製備限制的層的方法和用該方法製造的裝置的製作方法

2023-05-03 11:38:31 1

專利名稱：製備限制的層的方法和用該方法製造的裝置的製作方法
技術領域：
本公開總體涉及製造電子裝置的方法。本公開還涉及由該方法製造的裝置。
相關領域的描述 '
利用有機活性材料的電子裝置存在於許多不同類型的電子設備中。在這些 裝置中，有機活性層夾在兩個電極之間。
一類電子裝置是有機發光二極體(OLED)。 OLED由於其高功率轉換效率 和低加工成本而有希望應用於顯示器應用。這些顯示器特別有希望應用於電池 供電的可攜式電子裝置，包括手機、個人數字助理、手持型個人電腦和DVD 播放器。這些應用要求顯示器具有高信息量、全色和快速圖像速率響應時間以 及低能耗。
目前，研究生產全色OLED的方向是開發低成本和高通量的彩色像素的 生產方法。為了通過液體加工生產單色的顯示器，人們已經廣泛採用旋塗法(見 比如David Braun禾B Ala J.Heeger， Appl. Phys. Letter(應用物理通報)58， 1982(1991))。然而，生產全色顯示器需要對生產單色顯示器中使用的程序作某 些修改。比如，為了製造具有全色圖像的顯示器，每一個顯示器像素分成三個 亞像素，每一個亞像素髮射三種基本顯示顏色(紅色、綠色和藍色)中的一種顏 色。全色像素分為三個亞像素導致需要修改目前的方法以便防止液體著色材料 (比如油墨)的擴展和顏色的混合。
文獻中描述了幾種用於提供墨水限制的方法。這些方法以限制結構 (containment structure)、表面張力的突變，以及這兩者的組合為基礎。限制結 構是防止擴展的幾何結構的障礙物像素井、堤牆等。為了使這些結構有效， 它們相比較沉積材料的溼厚度必需足夠大。當發射的油墨被印刷入這些結構時，油墨溼潤結構的表面，所以，在所述結構附近的厚度均勻性降低。因此， 必需將這些結構移出發射"像素"區，使得操作時所述非均勻性不可見。由於 顯示器上的空間有限(特別是對於高解析度顯示器)，所以這樣會減少像素可用 的發射區域。當使連續的電荷注入層和傳輸層沉積時，實際的限制結構一般對 質量具有負面影響。因此，必需印刷所有的層。
而且，當存在低表面張力材料的印刷或蒸氣沉積區時，會產生表面張力突 變(discontinuity)。這些低表面張力材料通常必需在於像素區中印刷或塗布第一 有機活性層之前施加。通常，當塗布連續的非發射層時，這些處理的使用會影 響質量，所以必須印刷全部的層。
兩種油墨限制技術的組合的例子是光刻膠堤牆結構(像素井、通道)的CF4— 等離子體處理。通常，所有的活性層必需印刷在像素區中。
所有這些限制方法都具有妨礙連續塗布的缺點。人們希望連續塗布一個或 多個層，因為這能導致較高的產率和較低的儀器成本。因此，我們需要一種用 於形成電子裝置的改善的方法。

發明內容
本發明提供在第一層上形成限制的第二層的方法，所述方法包含
形成具有第一表面能的第一層；
用反應性表面活性組合物處理第一層以便形成具有第二表面能的處理過
的第一層，所述第二表面能低於第一表面能； 對處理過的第一層進行輻射曝光；
形成第二層。 ， 本發明提供製造含有位於一個電極上的第一有機活性層和第二有機活性 層的有機電子裝置的方法，所述方法包括
在電極上形成具有第一表面能的第一有機活性層；
用反應性表面活性組合物處理第一有機活性層以便形成具有第二表面能 的處理過的第一層，所述第二表面能低於第一表面能； 對處理過的第一有機活性層進行輻射曝光； 形成第二有機活性層。本發明也提供有機電子裝置，所述有機電子裝置包括位於一個電極上的第 一有機活性層和第二有機活性層，也含有位於第一有機活性層和第二有機活性 層之間的反應性表面活性組合物。
前面的概括描述和以下的具體描述僅僅是示例性的和解釋性的，不對所附 的權利要求中定義的本發明構成限制。
附圖簡述
在附圖中舉例說明實施方式以便加強對本文陳述的概念的理解。
.圖l包括舉例說明接觸角的圖。
圖2包括有機電子裝置的舉例說明。
圖3包括具有陽極線的基材的舉例說明。
圖4包括塗布緩衝材料的圖3的基材的舉例說明。
圖5包括進一步塗布反應性表面活性組合物的圖4的基材的舉例說明。
圖6包括曝光和顯影后圖5的基材的舉例說明。
本領域技術人員會意識到，舉例說明這些圖中的物體是為了簡便和清楚的 目的，所以不一定按比例繪製這些物體。比如，可以相對其它物體擴大圖中一 些物體的尺寸以便幫助理解實施方式。
具體實施例方式
本發明提供在第一層上形成限制的第二層的方法，所述方法包括
形成具有第一表面能的第一層；
用反應性表面活性組合物處理第一層以便形成具有第二表面能的處理過
的第一層，所述第二表面能低於第一表面能； 對處理過的第一層進行輻射曝光； 在處理過的並曝光過的第一層上施加第二層。
以上描述了許多方面和實施方式，它們僅僅是示例性的，不會對本發明構 成限制。在閱讀了本說明書後，本領域技術人員會意識到，在不脫離本發明的 範圍的情況下，其它方面和實施方式也是可能的。
從以下的具體描述和權利要求中可看出任何一種或多種實施方式的其它特徵和益處。具體的描述首先討論術語的定義和解釋，然後討論反應性表面活 性組合物、方法、有機電子裝置，最後討論實施例。 1.術語的定義和解釋
在討論下述的實施方式的細節之前，對一些術語進行定義或解釋。 當提及層或材料時，術語"活性"意在指表現電子輻射性或電輻射性的層 或材料。在電子裝置中，活性材料通過電子手段促進裝置的操作。活性材料的 例子包括但不局限於傳導、注入、傳輸或阻擋電荷的材料，其中所述電荷可以 是電子或空穴，以及當接受輻射時發射輻射或顯示電子-空穴對濃度變化的材 料。非活性材料的例子包括但不局限於平坦化材料、絕緣材料和環境隔離
(barrier)材料。
