可光致固化的組合物的製作方法

2023-04-23 05:55:06

可光致固化的組合物的製作方法
【專利摘要】本發明描述了包含有機矽-聚醚嵌段共聚物的低表面能光致抗蝕劑組合物，其中所述有機矽嵌段包含35重量％或更多的所述共聚物。當與光致抗蝕劑組合物化合時，所述組合物允許光掩膜從所述光致抗蝕劑層釋放。
【專利說明】可光致固化的組合物

【背景技術】
[0001] 在印刷電路行業，帶有電路圖案的感光掩模或鋼網被稱為光掩膜（phototool)。這 種可通過其來暴露光致抗蝕劑的鋼網提供用以表現電路的錯綜複雜的圖像。該圖像通常由 許多緊密地間隔在一起的細線和連接組成。在其製備印刷電路板的用途過程中，將光掩膜 面朝下設置在光致抗蝕劑層上，並且通過經由光掩膜使光致抗蝕劑暴露於光（通常為紫外 線），隨後使光掩膜與暴露的光致抗蝕劑層分離來製備接觸印刷。按照這種方式，單個光掩 膜可用於製備多個接觸印刷。
[0002] 持續使用光掩膜會在光掩膜表面上產生細小的刮傷和磨損。光掩膜設置在其上的 光致抗蝕劑通常被層合在銅片（或其它氣相沉積的銅基底）上，並且當將光掩膜從一處光 致抗蝕劑轉移到下一處光致抗蝕劑時，銅片的細小毛刺或毛邊可引起刮傷。光掩膜還頻繁 地使用軟布來擦試以確保其無粉塵和棉絨。當在整個光掩膜的表面擦試灰塵的微粒時，灰 塵的微粒能夠引起刮傷。鑑於在正常使用期間光掩膜表面上的這種普遍的磨損和撕裂，因 此必須頻繁地檢查光掩膜以確保線條的連續性。根據光掩膜的尺寸和複雜情況，這種微觀 檢測可花費2到3個小時。
[0003] 理想地，光掩膜必須可從暴露的光致抗蝕劑乾淨地移除，以使光掩膜的汙染降到 最低。多種保護光掩膜的方法已得到描述。
[0004] 由於光掩膜易刮傷並且在光掩膜的正常使用期間磨損是個嚴重的問題，因此通常 採用具有釋放性能的保護膜和外塗層來保護光掩膜並且允許光掩膜的重複使用。例如，已 將塗有各種壓敏性粘合劑的聚矽氧烷膜層合至光掩膜的載像表面以保護圖像且提供順利 的脫離。然而，由於其厚度，層合膜可引起光學畸變。此外，聚矽氧烷膜相對柔軟並因此僅 提供有限的刮傷保護。
[0005] 可通過使用液體組合物塗覆光掩膜的表面來獲得更薄且更硬的保護性塗層。然 後，使薄液體塗層硬化以產生具有改善的耐刮傷性的所需保護性塗層。由於其耐磨性，已使 用環氧矽烷和丙烯酸酯（例如聚氨酯丙烯酸酯）作為保護性硬塗層。然而，許多這些保護 性外塗層的釋放特性有限，因此即使當使用額外增滑劑時，其仍會粘著至光致抗蝕劑表面， 特別是當存在諸如高粘度阻焊層油墨的粘性光致抗蝕劑材料時。
[0006] U. S. 2011/008733 和 U. S. 201 l/027702(Qiu 等人）描述 了具有減少的表面能 的待施加於光掩膜的用於從光致抗蝕劑的改善耐久釋放的硬質塗層組合物，所述硬質塗 層組合物包含（a) -種或多種環氧矽烷化合物、（b) -種或多種環氧官能化的全氟聚醚 丙烯酸酯低聚物和（c)光酸產生劑。2011年10月19日提交的 申請人:的共同未決申請 U. S. S. N. 61/549138描述了用於光掩膜保護和釋放性能的硬質塗層組合物，所述硬質塗層 組合物包含（a)環氧矽烷化合物、（b)反應性有機矽添加劑和（c)光酸產生劑。
[0007] 用於使光掩膜從光致抗蝕劑更容易釋放以反覆使用的替代方法是具有低表面能 的光致抗蝕劑，這可通過在光致抗蝕劑中使用低表面能添加劑來實現。


【發明內容】

