用於檢測主體運動的系統的製作方法
2023-04-23 03:40:51 3
專利名稱:用於檢測主體運動的系統的製作方法
技術領域:
本發明涉及一種用於檢測主體的運動的系統。更具體地說,本發 明涉及一種用於光學檢測主體(諸如,晶片或印刷電路板)的運動的 系統。本發明還涉及一種主體處理和/或4企查系統和一種檢測主體的運 動的方法。最後,本發明涉及一種用於對象運動檢測目的的光柵。
背景技術:
在各種技術應用中需要移動的主體的位置或位置變化的準確測 量。舉例說來,在半導體工業中採用的平版印刷投影工具和晶片檢查 工具需要關於半導體晶片的位置變化的準確信息。另一使用領域涉及印刷電路板(PCB)工業,其中在PCB上安裝部件、在PCB上印刷圖 案或檢查PCB期間需要關於PCB的位置的信息。存在採用光柵來測量對象移位的各種光學測量系統。這些系統包 括光學檢測機構,該光學檢測機構包括光源、光檢測器和光柵。該光 學檢測機構定位於光柵上方一定距離處。該系統可測量的運動類型(平 面內平移、平面內旋轉、平面外平移、平面外旋轉)取決於光學檢測 才幾構和光才冊。為了測量單個平面內平移,光柵具有在該平移方向中呈周期性的 光柵圖案。為了測量兩種平面內平移,需要在這兩種平移的方向中呈 周期性的光柵圖案。對於其中平移較大的應用,與光源的光斑大小相 比較,光柵所覆蓋的區域應較大以便檢測在全部可能平移範圍中的平 移。對於其中應才全測或測量兩種平面內平移的情形,尤為如此。對於特定應用,用於測量主體的平移的較大光柵可能在許多方面 是不利的。由於難於在較大區域上實現光柵圖案的高度準確的周期性, 較大光柵可能(例如)難於製造。因此,這種光柵的成本相對較高。 此外,較大光柵佔據該應用系統中的寶貴空間。而且,在某些應用中, 光柵經受較高加速並且需要具有由於溫度變化所導致的可以忽略的尺 寸變化特徵(低熱膨脹係數)。因此,較大和較重的光柵是不合需要 的。發明內容本發明的目的在於提供一種用於檢測主體運動的改進的系統和方法。本發明的另一目的在於提供一種用於檢測主體運動的系統和方 法,其減小了或消除了在前面部分中所提到的現有技術的這些缺點中 的至少一個缺點。本發明的另 一 目的在於提供一種用於檢測主體運動的系統和方 法,其允許應用減小的大小的光柵。本發明提供一種用於檢測主體運動的系統,其包括接合到所述主 體的第一延伸光柵條帶和與所述第一延伸光柵條帶交叉的單獨的並且 基本上固定的第二延伸光柵條帶。該系統還包括光學檢測機構,其被 設置成接收在所述第一延伸光柵條帶與所述第二延伸光柵條帶衍射的 一個或多個光束以檢測所述主體的運動。本發明還提供一種在一個系統中檢測主體運動的方法,該系統包 括接合到所述主體的第一延伸光柵條帶和與所述第一延伸光柵條帶交 叉的單獨的並且基本上固定的第二延伸光柵條帶。用於應用該方法的系統包括光學檢測機構。該方法包括以下步驟-向所述第一延伸光柵條帶或第二延伸光柵條帶提供入射光束;以及-在所述光學檢測機構接收從所述第一延伸光柵條帶和第二延伸光 柵條帶衍射的一個或多個光束來檢測所述對象的運動。光柵與第二光柵,可通過檢測或測量第一光柵和第二光柵相對於彼此 的移位來檢測具有較大平面內平移範圍的對象的運動。由於僅需要較 小的條帶,因此與現有技術的較大光柵相比,這些條帶可能更易於制 造並且因此這些光柵條帶更為廉價。此外,該光柵條帶所需要的空間 較小。應了解光柵條帶的長度優選地大約等於或大於該對象的平移範 圍,而寬度或橫向尺寸優選地基本上等於該光束的光斑寬度。如權利要求2和14中所限定的本發明的實施例提供能夠使用較小 光學檢測才幾構的優點。如權利要求3中所限定的本發明的實施例提供複雜性較低的系統的優點,這是由於光學檢測機構是固定的,而光重定向機構可相對容 易地容納於該系統中。如權利要求4中所限定的本發明的實施例具有最佳測量靈活性的 優點。如權利要求5中所限定的本發明的實施例允許檢測或測量該對象 的一個或兩個平面內平移的運動。如權利要求6和15中所限定的本發明的實施例允許確定該對象的 運動方向和在確定光束的相位時對光束中的功率波動的減小的敏感性。