當提及層時，術語"限制的"意在指層不會明顯擴展到其沉積的區域以外。 層可以通過表面能作用或表面能作用和物理隔離結構的組合而成為限制的。
術語"電極"意在指設計用於在電子元件中傳輸載流子的構件或結構。比 如，電極可以是陽極、陰極、電容器電極、門電極等。電極可以包括晶體三極 管、電容器、電阻器、感應器、二極體、電子元件和電源的一部分，以及它們 的任何組合。
術語"有機電子裝置"意在指包括一種或多種有機半導體層或材料的裝置。
有機電子裝置包括但不局限於(l)將電能轉換為輻射的裝置(比如，發光二極
管、發光二極體顯示器、二極體雷射器或照明面板)，(2)使用電子方法探測信 號的裝置(比如，光探測器、光導電池、光敏電阻器、光控繼電器、光電晶體 管、光電管、紅外("IR")檢測器或生物傳感器)，(3)將輻射轉換為電能的裝置(比 如光生伏打裝置或太陽能電池)，(4)包括一個或多個含有一種或多種有機半導 體層的電子元件的裝置(比如電晶體或二極體)，或(1)至(4)項中裝置的任意組合。
當提及有機化合物時，術語"氟化的"意在指化合物中的一個或多個氫原 子被氟取代。該術語包括部分或全部氟化的材料。
術語"輻射"指施加任何形式能量，包括任何形式的熱能、全電磁譜或亞 原子顆粒，無論這種輻射是否是射線、波或顆粒形式的。
術語"反應性表面活性組合物"意指含有至少一種輻射敏感性材料的組合物，當這種組合物施加於層時，該層的表面能減小。對反應性表面活性組合物 進行輻射曝光導致組合物的至少一種物理性質發生改變。該術語縮寫為 "RSA"，指曝露於輻射之前和之後的組合物。
當提及材料時，術語"輻射敏感性"意在指一種材料，當器曝露於輻射時， 會導致形成材料的至少一種化學性質、物理性質或電性質。
術語"表面能"是由材料產生單位面積表面所需的能量。表面能的特徵是 具有給定表面能的液體材料不會溼潤具有較低表面能的表面。
術語"層"可與術語"膜"相互交換使用，指覆蓋所需區域的塗層。該術 語不受尺寸的限制。所述區域可以如整個裝置一般大，或如特定功能區(諸如 實際可見顯示器)一般小、或如單個亞像素一般小。層和膜可以用任何常規的 沉積技術形成，包括蒸氣沉積、液體沉積(連續性技術和非連續性技術)和傳熱。
術語"液體組合物"意在指材料溶解於其中以形成溶液的液體介質、材料 分散於其中以形成分散體的液體介質、或材料懸浮於其中以形成懸浮液或乳液 的液體介質。"液體介質"意在指不加入溶劑或載體流體時為液體的材料，即 處於其固化溫度以上的溫度下的材料。
術語"液體限制結構"意在指工件內或工件上的結構，其中這一種或多種 結構本身或共同地起到在液體流過工件表面時在一面積或區域內限制或引導 液體的主要功能。液體限制結構可以包括陰極分隔器或井結構。
術語"液體介質"意在指液體材料，包括純液體、液體組合、溶液、分散 體、懸浮液和乳液。使用液體介質不需考慮是否有一種或多種溶劑存在。
如本文所使用的，術語"在...之上"不是一定指一個層、構件或結構緊鄰 或接觸另一個層、構件或結構。可以存在附加的中間層、構件或結構。
如本文所使用的，術語"包含"、"含有"、"包括"、"具有"或它們 的任何其它變化體意在涉及非排它性的包括。比如，包含一系列組成部分的過 程、方法、製品或儀器不必僅僅局限於這些組成部分，而是可以包括其它沒有 明白地列出的單元或這些過程、方法、製品或儀器固有的單元。而且，除非明 白地指出相反的意思，"或"指包括性的或，不是指排它性的或。比如，任何
以下一種情況都可以滿足條件A或B: A是真的(或存在的)且B是假的(或不存 在的)，A是假的(或不存在的)且B是真的(存在的)，A和B都是真的(或存在的)。同樣，"一種"用於描述本文所述的元件和組件。這樣做只是為了方便起 見和給予本發明的範圍一個概括的意義。閱讀時這種描述包括一個或至少一
個，並且除非另外清楚地指出，單數形式也包括複數意義。
根據元素周期表中列的族號使用"新表示法"協議，如CRC Handbook of Chemistry and Physics(CRC化學和物理手冊)，8131版(2000-2001)。
除非另外定義，本文使用的所有科技術語的意義與本發明所屬領域一般的 技術人員通常理解的意義相同。雖然在實施和測試本發明的實施方式中可以使 用與本文描述的相同或類似的方法和材料，但是下文將描述一些合適的方法和 材料。所有的公開、專利申請、專利和本文所述的其它文獻以其全部通過引用 結合於此，除非引用特定的文章。在出現矛盾的情況下，以本說明書(包括定 義)為準。而且，材料、方法和實施例僅僅是示例性的，無意對本發明構成限 制。
對於本文未描述的範圍，關於具體的材料、處理行為、電路的許多細節都 是常規的，可以在有機發光二極體顯示器、光探測器、光生伏打和半導體構件 領域的教科書和其它來源中找到。
2.反應性表面活性組合物
反應性表面活性組合物("RAS")是輻射敏感性組合物。當曝露於輻射時， RSA的至少一種物理限制和/或化學性質發生改變，使得曝露的和未曝露的區 域被物理地區分開。用RSA處理降低被處理材料的表面能。
在一個實施方式中，RSA是可輻射硬化的組合物。在這種情況下，當曝露 於輻射時，RSA會變得較易溶解於或更易分散於液體介質中、粘度較弱、較硬、 可流動性較差、可移動性較差或可吸收性較差。其它的物理性質也可能受到影 響。
在一個實施方式中，RSA是可輻射軟化的組合物。在這種情況下，當曝露 於輻射時，RSA會變得較不易溶解於或分散於液體介質中、較粘、較軟、可流 動性較好、可移動性較好或較易吸收。其它的物理性質也可能受到影響。
所述輻射可以是任何一類導致RSA物理性質改變的輻射。在一個實施方 式中，輻射選自紅外輻射、可見輻射、紫外輻射和它們的組合。
曝露於輻射和非曝露於輻射的RSA區域之間的物理區分(下文中稱為"顯影")可以通過任何已知的技術來實現。這些技術已經在光刻膠領域中廣泛使 用。顯影技術的例子包括但不局限於用液體介質處理、用吸收性材料處理、用 發粘材料處理等。