[0008] 考慮到前文所述，我們認識到存在對光致抗蝕劑組合物的需要，該光致抗蝕劑組 合物可通過暴露於光化輻射而固化，即使當存在粘性材料例如高粘度阻焊層時，也容易地 從光掩膜釋放。
[0009] 本發明提供了一種低表面能光致抗蝕劑組合物，該組合物包含具有側鏈全氟醚基 團和側鏈聚（亞烷基氧）基團兩者的（甲基）丙烯酸酯共聚物。當與光致抗蝕劑組合物 化合時，該組合物允許通過下述方式製造電路：使光掩膜固定在光致抗蝕劑層上，使光致抗 蝕劑層與光掩膜一起暴露於高強度光，從包含所述共聚物的光致抗蝕劑層容易地移除光掩 膜，並且在用於最終產品例如印刷電路板的正常條件下，使光暴露的光致抗蝕劑顯影。具有 低表面能特性的保護性阻焊層由於水分和液體排斥性可向印刷電路板提供改善的保護。 [0010] "烷基"是指具有1至約28個，優選1至12個碳原子的直鏈或支化的、環狀或無環 的飽和單價煙基，如甲基、乙基、1_丙基、2-丙基、戊基等。
[0011] "亞烷基"是指具有一至約十二個碳原子的直鏈飽和二價烴基或具有三至約十二 個碳原子的支化飽和二價烴基，如亞甲基、亞乙基、亞丙基、2-甲基亞丙基、亞戊基、亞己基 等。
[0012] "雜烷基"包括具有一個或多個獨立地選自S、P、Si、0和N的雜原子的直鏈、支化 和環狀烷基基團，該烷基基團包括未取代和取代的烷基基團兩者。除非另外指明，所述雜烷 基基團通常包含1至20個碳原子。"雜烷基"為下文所述"包含一個或多個S、N、0、P、*Si 原子的烴基"的子集。如本文所用，"雜烷基"的實例包括但不限於甲氧基、乙氧基、丙氧基、 3, 6-二氧雜庚基、3-(三甲基甲矽烷基）-丙基、4-二甲基氨基丁基等。除非另外指明，雜烷 基基團可為一價或多價的，即一價雜烷基或多價雜亞烷基。
[0013] "芳基"是包含6-18個環原子的芳族基團並且可包含任選的稠環，該稠環可為飽和 的、不飽和的或芳族的。芳基基團的例子包括苯基、萘基、聯苯、菲基和蒽基。雜芳基為包含 1-3個諸如氮、氧或硫之類的雜原子的芳基並且可以包含稠環。雜芳基基團的一些實例為 吡啶基、呋喃基、吡咯基、噻吩基、噻唑基、曝唑基、咪唑基、吲哚基、苯並呋喃基和苯並噻唑 基。除非另外指明，芳基和雜芳基基團可為一價或多價的，即一價芳基或多價亞芳基。
[0014] "（雜）烴基"包括烴基烷基和芳基基團，以及雜烴基雜烷基和雜芳基基團，後者 包含一種或多種鏈中氧雜原子，諸如醚或氨基基團。雜烴基可任選地包含一種或多種鏈中 (鏈中的）官能團，該官能團包括酯、醯胺、脲、氨基甲酸酯和碳酸酯官能團。除非另外指 明，非聚合的（雜）烴基基團通常包含1至60個碳原子。除了以上對於"烷基"、"雜烷基"、 "芳基"和"雜芳基"所述的那些外，如本文所用，此類雜烴基的一些實例還包括但不限於甲 氧基、乙氧基、丙氧基、4-二苯基氨基丁基、2-(2'_苯氧基乙氧基）乙基、3, 6-二氧雜庚基、 3, 6-二氧雜己基-6-苯基。
[0015] "丙烯醯"包括酯和醯胺兩者。
[0016] "（甲基）丙烯醯"包括丙烯醯基團和甲基丙烯醯基團兩者；即，包括酯和醯胺兩者 在內。

【具體實施方式】
[0017] 光致抗蝕劑組合物包含具有側鏈全氟醚基團和側鏈聚（亞烷基氧）基團兩者的 (甲基）丙烯醯共聚物。所述共聚物還可任選地包含側鏈環氧基團、側鏈矽烷基團、側鏈羥 基基團、側鏈酯基團和/或側鏈光引發劑基團。
[0018] 更具體地講，共聚物可以由下式表示：
[0019] ?[MFPE] a_ [Mao] b_ [M 氧]c [MSil] d_ [MPI] e_ [M 丙艦基]f_ [M 酷]g_ [M?] h ?
