製造方法進行說明。對於本發明的 防眩膜的製造中使用的模具的製造方法，只要是能得到使用了上述圖形的規定的表面形狀 的方法，並無特別限制，但為了高精度且再現性良好地製造微細凹凸表面，優選基本上包含 [1]第1鍍敷工序、[2]研磨工序、[3]感光性樹脂膜塗布工序、[4]曝光工序、[5]顯影工 序、[6]第1蝕刻工序、[7]感光性樹脂膜剝離工序和[8]第2鍍敷工序。圖7為示意地表示模具的製造方法的前半部分的優選一例的圖。圖7中示意地表示各工序中模具的截面。 對於本發明的模具的製造方法，以下邊參照圖7邊對本模具的製造方法的各工序進行詳細 說明。[1]第1鍍敷工序在本模具的製造方法中，首先，對用於模具的基材的表面實施鍍銅或鍍鎳。這樣，通過對模具用基材的表面實施鍍銅或鍍鎳，能夠改善後面的第2鍍敷工序中鍍鉻的密合 性、光澤性。即，作為背景技術，如上所述，在對鐵等的表面實施鍍鉻時，或者採用噴砂法、噴 珠粒法等在鍍鉻表面形成凹凸後再次實施鍍鉻時，表面容易粗糙，產生細小的裂紋，模具的 表面的凹凸形狀變得難以控制。對此，首先，通過對基材表面實施鍍銅或鍍鎳，能夠消除這 樣的不利情況。這是因為，鍍銅或鍍鎳的被覆性高，而且平滑化作用強，因此將模具用基材 的微小的凹凸、空洞(cavity)等添埋而形成平坦且具有光澤的表面。由於這些鍍銅或鍍鎳 的特性，即使在後述的第2鍍敷工序中實施鍍鉻，認為起因於基材上存在的微小凹凸、空穴 的鍍鉻表面的粗糙得以消除，而且由於鍍銅或鍍鎳的高被覆性，因此使細小的裂紋的產生 減少。作為第1鍍敷工序中使用的銅或鎳，除了可以是各自的純金屬外，也可以是以銅 為主體的合金或者以鎳為主體的合金，因此，本說明書中所說的「銅」是包括銅和銅合金的 含義，而「鎳」是包括鎳和鎳合金的含義。鍍銅和鍍鎳可以分別用電解鍍進行，也可以用非 電解鍍進行，但通常採用電解鍍。實施鍍銅或鍍鎳時，如果鍍層太薄，不能徹底排除基底表面的影響，因此其厚度優 選為50 μ m以上。鍍層厚度的上限不是臨界值，從與成本的關係出發，一般至多500 μ m左 右則足夠。再有，本發明的模具的製造方法中，作為基材的形成中適合使用的金屬材料，從成 本的觀點出發，可以列舉鋁、鐵等。此外，從處理的便利性出發，更優選輕質的鋁。其中所說 的鋁、鐵，除了可以各自是純金屬外，也可以是以鋁或鐵為主體的合金。此外，就基材的形狀而言，只要是本領域中以往採用的適當的形狀，則並無特別限 制，可以是平板狀，也可以是圓柱狀或圓筒狀的卷材。如果使用卷狀的基材製作模具，具有 能夠以連續的卷狀製造防眩膜的優點。[2]研磨工序在接下來的研磨工序中，對在上述第1鍍敷工序中實施了鍍銅或鍍鎳的基材表面 進行研磨。優選經過該工序將基材表面研磨到接近鏡面的狀態。這是因為，為了達到所需 的精度，大多數情況下是對成為基材的金屬板、金屬卷實施切削、磨削等機械加工，由此在 基材表面殘留加工孔眼，在實施了鍍銅或鍍鎳的狀態下，有時也殘留這些加工孔眼，而且在 鍍敷完的狀態下並不一定表面變得完全平滑。即，即使對殘留有這樣深的加工孔眼等的表 面實施了後述的工序，有時加工孔眼等的凹凸比實施了各工序後形成的凹凸還深，有可能 殘留加工孔眼等的影響，使用這樣的模具製造防眩膜時，有時對光學特性產生不能預期的 影響。圖7(a)示意地表示平板狀的模具用基材7具有在第1鍍敷工序中對其表面實施鍍 銅或鍍鎳(對該工序中形成的鍍銅或鍍鎳的層沒有圖示)、進而通過研磨工序進行了鏡面 研磨的表面8的狀態。