在一個實施方式中，RSA基本上由一種或多種輻射敏感性材料組成。在一 個實施方式中，RSA基本上由一種材料組成，當曝露於輻射時該材料會硬化， 或變得在液體介質中較不易溶解或較不易膨脹或較不易分散，或粘性或可吸收 性變差。在一個實施方式中，RSA基本上由具有可輻射聚合的基團的材料組成。 這些基團的例子包括但不局限於烯烴、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯和乙烯基醚。 在一個實施方式中，RSA材料具有兩個或多個可聚合的基團，這些基團能導致 交聯。在一個實施方式中，RSA基本上由一種材料組成，當曝露於輻射時該材 料會軟化，或變得在液體介質中較易溶解或較易膨脹或較易分散，或變得較粘 或較易吸收。在一個實施方式中，RSA基本上由至少一種聚合物組成，當曝露 于波長為200-300納米的遠紫外輻射時，該聚合物主鏈發生降解。發生這種降 解的聚合物的例子包括但不局限於聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酮、聚碸、 它們的共聚物和它們的混合物。
在一個實施方式中，RSA基本上由至少一種反應性材料和至少一種輻射敏 感性材料組成。當曝露於輻射時，所述輻射敏感性材料產生活性物質，活性物 質啟動反應性材料的反應。輻射敏感性材料的例子包括但不局限於產生自由 基、酸或它們的組合的材料。在一個實施方式中，反應性材料是可聚合的或可 交聯的。活性物質啟動或催化反應性材料聚合反應或交聯反應。通常，輻射敏 感性材料存在的含量是(基於RSA總重量)0.001%至10.0%。
在一個實施方式中，RSA基本上由一種材料組成，當曝露於輻射時，該材 料會硬化，或變得在液體介質中較不易溶解或較不易膨脹或較不易分散，或粘 性或可吸收性變得較差。在一個實施方式中，反應性材料是烯鍵式不飽和化合 物，輻射敏感性材料產生自由基。烯鍵式不飽和化合物包括但不局限於丙烯酸 酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基化合物和它們的組合物。可以使用任何產生自由基 的已知類型的輻射敏感性材料。產生自由基的輻射敏感性材料的例子包括但不 局限於醌、二苯甲酮、安息香醚、芳基酮、過氧化物、雙咪唑、苄基二甲基縮 酮、羥垸基苯基苯乙酮、二垸氧基苯乙酮、三甲基苯甲醯氧化膦衍生物、氨基酮、苯甲醯環己醇、甲基硫代苯嗎啉代酮、嗎啉代苯基氨基酮、a-滷素苯乙酮、
含氧磺醯酮、磺醯酮、含氧磺醯酮、磺醯酮、苯甲醯肟酯、硫代蒽酮
(thioxanthrone)、樟腦酉昆、香豆素酮(ketocoumarin)禾口麥可酮(Michler，s ketone)。
或者，輻射敏感性材料可以是化合物的混合物，當通過輻射活化的感光劑致使 混合物提供自由基時，由其中一種化合物提供自由基。在一個實施方式中，輻 射敏感性材料對可見輻射或紫外輻射敏感。
在一個實施方式中，反應性材料能進行由酸引發的聚合，輻射敏感性材料 產生酸。這種反應性材料的例子包括但不局限於環氧化物。產酸的輻射敏感性 材料的例子包括但不局限於鋶鹽和姚鹽，諸如六氟磷酸二苯基鍋。
在一個實施方式中，RSA基本上由一種材料組成，當曝露於輻射時該材料 會軟化，或變得在液體介質中較易溶解或較易膨脹或較易分散，或變得較粘或 較易吸收。在一個實施方式中，反應性材料是酚醛樹脂，輻射敏感性材料是重 氮基萘醌。
也可以使用本領域已知的其它輻射敏感性體系。
在一個實施方式中，RSA含有氟化的材料。在一個實施方式中，RSA含 有具有一個或多個氟烷基的不飽和材料。在一個實施方式中，氟烷基具有2至 20個碳原子。在一個實施方式中，RSA是氟化的丙烯酸酯、氟化的酯或氟化 的烯烴單體。可用作RSA材料的市售的材料的例子包括但不局限於宙尼爾 (Zonyl)⑧8857A ， 一種可從E丄杜邦公司(E丄du Pont de Nemours and Company)(維明頓(Wilmington)，美國北卡羅來納州)購買的氟化不飽和酯單 體以及可從西格瑪-艾爾德瑞切爾公司(Sigma-Aldrich Co.)(聖路易斯，美國密蘇 裡州)購買的3,3，4,4，5,5，6,6，7,7,8，8，9,9，10,10,11,11,12,12，12-二H""—氟十二烷基丙 烯酸酯(H2C-CHC02CH2CH2(CF2)9CF3)。
3.旌
在本文提供的方法中，形成第一層，用反應性表面活性組合物("RSA")處 理第一層，對處理過的第一層進行輻射曝光，在處理過並曝光的第一層上形成 第二層。
在一個實施方式中，第一層是基材。所述基材可以是無機的或有機的。基 材的例子包括但不局限於玻璃、陶瓷和聚合膜(諸如聚酯和聚醯亞胺膜)。在一個實施方式中，第一層沉積在基材上。第一層可以是圖案化的或無圖 案的。在一個實施方式中，電子裝置中的第一層是有機活性層。
可以通過任何沉積技術來形成第一層，包括蒸氣沉積技術、液體沉積技 術、傳熱技術。在一個實施方式中，通過液體沉積技術和隨後的乾燥來形成第 一層。在這種情況下，第一材料溶解於或分散於液體介質中。液體沉積方法可 以是連續的或非連續的。連續性液體沉積技術包括但不局限於旋轉塗布法、輥 塗法、幕塗法、浸塗法、槽模塗布法、噴霧塗布法和連續性噴嘴塗布法。非連 續性液體沉積技術包括但不局限於噴墨印刷、凹版印刷、柔版印刷和絲網印刷。 在一個實施方式中，通過連續性液體沉積技術使第一層沉積。乾燥步驟在室溫 或升高的溫度下進行，只要第一材料和任何下面下襯的材料不受到破壞。
用RSA處理第一層。處理可以與形成第一層同時進行或在第一層形成後發生。
在一個實施方式中，RSA處理與形成第一有機活性層同時進行。在一個實 施方式中，RSA加入用於形成第一層的液體組合物中。當沉積的組合物乾燥而 形成膜時，RSA遷移到空氣界面，即第一層的上表面以便降低體系的表面能。