[0020] 其中
[0021] [MFPE]表示具有側鏈全氟聚醚基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，
[0022] [MA°]表示具有側鏈聚（亞烷基氧）基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，
[0023] [M_]表示具有側鏈環氧基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，
[0024] [Msil]表示具有側鏈甲矽烷基基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，
[0025] [MPI]表示具有側鏈光引發劑基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，
[0026] [Mwfsa]表示具有側鏈可聚合（甲基）丙烯醯基團的均共聚（甲基）丙烯醯單 體單元，
[0027] -[M?]-表示具有側鏈羥基基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，並且
[0028] 下標a和b各自為1至100,並且a+b為至少3, c、d、e、f、g和h可為0。在本文 中，應當理解，特定單體單元是指起始單體本身或共聚物的均共聚單體單元。
[0029] 可光致固化的組合物包含相對於100重量份的光致抗蝕劑組分0. 1至5重量份的 共聚物。共聚物的平均分子量Mw為1500至50, 000。
[0030] [Mfpe]單體可具有式PFE-X2-CO-Ca?1) = CH2，其中PFE為具有至少792g/mol分子 量的全氟化聚醚基團，X2為（雜）烴基基團，並且每個R 1為氫或1至4個碳原子的烷基。 更具體地，全氟化聚醚基團具有式R/-0- (Rf2)p- (Rf3)，其中Rf1表示全氟化烷基基團，R f2表 示C1-C4全氟化聚亞烷氧基基團或其混合物，R f3表示全氟化亞烷基基團，p為3至25,並且 q為〇至1。
[0031] 上式中的全氟化烷基基團Rf1可以是直鏈或支化的，並且可以包含1至10個碳原 子，優選地1至6個碳原子。典型的全氟化烷基基團為CF 3-CF2-CF2-。Rf3為通常具有1至6 個碳原子的直鏈或支化全氟化亞烷基基團。例如，Rf3為-CF2-或-CF(CF 3) _。全氟化聚亞烷 氧基基團Rf2的全氟化聚亞烷氧基基團的例子包括：-CF 2CF2〇-、-CF (CF3) CF2〇-、-CF2CF (CF3) 0-、-CF2CF2CF2〇-、-CF 2〇-、-CF (CF3) 0-和-CF2CF2CF2CF2〇-。全氟亞烷基氧基團可由相同全氟 亞烷基氧基團單元或不同全氟亞烷基氧基團單元的混合物組成。當全氟亞烷基氧基團由不 同的全氟亞烷基氧單元組成時，它們可以無規構型、交替構型的形式存在，或者它們可作為 嵌段物的形式存在。
[0032] 全氟化聚亞烷基氧基團的典型例子包括：_ [CF2CF2O] y_、- [CF (CF3) CF2O] z-、- [CF2CF2O] y- [CF2O] x-和-[CF2CF2O] y- [CF (CF3) CF2O] z-，其中下標 x、y 和 z 各自為 3 至 25。 優選的全氟化聚醚為CF3CF2CF2O-[CF(CF 3) CF2O]Z-CF(CF3)-,其中z為3至25的整數。該全 氟化聚醚基團在η等於3時具有最低792的分子量，並且可源自六氟環氧丙烷的低聚反應。 該全氟化聚醚基團由於其良性環境特性而為優選的。較高的分子量為優選的。
[0033] 因此，在本發明的具體實施例中，氟化聚醚單體對應式R/-0- [CF (CF3) CF2O] Z-CF(CF3)-X2-CO-CR1 = CH2，其中Rf1表示全氟化烷基基團，z為3至25的整數，R 1表示氫或 1至4個碳原子的烷基基團，X2為（雜）烴基基團，優選地為亞烷氧基基團。
[0034] (雜）烴基基團X2可包括以下基團，諸如-CONR1- (CH2)「Χ1-、-COOCH2CH (OH) CH2-X1-, -CONR1-(CH2)dO-, -CH2O-(CH2)d-X1-, -CH2O-(CH2CH2O)d-CH 2CH2-X1 -CONR1-(CH2) (10-(：0順-(：_)2-(：6!14-，其中乂 1為-0-或-順1-，(1為2至10，1?1為!1或1至4個碳的烷基 基團。
[0035] 氟化聚醚單體的具體例子包括：
[0036] PFE-CONR1- (CH2) ^Xi-COC (R1) = CH2，其中並且 X1 為-0-或-NR1-，j 為 2 至 10， R1為H或1至4個碳的烷基基團；