對於對實施了鍍銅或鍍鎳的基材表面進行研磨的方法，並無特別限制，可以使用機械研磨法、電解研磨法、化學研磨法的任何方法。作為機械研磨法，可以例示超精加工法、 研磨法、流體研磨法、拋光(buff)研磨法等。研磨後的表面粗糙度，優選按照JIS B 0601 的規定的中心線平均粗糙度Ra為0. 1 μ m以下，更優選為0. 05 μ m以下。如果研磨後的中 心線平均粗糙度Ra大於0. 1 μ m,有可能對最終的模具表面的凹凸形狀殘留研磨後的表面 粗糙度的影響，所以優選。此外，對於中心線平均粗糙度Ra的下限並無特別限制，從加工時 間、加工成本的觀點出發，自然存在限度，無特別指定的必要性。[3]感光性樹脂膜塗布工序在接下來的感光性樹脂膜塗布工序中，將感光性樹脂溶解於溶劑得到的溶液塗布 到通過上述研磨工序實施了鏡面研磨的基材7的表面8，進行加熱、乾燥，從而形成感光性 樹脂膜。圖7 (b)示意地表示在基材7的表面8形成了感光性樹脂膜9的狀態。作為感光性樹脂，可以使用以往公知的感光性樹脂。例如，作為具有感光 部分固化 的性質的負型的感光性樹脂，可以使用分子中具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基的丙烯酸酯的 單體、預聚物，雙疊氮化物(bisazide)和二烯橡膠的混合物，聚肉桂酸乙烯酯系化合物等。 此外，作為具有通過顯影使感光部分洗脫、只殘留未感光部分的性質的正型的感光性樹脂， 可以使用酚醛樹脂系、酚醛清漆樹脂系等。此外，感光性樹脂中根據需要可以配合增感劑、 顯影促進劑、密合性改進劑、塗布性改進劑等各種添加劑。將這些感光性樹脂塗布於基材7的表面8時，為了形成良好的塗膜，優選在適當 的溶劑中稀釋而塗布，可以使用溶纖劑系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶 齊U、高極性溶劑等。作為塗布感光性樹脂溶液的方法，可以使用凸液塗布(meniscus coat)、噴泉式塗 布、浸塗、旋轉塗布、輥式塗布、繞線棒塗布、氣刀塗布、刮刀塗布、簾式塗布等公知的方法。 塗布膜的厚度優選在乾燥後為1 6μπι的範圍。[4]曝光工序在接下來的曝光工序中，將上述能譜在大於0 μ HT1且小於等於0. 04 μ πΓ1中不具有 最大值的圖形在上述感光性樹脂膜塗布工序中形成的感光性樹脂膜9上曝光。曝光工序中 使用的光源可以按照塗布的感光性樹脂的感光波長、感度等適當選擇，可以使用例如高壓 水銀燈的g線(波長436nm)、高壓水銀燈的h線(波長405nm)、高壓水銀燈的i線(波長 365nm)、半導體雷射(波長830nm、532nm、488nm、405nm 等)、YAG 雷射(波長1064nm)、KrF 準分子雷射(波長248nm) ,ArF準分子雷射(波長193nm)、F2準分子雷射(波長157nm)寸。本發明的模具的製造方法中為了高精度地形成表面凹凸形狀，優選在曝光工序中 在精密控制的狀態下將上述圖形在感光性樹脂膜上曝光。本發明的模具的製造方法中，為 了高精度地將上述圖形在感光性樹脂膜上曝光，優選在計算機上將圖形作成圖像數據，利 用從計算機控制的雷射頭髮出的雷射光描畫基於該圖像數據的圖形。