在一個實施方式中，RSA處理在第一層形成後進行。在一個實施方式中， RSA作為在第一層之上的並與第一層直接接觸的單獨的層施加。
在一個實施方式中，應用RSA時不加入溶劑。在一個實施方式中，通過蒸 氣沉澱施加RSA。在一個實施方式中，RSA在室溫下是液體，通過液體沉積 將其施加在第一層上。液體RSA可以成膜或可以被吸收或吸附到第一層的表 面上。在一個實施方式中，液體RSA冷卻到低於其熔點的溫度以便在第一層 上形成第二層。在一個實施方式中，RSA在室溫下不是液體，將它加熱到其熔 點以上的溫度，沉積在第一層上，並冷卻至室溫以便在第一層上形成第二層。 液體沉積可以使用上述任何方法。
在一個實施方式中，RSA通過第二液體組合物沉積。如上所述，液體沉積 法可以是連續的或非連續的。在一個實施方式中，RSA液體組合物使用連續性 液體沉積法沉積。選擇用於沉積RSA的液體介質時，要基於RSA材料本身的 確切性質。在一個實施方式中，RSA是氟化材料，液體介質是氟化液體。氟化 液體的例子包括但不局限於全氟辛烷、三氟甲苯和六氟二甲苯。在RSA處理後，對處理過的第一層進行輻射曝光。如上所述，所用的輻射
的類型取決於RSA的敏感性。曝露可以是掩蓋的、全部曝露，或者曝露可以
是圖案狀的。如本文使用的，術語"圖案狀"指僅僅曝露材料或層的選擇的部 分。圖案狀曝露可以使用任何已知的成像技術來實現。在一個實施方式中，由 通過光掩模的曝露來實現圖案。在一個實施方式中，通過僅僅使選擇的部分曝
露於雷射來實現圖案。曝露的時間為幾秒至幾分鐘，取決於所用RSA的特定 化學性質。當使用雷射時，用於每個單個區域的曝光時間縮短很多，這取決於 雷射的能量。曝露步驟可以在空氣中或在惰性氣氛中進行，這取決於材料的敏 感性。
在一個實施方式中，輻射選自紫外輻射(10-390納米)、可見輻射(390-770 納米)、紅外輻射(770-106納米)和它們的組合，包括同時處理和順次處理。在 一個實施方式中，輻射是熱輻射。在一個實施方式中，曝露於輻射通過加熱進 行。加熱步驟的溫度和時間使得至少一種RSA的物理性質發生改變，但不破 壞任何下襯的層。在一個實施方式中，加熱溫度低於25(TC。在一個實施方式 .中，加熱溫度低於150°C。
在一個實施方式中，輻射是紫外輻射或可見輻射。在一個實施方式中，圖 案狀地施加輻射，形成曝光的RSA區域和未曝光的RSA區域。
在一個實施方式中，在圖案化地曝露於輻射後，處理第一層以便除去曝光 的RSA區域或未曝光的RSA區域。圖案狀地曝露於輻射和處理除去曝光的或 未曝光的區域是光刻膠領域眾所周知的技術。
在一個實施方式中，使RSA曝露於輻射導致RSA在溶劑中的溶解性或分 散性的改變。當圖案狀地進行曝光時，可以接著進行溼法顯影處理。通常，這 種處理包括用溶劑洗滌，以溶解、分散或除去一類區域。在一個實施方式中， 圖案狀地曝露於輻射導致曝光的RSA區域不溶解，溶劑處理造成除去未曝光 的RSA區域。
在一個實施方式中，使RSA曝露於可見輻射或紫外輻射導致發生反應，該 反應減小曝光區域中RSA的揮發性。當圖案狀地進行曝光時，可以接著進行 熱顯影處理。該處理包括加熱到未曝光材料的揮發溫度或升華溫度以上、材料 為熱反應性時的溫度以下的溫度。比如，對於可聚合物的單體，將材料加熱至升華溫度以上和熱聚合溫度以下的溫度。應該理解，熱反應性溫度與揮發溫度 相近或低於揮發溫度的RSA材料可能不能以這種方式顯影。
在一個實施方式中，使RSA曝露於輻射導致材料熔點、軟化溫度或流動溫
度改變。當圖案狀地進行曝光時，接著進行幹顯影處理。幹顯影處理可包括使 元件的最外部表面與吸收劑表面接觸以便吸收或通過毛細作用除去較軟的部 分。這種幹顯影可以在升高的溫度下進行，只要這不會進一步影響初始未曝光 部分的性質。
RSA處理和曝露於輻射後，第一層的表面能比處理前更低。在曝露於輻射 後除去部分RSA的情況下，由RSA覆蓋的第一層區域的表面能低於沒有RSA 覆蓋的區域的表面能。
一種確定相對表面能的方法是，比較用RSA處理前和處理後第一有機活性 層上的給定液體的接觸角。如本文使用的，術語"接觸角"意在指

圖1中顯示 的角4>。對於一滴液體介質，角cj)由表面的平面與液滴外緣至表面的線的交叉 定義。而且，在液滴到達被施加的表面上的平衡位置後再測量角4>，即"靜態 接觸角"。各種生產商製造能夠測量接觸角的儀器。
然後，在RSA處理過的第一層上施加第二層。可以通過任何沉積技術施加 第二層。在一個實施方式中，通過液體沉積技術施加第二層。在這種情況下， 第二材料被溶解或分散在液體介質中，施加在RSA處理過的第一層上，並幹 燥以便形成第二層。
在一個實施方式中，.RSA是圖案化的，使用連續性液體沉積技術施加第二 層。在一個實施方式中，使用非連續性液體沉積技術施加第二層。
在一個實施方式中，RSA是非圖案化的，使用非連續性液體沉積技術施加 第二層。
在一個實施方式中，第一層施加在液體限制結構上。可能需要使用不足以 完全限制但是仍然允許調整被印刷層的厚度均勻性的結構。在這種情況下，可 能需要控制在厚度調節結構上的潤溼，提供限制和均勻性。那麼，可能需要能 夠調節噴射油墨的接觸角。大多數用於限制的表面處理(比如CF4等離子體)不 能提供這種水平的控制。
在一個實施方式中，第一層施加在所謂的堤牆結構上。堤牆結構通常由光刻膠、有機材料(比如聚醯亞胺)或無機材料(氧化物、氮化物等)形成。堤牆結 構可以用於限制液體形式的第一層，防止顏色混合；以及/或用於液體形式的第 一層乾燥時改善其厚度均勻性；以及/或用於保護下襯的特徵免於接觸液體。這
種下襯特徵可以包括導電跡線、導電跡線之間的縫隙、薄膜電晶體、電極等。