[0037] PfE-COOCH2CH(OH) CH2-X1-COC (R1) = CH2，其中 R1 為 H 或 1 至 4 個碳的烷基基團並 且 X1 為-0-或-NR1-;
[0038] PfE-CONR1-(CH2) P-ConHCH2CH2-X1-CO-C(R1) = CH2，其中 j 為 2 至 10, R1 為 H 或 1 至4個碳的烷基基團並且X1為-0-或-NR1-;
[0039] PFE-CH2O- (CH2) j-X^CO-C (R1) = CH2，其中 j 為 2 至 10, R1 為 H 或 1 至 4 個碳的烷 基基團並且X1為-0-或-NR1-;
[0040] PFE-CH2O-(CH2CH2O) ^CH2CH2-X1-CO-C(R1) = CH2，其中 j 為 2 至 10, R1 為 H 或 1 至 4個碳的烷基基團並且X1為-0-或-NR1-;和
[0041] PFE-CH2S- (CH2) ^X1-CO-C (R1) = CH2，其中 j 為 2 至 10, R1 為 H 或 1 至 4 個碳的烷 基基團並且X1為-0-或-NR1-。
[0042] 在上述示例性化合物中，PFE具有如上文所限定的意義並且優選地為 CF3CF2CF2O-(CF(CF3) CF2O) (CF3)-,其中下標c為3至25。氟化聚醚化合物可通過以下方 式易於獲得：起始自例如酸、酯或醯滷封端的全氟化聚醚並與適當反應物反應以引入烯鍵 式不飽和基團和連接基團X2。這些反應是本領域內的技術人員熟知的，並且引入烯鍵不飽 和基團的適宜反應和反應物的實例可見於例如EP 870 778中。例如，式H-X2-C(R) =CH2 的化合物可與酸、醯滷或酯封端的全氟化聚醚反應。可替代地，羥基或氨基封端的全氟化聚 醚可與具有親電子官能團的丙烯醯化合物反應。
[0043] [Mpfe]單體的製備可示出如下：
[0044] I) PFE-C02R+NH2C2H40H - PFE-C (0) NHC2H4OH -
[0045] PFE-C (0) NHC2H4OC (0) CR1 = CH2
[0046] 2) PFE-C (0) NHC2H40H+IEM -
[0047] PFE-C (0) NHC2H4OC (0) NHC2H4OC (0) CR1 = CH2
[0048] 3) PFE-CO2R - PFE-CH2OH - PFE-CH2O-C (0) CR1 = CH2
[0049] 4) PFE-CH2OH - PFe-CH2O-CH2CH2OH -
[0050] PFE-CH2O-CH2CH2O-C (0) CR1 = CH2
[0051] [MFPE]單體相對於100份的總單體的使用量為5至60重量份，優選地為20至40 重量份。可添加[M pfe]以增強低表面能的共聚物的疏水性和對應釋放性能以及水分和液體 排斥性。
[0052] 單體[MA°]可以由以下通式表示：
[0053] R3- (OCrH2r) ,-X1-CO-CR1 = CH2
[0054] 其中
[0055] R3 為 H、C1-C4 烷基基團；
[0056] r 為 2 至 4 ;
[0057] q為4至250;並且
[0058] 每個X1獨立地為-0-或- NR1-。
[0059] 在一些實施例中，r優選地為2或3,或至少一個聚（環氧乙烷）烯鍵式不飽和單 體和至少一個聚（環氧丙烷）烯鍵式不飽和單體的混合物。聚（環氧烷）單體通常具有至 少200g/mol的分子量，通常不大於約5000g/mol，並且優選地小於約3000g/mol。
[0060] 代表性聚（環氧烷）單體包括 CH2 = CHCO2 (CH2CH2O) qH、CH2 = CHCO2 (CH2CH2O) ^CH3、CH2 = CMeCO2 (CH2CH2O) qH、CH2 = CMeCO2(CH2CH2O)qCHp CH2 = CHCO2 (C3H6O) qH、CH2 = CHCO2 (C3H6O) qCH3、CH2 = CMeCO2 (C3H6O) qH 和 CH2 = CMeCO2 (C3H6O) qCH3,其中 q 為 4 至 250。
[0061] 應當理解，當R3為-H從而提供末端羥基時，所得共聚物可具有除了亞烷氧基 基團之外的側鏈（甲基）丙烯醯基團。此類側鏈（甲基）丙烯醯基團具有下式-OC(O) CR1 = CH2，並且通過下文的反應公式中所示的與式X3-C(O)CR1 = CH2S的（甲基）丙烯醯 化合物的反應來製備，其中X3為- OH、Cl或F或C1-C4烷基。可替代地，羥基末端通過與 式OcnCH2CH2OC(O)CR 1 = CH2的異氰酸酯官能（甲基）丙烯醯化合物反應可具有式-C(O) NhCH2CH2OC(O)CR1 = CH2的（甲基）丙烯醯基團。