進行雷射描畫時，可 使用印刷版製作用的雷射描畫裝置。作為這樣的雷射描畫裝置，可以舉出例如LaserStream FX((株)Think Laboratory 制)等。圖7(c)示意地表示將圖形曝光於感光性樹脂膜9的狀態。用負型的感光性樹脂 形成感光性樹脂膜時，曝光的區域10通過曝光進行樹脂的交聯反應，相對於後述的顯影液 的溶解性下降。因此，顯影工序中沒有曝光的區域11被顯影液溶解，只有曝光的區域10殘留在基材表面上而成為掩模。另一方面，用正型的感光性樹脂形成感光性樹脂膜時，曝光的 區域10通過曝光，將樹脂的結合切斷，相對於後述的顯影液的溶解性增加。由此，顯影工序 中曝光的區域10被顯影液溶解，只有未曝光的區域11殘留在基材表面上而成為掩模。[5]顯影工序在接下來的顯影工序中，將負型的感光性樹脂用於感光性樹脂膜9時，未曝光的 區域11被顯影液溶解，只有已曝光的區域10殘存在模具用基材上，在接下來的第1蝕刻工 序中作為掩模發揮作用。另一方面，將正型的感光性樹脂用於感光性樹脂膜9時，只有已曝 光的區域10被顯影液溶解，未曝光的區域11殘存在模具用基材上，作為接下來的第1蝕刻 工序中的掩模發揮作用。對於顯影工序中使用的顯影液，可以使用以往公知的顯影液。可以列舉例如氫 氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、正矽酸鈉、氨水等無機鹼類，乙胺、正丙胺等伯胺類，二 乙胺、二正丁胺等仲胺類，三乙胺、甲基二乙基胺等叔胺類，二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺 類，四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、三甲基羥乙基氫氧化銨等季銨鹽，吡咯、哌啶等環狀 胺類等鹼性水溶液，二甲苯、甲苯等有機溶劑等。
對於顯影工序中的顯影方法並無特別限制，可以使用浸漬顯影、噴射顯影、刷塗顯 影、超聲波顯影等方法。圖7 (d)示意地表示將負型的感光性樹脂用於感光性樹脂膜9進行了顯影處理的 狀態。圖7 (c)中未曝光的區域11被顯影液溶解，只有已曝光的區域10殘留在基材表面上 而成為掩模12。圖7(e)示意地表示將正型的感光性樹脂用於感光性樹脂膜9進行了顯影 處理的狀態。圖7 (c)中曝光的區域10被顯影液溶解，只有未曝光的區域11殘留在基材表 面上而成為掩模12。[6]第1蝕刻工序在接下來的第1蝕刻工序中，使用上述顯影工序後在模具用基材表面上殘存的感 光性樹脂膜作為掩模，主要將無掩模的部位的模具用基材蝕刻。圖8為示意地表示本模具 的製造方法的後半部分的優選一例的圖。圖8(a)示意地表示通過第1蝕刻工序主要將無 掩模的部位13的模具用基材7蝕刻的狀態。掩模12的下部的模具用基材7沒有從模具用 基材表面被蝕刻，但隨著蝕刻的進行，進行從無掩模的區域13的蝕刻。因此，在掩模12和 無掩模的區域13的邊界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蝕刻。在這樣的掩模12 和無掩模的區域13的邊界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蝕刻，以下將此稱為側 向蝕刻。圖9中示意地示出側向蝕刻的進行。