經常希望在堤牆(bank)結構上形成具有不同表面能的區域以實現兩種或多種目 的(比如防止顏色混合和改善厚度均勻性)。 一種方法是提供多層的堤牆結構， 每一層具有不同的表面能。 一種成本效益較高的實現這種表面能調製的方法是
通過調節用於固化RSA的輻射來控制表面能。用於固化的輻射的調製形式可 以是能量劑量(能量*曝光時間)或通過光掩模圖案使RSA曝光，所述光掩模圖 案模擬不同的表面肯旨(比如通過網點密度(halftone density)光掩模進行曝光)。
在本文中提供的一個方法實施方式中，第一層f第二層是有機活性層。第 一有機活性層形成於第一電極上，用反應性表面活性組合物處理第一有機活性 層以便降低該層的表面能，第二有機活性層形成於處理過的第一有機活性層之 上。
在一個實施方式中，通過含有第一有機活性材料和液體介質的液體組合物 的液體沉積形成第一有機活性層。將該液體組合物沉積在第一電極上，然後幹 燥以形成層。在一個實施方式中，通過連續性液體沉積法形成第一有機活性層。 這些方法可以導致較高的產率和較低的儀器成本。
在一個實施方式中，RSA處理緊接著第一有機活性層的形成。在一個實施 方式中，RSA作為位於第一有機活性層之上並與第一有機活性層直接接觸的單 獨的層施加。在一個實施方式中，由第二液體組合物沉積RSA。如上所述，液 體沉積法可以是連續的或非連續的。在一個實施方式中，使用連續性液體沉積 法使RSA液體組合物沉積。
RSA處理後，使處理過的第一有機活性層曝露於輻射。如上所述，所用的 輻射的類型取決於RSA的敏感性。曝光可以是掩蓋的、全曝光，或者曝光可 以是圖案狀的。
在一個實施方式中，使RSA曝露於輻射導致RSA在液體介質中的溶解性 或分散性發生改變。在一個實施方式中，圖案狀地進行曝光。之後，用液體介 質處理RSA以便除去曝光的或未曝光的RSA部分。在一個實施方式中，RSA是可輻射硬化的，由液體介質除去未曝光的部分。 4.有機電子裝置
我們將就上述方法在電子裝置中的應用作進一步的描述，儘管該方法不局 限於這種應用。
圖2是示例性的電子裝置，其是一個有機發光二極體(OLED)顯示器，包 括至少兩個位於兩個電接觸的層之間的有機活性層。電子裝置IOO包括一個或 多個層120和130以便促進空穴從陽極層IIO注入光活性層140。通常，當存 在兩個層時，靠近陽極的層120稱為空穴注入層或緩衝層。靠近光活性層的層 130稱為空穴傳輸層。任選的電子傳輸層150位於光活性層140和陰極層160 之間。根據裝置100的應用，光活性層140可以是能被施加的電壓激活的發光 層(諸如在發光二極體或發光電化學電池中)、無論是否存在施加的偏壓都響應 輻射能並產生信號的一層材料(諸如在光探測器中)。所述裝置在系統、驅動方 法和利用模式方面沒有限制。
對於多顏色裝置，光活性層140由至少三種不同顏色的不同區域組成。所 述不同顏色的區域是通過印刷分離的有色區域而形成的。或者，可以通過形成 總體的層以及為層的不同區域摻雜具有不同顏色的發射材料來實現。這種方法 已經在比如公開的美國專利申請2004-0094768中有描述。
本文所述的新型方法可以用於裝置中的任何有機層連續對，其中第二層將 包含在特定的區域中。在該新型方法的一個實施方式中，第二有機活性層是光 活性層140，第一有機活性層是在剛好在層140之前被施加的裝置層。在許多 情況下，以陽極層為開端構建裝置。當空穴傳輸層130存在時，在施加光活性 層140之前應用RSA處理。當層130不存在時，RSA處理應用於層120。在 以陰極為開端構建裝置的情況下，在施加光活性層140之前將RSA處理應用 於電子傳輸層150。
在一個實施方式中，以平行的條紋的模式形成陽極IIO。緩衝層120和任 選的空穴傳輸層130在陽極110上形成連續層。RSA作為直接位於層130(當層 130存在時)或層120(當層130不存在時)上的單獨的層施加。以一種圖案使RSA 曝光，使得陽極條紋和陽極條紋外邊緣之間的區域被曝光。
裝置中的層可以由任何已知用於這些層的材料製成。所述裝置可以包括支承物或基材(沒有顯示)，支承物或基材可以與陽極層110或陰極層150相鄰。 最經常地，支承物與陽極層110相鄰。支承物可以是撓性的或剛性的、有機的 或無機的。通常，玻璃或撓性的有機膜用作支承物。陽極層110是相比陰極層 160注入空穴效率更高的電極。陽極可以包括含有金屬、混合金屬、合金、金 屬氧化物或混合氧化物的材料。合適的材料包括第2族元素(即Be、 Mg、 Ca、 Sr、 Ba、 Ra)、第11族元素、第4、 5、 6族中的元素和第8-10族過渡元素的混 合氧化物。如果陽極層IIO用來傳輸光，那麼可以使用第12、 13和14族元素 的混合氧化物，諸如氧化銦錫。如本文使用的，短語"混合氧化物"指具有兩 個或多個選自第2族元素或第12、 13或14族元素的不同的陽離子的氧化物。 用於陽極層110材料的一些非限制的具體例子包括但不局限於氧化銦錫 ("ITO")、氧化鋁錫、金、銀、銅和鎳。陽極也可以包含有機材料，諸如聚 苯胺、聚噻吩或聚吡咯。
可以由化學或物理蒸氣沉積法或旋塗法形成陽極層110。化學蒸氣沉積法可 以操作等離子體促進化學蒸氣沉積("PECVD")或金屬有機化合蒸氣沉積 ("MOCVD")。物理蒸氣沉積法可以包括所有形式的濺射法，包括離子束濺 射以及電子束蒸鍍和電阻蒸鍍。物理蒸氣沉積的具體形式包括rf磁控濺射和感 應耦合等離子體物理蒸氣沉積("IMP-PVD")。這些沉積技術在半導體製造領 域是眾所周知的。
通常，在光刻操作中使陽極層110形成圖案。所述圖案可以按需要變化。 可以以一種模式形成層，比如在施加第一電接觸層材料之前將圖案化的掩模或 光刻膠定位於第一撓性的複合材料阻擋層結構上。或者，可以作為整體的層(稱 為掩蓋沉積)施加層，然後使用比如圖案化的光刻膠層和溼化學或幹蝕刻技術 使形成的層圖案化。也可以使用其它在本領域中眾所周知的用於圖案化的方 法。當電子裝置位於陣列中時，陽極層110通常形成基本上平行的條紋(strip)， 這些條紋的長度向基本上相同的方向延伸。