[0062] 此類單體可表示為[Μ--?],，其中[Mwfsa]表示具有側鏈（甲基）丙烯酸酯基 團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，並且f為至少1。可將[Μ Α°]單體單元的全部或一部 分轉變成[Mwfsa]單體單元。[Mwfsa]單體單元可用於在光固化過程期間使共聚物與丙 烯酸酯基光致抗蝕劑交聯。
[0063] [ΜΑ°]單體的使用量基於100份的總單體計為5至80,優選地5至60重量份。可 添加[Μ Α°]以增強共聚物的親水性並作為改善塗層質量的潤溼劑。[Mwfsa]單體的使用量 基於100份的總單體計可為5至80,優選地5至60重量份，並且可用於交聯共聚物或用於 結合到丙烯酸酯官能抗蝕劑組合物中。
[0064] 共聚物任選地包括下式的環氧單體[Miw]:

【權利要求】
1. 一種可光致固化的組合物，包含： a) 光致抗蝕劑組分，和 b) 下式的共聚物： ?[MFPE]a-[MA〇]b-，其中 [Mfpe]表示具有側鏈全氟聚醚基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元， [MA°]表示具有側鏈聚（亞烷基氧）基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元， 下標a和b各自為1至100,並且a+b為至少3,和 c) 光引發劑。
2. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述共聚物的平均分子量Mw為 1500 至 50, 000。
3. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述共聚物還包含環氧單體單元 [Msw ]。，並且c為至少1。
4. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述環氧單體具有下式：
其中： R7為（雜）烴基基團，優選地為烴基基團，更優選地為C1-C6亞烷基； R1為-H或C1-C4烷基；並且X1 為-NR1-或-0-。
5. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述共聚物還包含下式的單體單 元： [MSil]d，其中[Msil]表示具有側鏈甲矽烷基基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，並 且d為至少1。
6. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述共聚物還包含下式的共聚羥 基官能單體單元[M°H]:
R16為（雜）烴基基團，優選地為烴基基團，更優選地為C1-C6亞烷基； R1為-H或C1-C4烷基；並且X1 為-NR1-或-0-。
7. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述共聚物還包含下式的單體單 元： [Μ--8?],，其中[Mwfsa]表示具V有側鏈（甲基）丙烯酸酯基團的均共聚（甲基） 丙烯醯單體單元，並且f為至少1。
8. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述共聚物還包含下式的單體單 元： [Ms]g，其中[Ms]表示具有側鏈酯基團的均共聚（甲基）丙烯醯 單體單元，並且g為至少1。
9. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述共聚物還包含下式的單體單 元： [MPI]g，其中[Mpi]表示具有側鏈光引發劑基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，並且g為至少1。
10. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，包含相對於100重量份的所述光致抗 蝕劑組分0. 1至5重量份的所述共聚物。
11. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述光致抗蝕劑組分為正性光 致抗蝕劑。
12. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述光致抗蝕劑組分為負性光 致抗蝕劑。
13. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述光致抗蝕劑組分為阻焊劑。
14. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述[MA°]單體單元的所述聚 (亞烷基氧）基團具有下式： R3- (OCrH2r) ,-X1-CO-CR1 =CH2 其中 R3為HJ1-C4烷基基團； r為2至4 ; q為4至250 ;並且 每個X1獨立地為-0-或-NR1-。
15. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，還包含基於100重量份的所述光致抗 蝕劑組合物計5至40重量份的量的熱固性樹脂。
16. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述[Mfpe]單體具有下式：PFE-f-CO-C?1) =CH2，其中PFE為具有至少750g/mol的分子量的全氟化聚醚基團， 並且X2為二價（雜）烴基連接基團，並且R1為氫或1至4個碳原子的烷基。
17. 根據權利要求16所述的可光致固化的組合物，其中X2選自-〇12〇-、-CH2OCH2CH2O-, -CH2SCH2CH2O-, -CH2CH2O-, -CH2CH2OCH2CH2O-,-CH2CH2SCH2CH2O-, -C(O) OCH2CH2O' -C(O)NR1CH2CH2O' -C(O)Nr1CH2CH2SCH2CH2O-和-C(O)Nr1CH2CH2OCH2CH2O-O
18. 根據權利要求14所述的可光致固化的組合物，其中所述全氟化聚醚基團具有下 式： Rf1-O-Rf2-(Rf3),-，其中Rf1表示全氟化烷基基團，Rf2表示C1-C4全氟化聚亞烷氧基基團 或其混合物，Rf3表示全氟化亞烷基基團，並且q為〇至1。
19. 根據權利要求5所述的可光致固化的組合物，其中所述甲矽烷基官能單體單元 [Msil]具有下式： A-R8-Si-(Y)P(R9)3_ P 其中： A為（甲基）丙烯酸酯基團； R8為共價鍵或二價（雜）烴基基團。
20. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，包含： 5至60重量份的所述[Mfpe]單體單元、 5至80重量份的所述_[Ma°]單體單元、 0至50重量份的所述[Msil]單體單元、 0至40重量份的所述[Miw]單體單元、 0至40重量份的所述[Mwfsa]單體單元、 0至40重量份的所述[Ms]單體單元、 0至5重量份的所述[Mpi]單體單元、 0至30重量份的所述[M°H]單體單元， 其中所述單體單元的總和為100重量份。
21. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，還包含熱固性樹脂組分。
22. 根據權利要求1所述的可光致固化的組合物，其中所述共聚物具有下式： ?[MFPE] a- [MA。] b- [Mlf氧]c [MSil] d- [MPI] e- [M丙*醯基]f- [M酷]g- [M?] h? 其中 [MFPE]表示具有側鏈全氟聚醚基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元， [MA°]表示具有側鏈聚（亞烷基氧）基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元， [M1^]表示具有側鏈環氧基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元， [Msil]表示具有側鏈甲矽烷基基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元， [MPI]表示具有側鏈光引發劑基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元， [Mwfsa]表示具有側鏈可聚合（甲基）丙烯醯基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單 元， -[M?]-表示具有側鏈羥基基團的均共聚（甲基）丙烯醯單體單元，下標a和b各自為 1至100,並且a+b為至少3,c、d、e、f、g和h可為0。
23. -種多層製品，包含： a) 金屬基礎基底， b) 光掩膜， c) 設置在所述金屬基礎基底和所述光掩膜之間的根據權利要求1所述的可光致固化 的層。
24. 根據權利要求23所述的多層製品，其中所述可光致固化的層已通過熱和/或光暴 露被部分地固化。
25. 根據權利要求23所述的多層製品，還包含設置在所述光掩膜的表面上的硬質塗 層。
26. 根據權利要求23所述的半固化組合物，其具有小於100g/in(?39g/cm)的釋放 值。
【文檔編號】G03F7/038GK104246610SQ201380021735
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年4月1日 優先權日:2012年4月27日
【發明者】裘再明, D·C·法爾 申請人:3M創新有限公司