圖9的點線14階段性地表示隨蝕刻的進行 而變化的模具用基材的表面。第1蝕刻工序中的蝕刻處理，通常通過使用氯化鐵(FeCl3)液、氯化銅(CuCl2)液、 鹼蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，將金屬表面腐蝕而進行，但也可以使用鹽酸、硫酸等強酸，也可 以使用通過施加與電解鍍時相反的電位的反電解蝕刻。在實施了蝕刻處理時的模具用基材 上形成的凹形狀，因基底金屬的種類、感光性樹脂膜的種類和蝕刻手法等而異，因此不能一 概而論，蝕刻量為IOym以下時，從與蝕刻液接觸的金屬表面大致各向同性地被蝕刻。這裡 所說的蝕刻量，是由蝕刻削減的基材的厚度。第1蝕刻工序中的蝕刻量優選為1 50 μ m。蝕刻量小於1 μ m時，金屬表面幾乎 無法形成凹凸形狀，成為大致平坦的模具，因此不顯示防眩性。此外，蝕刻量超過50 μ m時，金屬表面形成的凹凸形狀的高低差增大，使用得到的模具製作的防眩膜泛白，因此不優選。 第1蝕刻工序中的蝕刻處理可以採用1次的蝕刻處理來進行，也可以分2次以上來進行蝕 刻處理。在這裡，分2次以上進行蝕刻處理時，2次以上的蝕刻處理中的蝕刻量的合計優選 為1 50 μ m。[7]感光性樹脂膜剝離工序在接下來的感光性樹脂膜剝離工序中，將第1蝕刻工序中作為掩模使用的殘存的 感光性樹脂膜完全溶解除去。在感光性樹脂膜剝離工序中使用剝離液將感光性樹脂膜溶 解。作為剝離液，可以使用與上述的顯影液同樣的液體，通過改變PH、溫度、濃度和浸漬時 間等，將使用了負型的感光性樹脂膜時的曝光部的感光性樹脂膜、使用了正型的感光性樹 脂膜時的非曝光部的感光性樹脂膜完全溶解除去。對於感光性樹脂膜剝離工序中的剝離方 法，也無特別限制，可以使用浸漬顯影、噴射顯影、刷塗顯影、超聲波顯影等方法。圖8 (b)示意地表示通過感光性樹脂膜剝離工序將第1蝕刻工序中作為掩模使用 的感光性樹脂膜完全溶解除去的狀態。通過感光性樹脂膜形成的掩模12和蝕刻，在模具用 基材表面形成第1表面凹凸形狀15。[2]第2鍍敷工序 接著，通過實施鍍鉻，使表面的凹凸形狀鈍化。圖8(c)中示出在如上所述通過第 1蝕刻工序的蝕刻處理形成的表面凹凸形狀上形成鉻鍍層16，使表面17鈍化的狀態。本發明中，在平板、卷材等的表面採用有光澤、硬度高、摩擦係數小、能賦予良好的 脫模性的鍍鉻。鍍鉻的種類並無特別限制，優選使用稱為所謂光澤鍍鉻、裝飾用鍍鉻等的顯 現良好光澤的鍍鉻。通常通過電解進行鍍鉻，作為其鍍浴，使用含有鉻酸酐(CrO3)和少量 硫酸的水溶液。可以通過調節電流密度和電解時間來控制鍍鉻的厚度。上述的特開2002-189106號公報、特開2004-45472號公報、特開2004-90187號公 報等中公開了採用鍍鉻，但因模具的鍍敷前的基底和鍍鉻的種類，常常在鍍敷後表面粗糙， 或產生大量由鍍鉻引起的微小的裂紋，其結果，製作的防眩膜的光學特性向不優選的方向 發展。鍍敷表面粗糙的狀態的模具，不適合用於製造防眩膜。原因在於，一般為了消除不光 滑，在鍍鉻後對鍍敷表面進行研磨，如後所述，本發明中不優選鍍敷後的表面的研磨。本發 明中，通過對基底金屬實施鍍銅或鍍鎳，將容易因鍍鉻產生的這樣的不利情況消除。再有，在第2鍍敷工序中，不優選實施鍍鉻以外的鍍敷。