如權利要求7中所限定的本發明的實施例可能消除或減少在該系 統中的光學部件的量,因為光柵條帶的定向可能會影響光束的路徑。如權利要求8中所限定的本發明的實施例具有光學檢測機構的較 大旋轉範圍的優點。更具體說來,使用後向反射器的反射來千涉光束 將在光學檢測器上構成單個光斑,允許相位的容易檢測,如在本申請 中更具體地解釋。如權利要求9中所限定的本發明的實施例允許光束在被光學檢測 機構檢測之前在兩個延伸的光柵處衍射。更具體說來,透射性光柵和 反射性光柵的使用允許光束通過這些光柵重疊的區域。如權利要求10中所限定的本發明的實施例允許光柵條帶的較小長 度同時具有光學平面內平移檢測範圍。如權利要求ll中所限定的本發明的實施例是有利的,因為較小的 光柵條帶需要較小的空間並且可以(例如)被設置於或靠近將要被檢 測運動的該對象的邊界處。條帶的橫向尺寸優選地在1至10 mm的範 圍內,諸如5mm。此外,本發明提供主體處理和/或檢查系統,其包括處理和/或檢查 腔室,該處理和/或檢查腔室容納用於所述主體的主體定位平臺,其中 第一延伸光柵條帶安裝於所述主體定位平臺上。與所述第一延伸光柵 條帶交叉的第二延伸光柵條帶相對於所述腔室基本上固定地安裝。第 一延伸光柵條帶和第二延伸光柵條帶和所述光學檢測機構被設置成使得能夠檢測所述主體定位平臺的運動。優選地,該系統#:設置用於通過前面所介紹的方法來#:測運動。該主體處理系統的示例包括平版印刷投影工具,其具有用於半導體晶片的晶片承載臺。主體檢查系統的示例包括晶片檢查工具,諸如 光學檢查工具、電子顯微鏡、原子力顯微鏡等。 一般而言,這些系統 包括基於多軸雷射幹涉儀的位置測量系統。本發明能夠使用成本效益 替代系統代替這種基於多軸幹涉儀的系統。其它主體處理和主體檢查 系統分別包括用於在印刷電路板上安裝部件或印刷圖案的工具和檢查 這些板的工具。這些應用的特徵在於,與所採用光束的直徑相比,該 對象的較大平移。本發明還提供一種延伸光柵條帶,其包括在至少一個方向呈周期性的光柵圖案,所述延伸光柵條帶具有小於15mm優選地小於10或5 mm的一黃向尺寸。如權利要求18和19中所限定的本發明的實施例提供允許檢測或 測量主體的兩種平面內平移的優點。
參看附圖進 一 步說明本發明,附圖示意性地示出根據本發明的優 選實施例。應了解本發明絕不受到這些具體和優選的實施例限制。 在附圖中圖1示出了根據本發明的第一實施例用於檢測對象的運動的系統 的示意圖;圖2示出了根據本發明的第二實施例用於檢測對象的運動的系統 的示意圖;圖3示出了根據本發明的第三實施例用於檢測對象的運動的系統 的示意圖;圖4A至圖4F示出了第一光柵條帶和第二光柵條帶的各種類型;圖5和圖6示出了根據圖1的實施例的系統的示意性示例,其分 別用於^r測對象在一個方向和兩個方向中的運動。圖7至圖11示出了根據圖2的實施例的系統的示意性示例,其用 於檢測對象在一個方向中的運動;圖12示出了根據圖2的實施例的系統的示意性示例,其用於檢測 對象在兩個方向中的運動;以及圖13示出了主體處理系統,其包括根據本發明的實施例用於檢測 對象的運動的系統。
具體實施方式
圖1至圖3示出了用於檢測主體2的運動的系統1的示意性實施 例,該主體2包括表面3。方向x和y限定了在主體2的表面3的平面 中的所有平移的正交分量。z方向限定了平面外平移的正交分量。應注意的是在附圖中,單個光束實際上可能表示一組光束。系統1適於4企測主體2的運動並且優選地適於才全測或測量主體2 在方向x、 y中的一個方向或兩個方向中的移位。箭頭M限定能夠檢測 或測量的主體2的移位的方向,如將在下文中參看圖4A至圖4F進一 步介紹。為此,系統1包括接合到主體2的第一延伸光柵條帶4和與 所述第 一延伸光柵條帶交叉的單獨的和基本上固定的第二延伸光柵條 帶5。第二光柵條帶2可能在系統1內的適當位置固定地設置並且還可 被稱作參考光柵。應了解,雖然第一光柵條帶4和第二光柵條帶5垂 直地交叉,但可採用條帶之間的任何角度。此外,應了解在z方向在 接合主體的光柵條帶4與固定光柵條帶5之間設有一定距離。