緩衝層120的作用是促進將空穴注入光活性層和使陽極表面平滑以便防,止 裝置中發生短路。緩衝層通常用聚合材料形成(諸如聚苯胺(PANI)或聚乙烯二 羥基噻吩(PEDOT))，其中經常慘加質子酸。質子酸可以是比如聚(苯乙烯磺酸)、 聚(2-丙烯醯氨基-2-甲基-l-丙烷磺酸)等。緩衝層120可以含有電荷轉移化合物等，諸如銅酞菁和四硫富瓦烯-四氰基對醌二甲垸體系(TTF-TCNQ)。在一個實 施方式中，緩衝層120由導電聚合物和膠體形成聚合酸的分散體製成。比如公 開的美國專利申請第2004-0102577和2004-0127637中已經描述這些材料。
可以通過任何沉積技術施加緩衝層120。在一個實施方式中，如上所述， 通過溶液沉積法施加緩衝層。在一個實施方式中，通過連續性溶液沉積法施加 緩衝層。
在比如Y. Wang的Kirk-Othmer化學技術百科全書(Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology),第四版，18巻，第837-860頁中總結了 用於任選的層130的空穴傳輸材料的例子。可以使用空穴傳輸分子和聚合物。 通常使用的空穴傳輸分子包括但不局限於4，4，，4"-三(N，N-二苯-氨基)三苯胺 (TDATA); 4,4，,4，，-三(N-3-甲基苯-N-苯基-氨基)-三苯胺(MTDATA); N,N，-二苯 ^,-雙(3-甲基苯)-[1，1，-二苯]-4，4，-二胺(丁 0); 1，1-雙[(二-4-甲苯氨基)苯基] 環己烷(TAPC); N,N，-雙(4-甲基苯)-N，N，-雙(4-乙基苯基)-[l,l，-(3,3，-二甲基)聯 苯基]-4，4，-二胺(ETPD);四-(3-甲基苯基)-N，N,N，,N，-2,5-苯二胺(PDA); a-苯基 -4->^^-二苯基氨基苯乙烯01^); p-(二乙基氨基)苯甲醛二苯基腙(DEH);三苯 基胺(TPA);雙[4-(N，N-二乙氨基)-2-甲基苯基](4-甲基苯基)甲烷(MPMP); 1-苯 基-3-[p-(二乙基氨基)苯乙烯基]-5-[p-(二乙基氨基)苯基]吡唑啉(PPR或 DEASP); 1,2-反式-雙(9H-咔唑-9-)環丁烷(DCZB); N，N,N，，N，-四(4-甲基 苯HU，-二苯基)-4,4，-二胺(TTB); N,N，-雙(萘-l-基)-N，N，-雙-(苯基)聯苯胺 (a-NPB);和卟啉化合物(諸如酞菁銅)。通常使用的空穴傳輸聚合物包括但不局 限於聚乙烯基咔唑、(苯基甲基)聚矽垸、聚(二羥基噻吩)、聚苯胺和聚吡咯。 通過向聚合物(諸如聚苯乙烯和聚碳酸酯)中摻雜空穴傳輸分子(諸如如所上述 的那些)也可能獲得空穴傳輸聚合物。
可以用任何沉積技術施加空穴傳輸層130。在一個實施方式中，如上所 述，用溶液沉積法施加空穴傳輸層。在一個實施方式中，用連續性溶液沉 積法施加空穴傳輸層。
任何有機場致發光("EL")材料均可以用於光活性層140，包括但不局 限於小分子有機螢光化合物、螢光和磷光金屬絡合物、共軛聚合物和它們 的混合物。螢光化合物額例子包括但不局限於芘、茈、紅熒烯、香豆素、它們的衍生物和它們的混合物。金屬絡合物的例子包括但不局限於金屬螯 合的羥基喹啉(oxinoid)化合物，諸如三(8-羥基喹啉)鋁(Alq3);環金屬化銥 和鉑場致發光化合物，諸如在Petrov等人，美國專利6670645和公開的專 利合作條約(PCT)申請WO03/063555和WO2004/016710中公開的具有苯基 吡啶、苯基喹啉或苯基嘧啶配位體的銥絡合物，以及在比如公開的PCT申 請WO03/008424、 WO03/008424、 WO03/091688和WO03/040257中描述的 有機金屬絡合物，以及它們的混合物。Thompson等人在美國專利6303238 中、Burrows和Thompson在公開的PCT申請WO00/070655和WOO 1/41512 中都描述了含有電荷攜帶主體材料和金屬絡合物的場致發光的發射層。共 軛聚合物的例子包括但不局限於聚(苯撐乙烯)、聚芴、聚(螺二芴)、聚噻吩、 聚(p-苯撐)、它們的共聚物和它們的混合物。
可以用任何沉積技術施加光活性層140。在一個實施方式中，如上所述， 用溶液沉積法施加發光層。在一個實施方式中，用連續性溶液沉積法施加 光活性層。
任選的層150起到促進電子注入/傳輸的作用，同時也能用作限制層以 便防止層界面處發生的猝滅反應。更具體地，層150可以促進電子遷移， 並且減小當層140和160另外直接接觸時發生猝滅反應的可能性。用於任 選層150的材料的例子包括但不局限於金屬螯合類羥基喹啉化合物(比如 Alq3或類似物)；菲咯啉基化合物(比如2，9-二甲基-4，7-二苯基-1，10-菲咯啉 ("DDPA" )， 4，7-二苯基-1，10-菲咯啉("DPA")或類似物)；吡咯化合物(比 如2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-l，3，4-噁二唑("PBD"或類似物)、3-(4-聯苯基)-4-苯基-5-(4-叔丁基苯基H,2,4-三唑("TZ"或類似物)；其它類似 化合物；或它們的任何一種或多種組合。或者，任選層150可以是無機的 並且含有BaO、 LiF、 Li20等。