原因在於，對於鉻以外的 鍍敷，硬度、耐磨損性降低，因此作為模具的耐久性降低，使用中凹凸磨損，或者模具損傷。 由這樣的模具得到的防眩膜，難以獲得足夠的防眩功能的可能性高，此外，在膜上產生缺陷 的可能性也升高。此外，如上述的特開2004-90187號公報等中公開的那樣研磨鍍敷後的表面，對於 本發明也不優選。其基於以下等理由通過研磨，最外表面產生平坦的部分，因此有可能導 致光學特性的惡化，而且形狀的控制因素增加，因此再現性好的形狀控制變得困難。這樣，對於本發明，優選實施鍍鉻後，不研磨表面而將鍍鉻面直接地用作模具的凹 凸面。原因在於，通過對形成了微細表面凹凸形狀的表面實施鍍鉻，使凹凸形狀鈍化，同時 獲得其表面硬度提高的模具。此時的凹凸的鈍化情況，因基底金屬的種類、由第1蝕刻工序 得到的凹凸的尺寸和深度、以及鍍敷的種類、厚度等而異，因此不能一概而論，在控制鈍化 情況方面最大的因素仍是鍍敷厚度。如果鍍鉻的厚度薄，使鍍鉻加工前得到的凹凸的表面形狀鈍化的效果不足，將其凹凸形狀轉印到透明膜而得到的防眩膜的光學特性不會太好。 另一方面，如果鍍敷厚度過厚，則生產率變差，此外，產生稱為結狀物的突起狀的鍍敷缺陷， 因此不優選。因此，鍍鉻的厚度優選為1 ΙΟμπι的範圍內，更優選為3 6μπι的範圍內。該第2鍍敷工序中形成的鉻鍍層，優選以維氏硬度達到800以上的方式形成，更優 選以達到1000以上的方式形成。鉻鍍層的維氏硬度小於800時，模具使用時的耐久性降 低，而且因鍍鉻而使硬度降低，這是因為鍍敷處理時鍍浴組成、電解條件等產生異常的可能 性高，對缺陷的發生狀況也造成不優選的影響的可能性高。此外，用於製作本發明的防眩膜的模具的製造方法中，優選上述[7]感光性樹脂 膜剝離工序和[8]第2鍍敷工序之間包含通過蝕刻處理使由第1蝕刻工序形成的凹凸面鈍 化的第2蝕刻工序。第2蝕刻工序中，通過蝕刻處理使由將感光性樹脂膜用作掩模的第1 蝕刻工序形成的第1表面凹凸形狀15鈍化。通過該第2蝕刻處理，由第1蝕刻處理形成的 第1表面凹凸形狀15中的表面傾斜急陡的部分消失，使用得到的模具製造的防眩膜的光學 特性向優選的方向變化。圖10中示出了通過第2蝕刻工序，基材7的第1表面凹凸形狀15 鈍化，使表面傾斜急陡的部分鈍化，形成具有緩和的表面傾斜的第2表面凹凸形狀18的狀 態。第2蝕刻工序的蝕刻處理也與第1蝕刻工序一樣，通常通過使用氯化鐵(FeCl3) 液、氯化銅(CuCl2)液、鹼蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，將表面腐蝕而進行，但也可以使用鹽酸、 硫酸等強酸，也可以使用通過施加與電解鍍時相反的電位的反電解蝕刻。實施了蝕刻處理 後的凹凸的鈍化情況，因基底金屬的種類、蝕刻手法和由第1蝕刻工序得到的凹凸的尺寸 和深度等而異，因此不能一概而論，控制鈍化情況方面最大的因素是蝕刻量。這裡所說的蝕 刻量，也與第1蝕刻工序一樣是被蝕刻削減的基材的厚度。如果蝕刻量小，使由第1蝕刻工 序得到的凹凸的表面形狀鈍化的效果不足，將其凹凸形狀轉印到透明膜而得到的防眩膜的 光學特性不會太好。另一方面，如果蝕刻量過大，幾乎不會成為凹凸形狀，成為大致平坦的 模具，因此無法顯示防眩性。因此，蝕刻量優選為1 50 μ m的範圍內，更優選為4 20 μ m 的範圍內。對於第2蝕刻工序中的蝕刻處理，也與第1蝕刻工序一樣，可以採用1次的蝕刻 處理來進行，也可以分2次以上來進行蝕刻處理。