通過使用單獨的光柵4、 5,這些光柵可以是條帶形狀,即使在主 體2具有較大平面內平移範圍的情況下。作為在主體2的整個表面3有系2的情況,可使用/目對較窄的光柵;帶4、 5:這些光柵條帶45、 5 的長度可能大約等於在x、 y方向的兩個平面內平移範圍並且它們的寬 度大約等於用於運動檢測的光束的光斑大小。提供光學檢測機構6來檢測從第一光柵條帶4和第二光柵條帶5 衍射的光束。從這些衍射束,例如,通過測量正第一 (+1 st)衍射級和 負第一 (-Ist)衍射級,就有可能以已知方式來檢測並優選地測量主體 2的移位。在圖1中,可通過傳輸機構(未示出)沿著固定的第二光柵條帶5 並且相對於固定的第二光柵條帶5來移動光學檢測機構6(用箭頭B表 示)使得光學檢測機構6保持在第一延伸光柵條帶6與第二延伸光柵 條帶5的重疊區域0上方。因為重疊區域相對較大(例如,100 mm2), 該傳輸機構可能移動光學檢測機構6使得它保持在重疊區域O上方, 即使在主體2在它的全部平面內範圍以相當大的加速度平移的情況下, 如(例如)在半導體晶片處理中發生的情形。只要光學檢測機構6位於重疊區域O上方,光學檢測機構6的實際位置便不影響主體2的移 位的測量的準確性。在圖1的實施例中,第一光柵條帶4是反射性的並且該第二光柵 條帶5是透射性的。因此,該光學檢測機構6可能接收第一光柵條帶4 和第二光柵條帶5的衍射光束。在圖2中,光學檢測機構6相對於第二光柵條帶5是固定的。一 個或多個光束L從光學檢測機構6導向到重定向機構7,諸如鏡面或稜 鏡,在它的頂部安裝第一光柵條帶4。重定向機構7通過接合機構8而 接合到主體2上。第一光柵條帶4是透射性的,而第二光柵條帶5是 反射性的。離開光學檢測機構6的光束被重定向機構7導向以到達第 一光柵4和第二光柵5的重疊區域O並且在光學檢測機構6接收從這 些光柵衍射的光束以檢測對象2的運動。圖2的實施例是有利的,因 為用於光學檢測機構6的運動的裝置可能被省略。在圖3中,顯示了圖l和圖2的系統的組合。圖4A至圖4F描繪了第一光柵條帶4和第二光柵條帶5的各種類 型。箭頭M表示其中條帶4、 5的光柵圖案P呈周期性的方向並且因 此表示能夠檢測或測量的該第一光柵條帶4所接合的對象的平面內平 移的方向。因此,圖4A與圖4B的條帶4、 5的光柵圖案P允許分別在 僅一個平面內方向x、 y中進行運動檢測,而圖4C至圖4F中的條帶4、 5的光柵圖案P允許在兩個平面內方向x、 y中的運動檢測。在圖4C 中的條帶4、 5每個都具有兩種不同定向的光柵圖案Pl、 P2,而圖4D 至圖4F的條帶4、 5中的至少一個條帶具有在x和y方向中呈周期性 的單個光柵圖案P,在這種情況下為棋盤圖案。在條帶4、 5的延伸方向中的長度L優選地覆蓋該對象2的全部平 移範圍並且可能在5至100 cm的範圍中,諸如30cm或50cm。延伸 光柵條帶4、5的寬度W優選地超過用於光學檢測系統6的光束的直徑, 但應合理地保持儘可能較小,因為保持該光柵所覆蓋的區域儘可能地 小是有利的。舉例說來,條帶4、 5的橫向寬度W小於10mm,諸如5 mm。光柵圖案P的周期在100nm到50m的範圍中,諸如2 m。僅示 出了光柵條帶4、 5的少數周期。該周期性圖案可能(例如)通過在玻 璃襯底中蝕刻該圖案而獲得。圖5和圖6示出了根據圖1的實施例的系統l的示意性示例,其用於才企測對象2 (未示出)分別在一個方向和兩個方向x、 y中的運動。 相同的或類似的部件用相同的標號表示。在圖5中,進入光束L通過透射性第二光柵條帶5衍射並且在反 射性第一光柵條帶4衍射。第二固定光柵條帶5是單獨的部件並且不 是光學檢測機構6的一部分。衍射光束之後被後向反射器9 (例如,立 體角反射器)重定向朝向第一光柵條帶4返回。應了解還可使用角隅 稜鏡或者貓眼反射器。後向反射器9可能補償該光柵4的平面內和平 面外旋轉以及光學檢測機構6的旋轉。這些光束衍射並且被反射回通 過第二光柵條帶5並被光學檢測機構6接收。