陰極160是對於注入電子或負電荷載流子特別有效的電極。陰極層160 可以是任何比第一電接觸層(在這種情況下是陽極層110)具有更低功函數的 金屬或非金屬。在一個實施方式中，術語"較低功函數"意在指功函數不 大於約4.4 eV的材料。在一個實施方式中，術語"較高功函數"意在指功 函數至少為約4.4 eV的材料。用於陰極層的材料可選自第1族的鹼金屬(比如Li、 Na、 K、 Rb、 Cs)、 第2族的金屬(比如Mg、 Ca、 Ba等)、第12族的金屬、鑭系(比如Ce、 Sm、 Eu等)和錒系(比如Th、 U等)。也可以使用諸如鋁、銦、釔和它們的組合之 類的材料。用於陰極層160的具體的非限制性材料包括但不局限於鋇、鋰、 鈰、銫、銪、銣、釔、鎂、釤以及它們的合金和組合。 陰極層160通常由化學或物理蒸氣沉積法形成。 在另一個實施方式中，在有機電子裝置中可以存在另外的層。 不同的層可以具有任何合適的厚度。無機陽極層IIO通常不大於約500 納米，比如為約10-200納米；緩衝層120和空穴傳輸層130通常都不大於 約250納米，比如為約50-200納米；光活性層140通常不大於約1000納 米，比如為約50-80納米；任選層150通常不大於約100納米，比如為約 20-80納米；陰極層160通常不大於約100納米，比如為約l-50納米。如 果陽極層IIO或陰極層160需要透射至少一些光，那麼該層的厚度不能超 過約100納米。
實施例 '
在以下的實施例中將進一步描述本文所述的概念，這些實施例不會限制 權利要求中描述的本發明的範圍。 實施例1
實施例1表示與第一層的形成同時發生的RSA處理。所述第一層是有 機活性層。
塗層1:將材料A(來自住友公司(Sumitomo)的可交聯的空穴傳輸材料) 的第一有機活性層從對二甲苯旋轉塗布到載玻片上。
塗層2:第一有機活性層由含有95%材料A和5%作為RSA的氟化不飽 和酯單體(宙尼爾⑧8857A，來自E.I.杜邦公司，維明頓，美國德拉瓦州)的溶液 旋塗到載玻片上製成。
在空氣中於130°C下在電熱板上乾燥這兩個塗層。調節旋塗的條件以便提供
乾燥後具有相近厚度的膜。在對流烘箱中(烘爐中為氮氣氣氛)使塗布的材料於 20(TC下熱固化30分鐘。使用麥克羅凡博(MicroFab)公司的印刷機將發射油墨 (由比例為8:92的BH052和BH140(初光公司(Idemitsu)製成，在苯甲醚中的總固體量為1.5%)印刷在每一個塗層上，級溫為5(TC。通過測量乾燥後被印刷液 滴的直徑來比較油墨在兩個表面上的鋪展。含有RSA的塗層2上的油墨鋪展 比無RSA的塗層1上的結果小7X。在塗層1上苯甲醚的接觸角約為9度，在 含有宙尼爾⑧8857A的塗層2表面上約為15度。 實施例2
實施例2表示第一層形成後進行的RSA處理。第一層是有機活性層。 在載玻片上製備材料A的塗層，並在具有氮氣氣氛的對流烘箱中於200°C 下固化30分鐘。將作為RSA的氟化丙烯酸酯單體(宙尼爾⑧TA-N，來自E丄 杜邦公司，維明頓，美國德拉瓦州)的溶液旋轉塗布在固化的材料A表面上。 RSA溶液是六氟丙氧基苯中的溶液，固體含量約為20%。通過在空氣中於130 。C下在電熱板上加熱使RSA固化。通過在培養皿中浸泡於三氟甲苯中15分鐘， 洗去任何未固化的RSA，然後在空氣中於環境溫度下乾燥。使用苯甲醚測定固 化的、未塗布的材料A的接觸角為約9度。如果用三氟甲苯(無RSA塗層)簡 單地洗滌表面，那麼在實驗誤差內固化的、未塗布的材料A的接觸角是相等的。 如果將RSA塗布到材料A上並用三氟甲苯洗去RSA(不在烘箱中使RSA反應)， 那麼在實驗誤差內接觸角是相等的。烘箱固化的RSA表面的接觸角是27度。 這表明施加和除去RSA不影響下襯表面能，而且能容易地測量比較固化的膜 的差別。 實施例3
實施例3表示在形成第一層之後進行的RSA處理。第一層是有機活性層。 如上所述，用材料A塗布載玻片並熱固化。如上所述，用RSA溶液(宙尼 爾⑧TA-N)外塗在一些載玻片上的材料A上，並在環境中乾燥RSA。使用 VEECO NT3300幹涉輪廓測量儀測定RSA塗層的厚度約為100埃(A)。在空氣 中使RSA曝露於光化輻射(365-405納米，2.7焦耳/平方釐米)；掩蓋該載玻片 的一半以防止曝光。曝光後，通過在三氟甲苯中浸泡3分鐘，洗去未固化的 RSA。在RSA曝露於光化輻射的區域上，苯甲醚的接觸角是40度。在實驗誤 差內，未曝光的區域中的接觸角與材料A相等，這表明未曝光的RSA完全溶 解並能完全地從材料A表面上洗去。使沒有RSA的材料A的塗層曝露於光化 輻射，接觸角沒有變化。這表明通過曝露於光化輻射在RSA中產生圖案，表面能的變化是由RSA引起而不是處理步驟引起的。
實施例4
實施例4表示在形成第一層後進行的RSA處理。該實施例也表示在印刷發 射油墨過程中實施的限制結構。該實施例顯示在圖3至圖6中。
通過光刻法使具有厚度為約1100A的氧化銦錫(ITO)塗層的玻璃基材(在圖3 中顯示為200)形成圖案，以便產生一列ITO線(顯示為200)， ITO線的寬度是 約90微米，線之間的間隔是10微米。將材料A的層220塗布在這一列線上面， 並在具有氮氣氣氛的回流烘箱中於20(TC下固化30分鐘，如圖4中顯示。塗布 ITO的材料A線顯示為211。通過旋轉塗布將宙尼爾⑧TA-N塗層230從六氟丙 氧基苯施加到一基材上的材料A上，然後在空氣中乾燥，如圖5中所示。使用 負型光掩模使塗層曝露於來自光源的輻射，該光源的主要發射的範圍是 365-404納米，使得曝光區域覆蓋ITO線之間的縫隙和2-3微米的ITO線的邊 緣。曝光量約為3.8焦耳/平方釐米。在三氟甲苯中洗滌這些板以便除去未曝光 的RSA。圖6顯示顯影后的板，其上有RSA覆蓋的區域230和材料A覆蓋在 IT0上的區域211，以及材料A覆蓋在玻璃上的區域220。在環境條件下，使 用麥克羅凡博(MicroFab)公司的印刷機將發射油墨(含有比例為8:92的BH119 和BH215(都來自初光公司)，分散在苯甲醚中，總固體量為1.5%)印刷在1丁0 線上。液滴體積約為40-45微微升，液滴間距為0.08毫米，產生連續的印刷線。 在沒有RSA的板上，印刷線擴展約200-300微米；g卩，油墨遍及3條IT0線。 在實際的印刷過程中，這將導致不可接受的顏色混合。在具有圖案化的RSA 的板上，油墨完全包含在用RSA處理過的區域中，能形成高質量印刷的裝置。 實施例5