在這裡，分2次以上進行蝕刻處理時，2次 以上的蝕刻處理中的蝕刻量的合計優選為1 50 μ m。以下舉出實施例對本發明進一步詳細說明，但本發明並不限於這些實施例。例中， 表示含量乃至使用量的％和份如無特別說明則為重量基準。此外，以下的例中模具或防眩 膜的評價方法如下所述。[1]防眩膜製作用的圖形的評價使製作的圖像數據成為12800dpi、256灰度等級的灰色標度的圖像數據，用二元 離散函數g(x，y)表示灰度等級。將得到的二元離散函數g(x，y)進行傅立葉變換而求出二 元函數G(fx，fy)。將二元函數G(fx，fy)平方計算能譜的二元函數62仗，。)，由仁=0的截 面曲線即G2(0，fy)求出空間頻率大於0μ πΓ1且絕對值最小的空間頻率的最大值。計算時 使用的圖形的水平分辨能力Δχ和Ay均為2μπι。此外，計算範圍為1000 μ mX 1000 μ m。[2]防眩膜的光學特性的測定(濁度)防眩膜的濁度採用JIS K 7136中規定 的方法進行測定。具體地，使用按照該規格的濁度計HM-150型(村上色彩技術研究所制)測定濁度。為了防止防眩膜的翹曲，使用光 學上透明的膠粘劑貼合到玻璃基板上以使凹凸面成為表面後，供於測定。一般地濁度越大， 應用於圖像顯示裝置時圖像越暗，其結果，正面對比度容易降低。因此，優選濁度低。[3]防眩膜的防眩性能的評價(映入、泛白的目視評價)為了防止來自防眩膜的背面的反射，將防眩膜貼合於黑色丙烯酸樹脂板以使凹凸 面成為表面，在帶有螢光燈的明亮的室內從凹凸面側目視觀察，目視評價有無螢光燈的映 入、泛白的程度。映入、泛白和質感分別用1到3的3等級按以下基準進行評價。映入1 沒有觀察到映入。2:觀察到少量映入。 3:清楚地觀察到映入。泛白1 沒有觀察到泛白。2:觀察到少量泛白。3:清楚地觀察到泛白。(晃眼的評價)採用以下的方法評價晃眼。即，從市售的液晶電視(LC_32GH3(夏普(株)制)剝 離表背兩面的偏振板。代替這些原始偏振板，背面側和顯示面側均通過膠粘劑貼合偏振板 SUMIKARAN SRDB31E(住友化學(株)制)以使各自的吸收軸與原始的偏振板的吸收軸一 致，進而在顯示面側偏振板上通過膠粘劑貼合以下的各例中所示的防眩膜以使凹凸面成為 表面。在該狀態下，從距離樣品約30cm的位置進行目視觀察，由此用7等級對晃眼的程度 進行官能評價。水平1是完全沒有發現晃眼的狀態，水平7相當於觀察時嚴重晃眼的狀態， 水平3是相當少地觀察到晃眼的狀態。[4]防眩膜製造用的圖形的評價使製作的圖形數據為256灰度等級的灰色標度的圖像數據，用二元的離散函數 g(x,y)表示灰度等級。離散函數g(x，y)的水平分辨能力ΔΧ和Ay均為2μπ 。將得到的 二元函數g(x，y)進行離散傅立葉變換，求出二元函數G(fx，fy)。將二元函數G(fx，fy)平方， 計算能譜的二元函數G2 (fx，仁)，由仁=0的截面曲線62(0，fy)，求出空間頻率大於ΟμπΓ1 並且絕對值最小的空間頻率下的最大值。〈實施例1>準備其表面實施了銅巴拉德鍍敷(銅^，一 K^i t )的直徑200mm的鋁卷(根 據JIS的A5056)。銅巴拉德鍍層由銅鍍層/薄銀鍍層/表面銅鍍層組成，鍍層整體的厚度 設定為約200 μ m。對其鍍銅表面進行鏡面研磨，在經研磨的鍍銅表面塗布感光性樹脂，進 行乾燥而形成感光性樹脂膜。接著，用雷射光將圖8所示的圖形反覆並列而成的圖形曝光 於感光性樹脂膜上，進行顯影。採用雷射光的曝光、和顯影，使用Laser Stream FX((株) Think Laboratory制)進行。將正型的感光性樹脂用於感光性樹脂膜。然後，用氯化銅液進行第1蝕刻處理。此時的蝕刻量設定為7μπι。從第1蝕刻處 理後的卷材除去感光性樹脂膜，再次用氯化銅液進行第2蝕刻處理。此時的蝕刻量設定為 ISum0然後，進行鍍鉻加工，製作模具Α。此時，鍍鉻厚度設定為4 μ m。用醋酸乙酯溶解光固化性樹脂組合物GRANDIC 806T(大日本油墨化學工業(株)制)，成為50重量％濃度的溶液，進而相對於100重量份固化性樹脂成分添加5重量份光聚 合引發劑Lucirin TPO(BASF公司制，化學名2，4，6_三甲基苯甲醯基二苯基膦化氧)，調製 塗布液。將該塗布液塗布到厚度80 μ m的三乙醯纖維素(TAC)膜上，使乾燥後的塗布厚度 為10 μ m，在設定為60°C的乾燥機中乾燥3分鐘。用橡膠輥將乾燥後的膜壓到先前得到的 模具A的凹凸面以使光固化性樹脂組合物層成為模具側而使它們密合。在該狀態下從TAC 膜側照射強度20mW/cm2的來自高壓水銀燈的光以使以h線換算光量計達到200mJ/cm2，使 光固化性樹脂組合物層固化。然後，從模具與固化樹脂一起剝離TAC膜，製作由表面具有凹 凸的固化樹脂和TAC膜的層合體構成的透明的防眩膜A。除了使用圖11所示的圖形(平均點徑22μπι，點徑的變動係數0，能譜在 0.037 μ πΓ1具有最大值)作為利用雷射光進行曝光的圖形以外，與實施例1同樣地得到模 具B。除了使用得到的模具B以外，與實施例1同樣地製作防眩膜B。〈比較例2>除了使用圖12所示的圖形(平均點徑36 μ m,點徑的變動係數0，能譜在 0.019 μ πΓ1具有最大值)作為利用雷射進行曝光的圖形，將第1蝕刻處理的蝕刻量設定為 10 μ m,將第2蝕刻處理的蝕刻量設定為30 μ m以外，與實施例1同樣地得到模具C。除了使 用得到的模具C以外，與實施例1同樣地製作防眩膜C。〈比較例3>準備其表面實施了銅巴拉德鍍敷的直徑200mm的鋁卷(根據JIS的A5056)。銅巴 拉德鍍層由銅鍍層/薄銀鍍層/表面銅鍍層組成，鍍層整體的厚度設定為約200 μ m。對其 鍍銅表面進行鏡面研磨，在經研磨的鍍銅面，使用噴射裝置((株)不二製作所制)，以噴射 壓力0. 05MPa (表壓，下同)、珠粒使用量8g/cm2 (每Icm2卷的表面積的使用量，下同)噴射 氧化鋯珠粒TZ-SX-17(東曹(株)制，平均粒徑20 μ m)，使表面產生凹凸。對得到的帶凹 凸的鍍銅鋁卷進行鍍鉻加工，製作金屬模具D。此時，鍍鉻厚度設定為6 μ m。除了使用得到 的模具D以外，與實施例1同樣地製作防眩膜D。〈比較仿Ij4>對直徑300mm的鋁卷(根據JIS的A5056)的表面進行鏡面研磨，在經研磨的鋁面， 使用噴射裝置((株)不二製作所制)，以噴射壓力0. IMPa(表壓，下同)、珠粒使用量Sg/ cm2(每Icm2卷的表面積的使用量，下同)噴射氧化鋯珠粒TZ-SX-17(東曹(株)制，平均 粒徑20μπι)，使表面產生凹凸。對得到的帶凹凸的鋁卷進行非電解鍍鎳加工，製作模具Ε。 