實施例5顯示在第一層形成後進行的RSA處理。
如上所述，製備材料A的塗層並進行熱固化。然後如上所述用宙尼爾 ⑧TA-N的RSA塗料外塗。RSA塗層接受掩蓋的曝光，最高曝光量約4焦耳/ 平方釐米。曝光後在三氟甲苯中洗滌塗層，用苯甲醚測量接觸角。苯甲醚接觸 角從約9度(材料A表面)調節至40-50度。如果在空氣或惰性氣氛中進行曝光， 觀察不到明顯的差別。
實施例6實施例6顯示在第一層形成後進行的RSA處理，其中通過升華除去未曝
光的區域。
如上所述，製備材料A的塗層並進行熱固化。然後如上所述通過旋轉塗布 將二十一氟十二烷基丙烯酸酯的RSA塗料作為3重量/體積％的全氟辛烷溶液 外塗布在固化的材料A的塗層上。其中一個RSA塗層接受掩蓋的紫外曝光， 曝光量約為1.5焦耳/平方釐米；另一個塗層不接受紫外曝光。兩個塗層在空氣 中於195'C下在電熱板上烘培20分鐘，用苯甲醚測量接觸角。在曝露於紫外輻 射的RSA塗層上，苯甲醚接觸角約為55度。在未曝露於紫外輻射的塗層上， 苯甲醚接觸角是10度。這表明可以通過加熱除去未曝露於紫外輻射的RSA。 如果RSA塗層曝露於圖案狀的紫外輻射，然後加熱，那麼在曝光區RSA的接 觸角保持約55度，未曝光區的接觸角為約10度。
注意，不是所有以上概述或實施例中所述的操作都是需要的， 一部分具體 的操作可能不需要，除了描述的活動外，可能進行一個或多個其它操作。而且， 排列操作的順序不一定是實施操作的順序。
以上的說明中關於具體實施方式
描述了構思。然而，本領域的普通技術人 員會認識到，在不脫離以下權利要求所述的本發明的範圍的情況下，可以做各 種修改和變化。因此，說明書和附圖應視為示例性的而不是限制的，我們希望 所有這種修改都包括在本發明的範圍內。
我們根據具體實施方式
描述了益處、其它優點和解決問題的方法。然而， 這些益處、優點、問題的解決方法，以及任何可能使益處、優點或解決方案產 生或變得更顯著的特徵都不應該被解釋為任何一項或所有權利要求的關鍵的、 必需的或基本的特徵。
應該認識到，為了清楚的目的本文以分離的實施方式的形式描述某些特 徵，也可以在單個的實施方式中以組合的方式描述這些特徵。反過來，為了簡 潔的目的而在單個的實施方式中描述的各種特徵也可以分開提供或以任意亞 組合的方式提供。而且，以範圍的方式敘述的值包括該範圍內的每一個值和所 有的值。
權利要求
1. 在第一層上形成限制的第二層的方法，所述方法包括形成具有第一表面能的第一層；用反應性表面活性組合物處理第一層以便形成具有第二表面能的處理過的第一層，所述第二表面能低於第一表面能；對處理過的第一層進行輻射曝光；以及形成第二層。
2. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，所述反應性表面活性組合物 是氟化的材料。
3. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，所述反應性表面活性組合物 是可輻射硬化的材料。
4. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，所述反應性表面活性組合物 是可交聯的氟化的表面活性劑。
5. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，所述反應性表面活性組合物 與第一層一起沉積。
6. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，所述反應性表面活性組合物 作為單獨的層施加在第一層上。
7. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，以一種圖案施加所述輻射， 以使反應性表面活性組合物形成曝光區域和未曝光區域。
8. 如權利要求7所述的方法，還包括除去所述反應性表面活性組合物的 曝光區域或未曝光區域。
9. 如權利要求8所述的方法，其特徵在於，通過液體處理除去所述區域。
10. 如權利要求8所述的方法，其特徵在於，通過加熱除去所述區域。
11.如權利要求8所述的方法，其特徵在於，通過使最外部表面與吸收劑表面接觸以吸收或通過毛細管作用除去較軟的區域。
12.製造含有位於電極上的第一有機活性層和第二有機活性層的有機電子 裝置的方法，所述方法包括在該電極上形成具有第一表面能的第一有機活性層；用反應性表面活性組合物處理所述第一有機活性層以形成處理過的第一 有機活性層；對處理過的第一有機活性層進行輻射曝光，以此降低第一表面能；以及 形成第二有機活性層。
13. —種有機電子裝置，其包括位於電極上的第一有機活性層和第二有機 活性層，在所述第一有機活性層和第二有機活性層之間還具有反應性表面活性 組合物。
全文摘要
本發明提供一種在第一層上形成限制的第二層的方法，該方法包括以下步驟形成具有第一表面能的第一層；用反應性的表面活性組合物處理該第一層以形成具有第二表面能的處理過的第一層，所述第二表面能低於第一表面能；對處理過的第一層進行輻射曝光；形成第二層。本發明還提供由該方法製造的有機電子裝置。
文檔編號H01L21/00GK101507177SQ200680053669
公開日2009年8月12日 申請日期2006年4月10日 優先權日2006年3月2日
發明者A·戈納佳, C·D·朗, C·K·泰勒, D·R·安託, P·A·桑託, S·索裡奇 申請人:E.I.內穆爾杜邦公司