此時，非電解鍍鎳厚度設定為15 μ m。除了使用得到的模具E以外，與實施例1同樣地製作 防眩膜E。將結果示於表1。表 1 此外，將比較例1和比較例2中使用的圖形的能譜的fx = O的截面示於圖13。 由13可知，防眩膜B和C的製作中使用的圖形的能譜在空間頻率大於O μ πΓ1且小於等於 0. 04 μ m"1中具有最大值。由表1所示的結果可知，全部滿足本發明的要件的防眩膜A，沒有發生晃眼，顯 示足夠的防眩性，也沒有產生泛白。此外，濁度也低，因此配置於圖像顯示裝置時也不引 起對比度的降低。由點徑的變動係數不滿足本發明要件且能譜在大於0 μ HT1且小於等於 0. 04 μ πΓ1中具有最大值的圖形製作的防眩膜B，顯示足夠的防眩性，也沒有發生泛白，但產 生了晃眼。此外，由平均點徑和點徑的變動係數不滿足本發明的要件且能譜在大於0 μ HT1 且小於等於0. 04 μ πΓ1中具有最大值的圖形製作的防眩膜C，顯示足夠的防眩性，也沒有發 生泛白，但產生了晃眼。此外，沒有使用規定的圖形製作的防眩膜D和Ε，不能兼具足夠的防 眩性和晃眼的抑制。
權利要求
防眩膜的製造方法，其包括基於無規配置有多個點徑不同的多種點的圖形在透明支持體上形成微細凹凸表面，其中平均點徑為6～30μm，點徑的變動係數為0.1～0.5，並且圖形的能譜在大於0μm-1且小於等於0.04μm-1中不具有最大值。
2.權利要求1所述的方法，其包括基於所述圖形製作模具，將所述模具的凹凸面轉印 到透明支持體上，然後將轉印了凹凸面的透明支持體從模具剝離。
3.—種權利要求2所述的模具的製造方法，其包括 在模具用基材的表面實施鍍銅或鍍鎳的第1鍍敷工序；對通過第1鍍敷工序實施了鍍敷的表面進行研磨的研磨工序； 在經研磨的面塗布形成感光性樹脂膜的感光性樹脂膜塗布工序； 在感光性樹脂膜上曝光所述圖形的曝光工序； 將曝光了所述圖形的感光性樹脂膜顯影的顯影工序；使用已顯影的感光性樹脂膜作為掩模進行蝕刻處理，在經研磨的鍍敷面形成凹凸的蝕 刻工序；將感光性樹脂膜剝離的感光性樹脂膜剝離工序；和 對形成的凹凸面實施鍍鉻的第2鍍敷工序。
4.權利要求3所述的方法，其中在所述感光性樹脂膜剝離工序和所述第2鍍敷工序之 間包含通過蝕刻處理使形成的凹凸面鈍化的第2蝕刻工序。
5.權利要求3所述的方法，其中實施了鍍鉻後，不對表面進行研磨，將鍍鉻面直接用作 模具的凹凸面。
6.權利要求3 5中任一項所述的方法，其中由鍍鉻形成的鉻鍍層具有1 10μ m的厚度。
全文摘要
本發明能夠提供防眩膜的製造方法以及用於得到防眩膜的金屬模具的製造方法，該防眩膜的製造方法包括基於無規配置有多個點徑不同的多種點的圖形在透明支持體上形成微細凹凸表面，其中平均點徑為6～30μm，點徑的變動係數為0.1～0.5，並且圖形的能譜在大於0μm-1且小於等於0.04μm-1中不具有最大值，由此可以提供在顯示優異的防眩性能的同時、防止泛白所致的辨識性的降低、配置於高清晰的圖像顯示裝置的表面時不產生晃眼而顯現高對比度通過該製造方法以及用於得到防眩膜的模具的製造方法。
文檔編號G03F7/00GK101846755SQ201010144719
公開日2010年9月29日 申請日期2010年3月24日 優先權日2009年3月25日
發明者古谷勉, 宮本浩史, 神野亨 申請人:住友化學株式會社