由於第一光柵條帶4接 合到該對象上並且因此該對象的運動將導致光束的位移,該光學檢測 機構被設置成可沿著第二光柵條帶移動以便接收光束。圖6示出了能夠檢測兩種平面內位移的移位檢測或測量系統1的 備選示例。使用兩個光學檢測機構6,其可沿著各自的第二光柵條帶5 移動。對於第一光柵條帶4,使用棋盤光柵圖案P使得該主體2的側部 的空間需要減小。應了解也可採用在圖4C至圖4F中所顯示的光柵條 帶4、 5和允許檢測兩種平面內平移的其它類型的光柵條帶。圖7至圖11示出了根據圖2的實施例的系統1的示意性示例,其 用於檢測對象2在一個方向x或y的運動。圖12示出了根據圖2的實 施例的系統1的示意性示例,其用於檢測對象2在兩個方向x、 y中的 運動。相同的或類似的部件用相同的標號表示。在圖7中,通過重定向機構7將光束L導向到第一延伸光柵條帶4 和第二延伸光柵條帶5。兩個光柵條帶4、 5都是反射性的。在光學檢 測機構6接收在條帶4、 5的重疊區域中衍射的光束並且對於沿著箭頭 M的移位,能夠檢測或測量第一光柵條帶4所接合的主體2的移位。圖8示出了與圖7的示例類似的示例1,除了第二光柵條帶5具有 四個光柵圖案Pl至P4,這些光柵圖案Pl至P4在沿著箭頭M的相同 方向呈周期性並且在所述圖案之間存在相位差。光束Ll至L4被朝向 這些光柵圖案Pl至P4中的每一個導向,並且在光學檢測機構處接收 圖案Pl至P4中每一個的一皮多次衍射(multiply diffracted)的光束。 這個實施例允許確定對象2的運動方向,即,沿著箭頭M或-M,和對 入射光束L的功率波動的減小的敏感性。圖9和圖10示出了與圖7和圖8的系統1類似的系統1。然而,作為採用重定向機構7的替代,第一延伸和反射性光柵條帶4以選定 角度定位使得在圖9中的光束L和在圖10中的光束L1、 L2、 L3被適 當地衍射朝向第二延伸光柵條帶5。因此,不再需要單獨的重定向機構 7。在圖10中,第一光柵條帶4還包括三個光柵圖案P1至P3,其在沿 著箭頭M的相同方向中呈周期性並且在所述圖案之間存在相位差。因 此,確定對象2的運動方向,即,沿著箭頭M或-M,和對入射光束L 的功率波動減小的敏感性。圖11示出了系統l,其中第一延伸光柵條帶4應用到稜鏡7的頂 部上並且靠近固定的光學檢測機構6應用後向反射器9。入射光束L被 稜鏡7反射朝向第二光柵條帶5而不被第一光柵條帶4衍射。只是在 光柵條帶5處衍射之後,在第一光柵條帶4處衍射該衍射光束。圖12示出了系統1,其能夠進行沿著箭頭M的兩種平面內平移的 移位檢測或測量。同樣,相同的或類似的部件用相同的標號來表示並 且可採用在圖4A至圖4C中所示的光柵類型和設置或者允許進行兩個 平面內方向中的檢測的其它光柵。圖13示出了主體處理或主體檢查系統10,其中該主體2定位於腔 室12中的平臺11上。第一光柵條帶4被接合到主體2上。舉例說來, 主體2是置於晶片夾11上的晶片,晶片夾11被設置成在x-y平面中平 移用於處理或檢查目的。第二光柵條帶5相對於腔室12固定地安裝, 而腔室12允許處理機構或檢查機構(未示出)接近主體2。應注意的是,在原則上,第二光柵條帶5和相應檢測器6可能接 合到移動的腔室12,而第一光柵條帶4接合到穩定的平臺l上。顯然,用於檢測或測量主體2的移位的系統1是冗餘的,其對於 某些應用可能是有利的。舉例說來,在主體2不是剛性主體的情況下, 這種冗餘性可能是有利的。如果該主體由於溫度變化而膨脹,並且在 該主體的兩側都測量主體移位,那麼可能確定該主體的膨脹以及它的 移位。或者,如果該主體在促動下由於有限的剛度而變形,那麼可在 冗餘測量的幫助下來確定變形。所測量的變形還可用於校正所測量的 位置,這些數據可用於控制促動器(未示出),促動器可在主體上施 加力以-使消除變形。應了解其它實施例也已被本申請人想像到,包括只使用透射性光 柵條帶或只使用反射性光柵條帶的實施例。此外,應了解圖8和圖10的相移光柵模式可包括三個或多於四個圖案P。如果要確定具有未知偏 移和振幅的正弦信號的相位,那麼需要至少三次測量。正弦信號的三 個樣本可用於確定該信號的相位、振幅和偏移。使用三個或多個樣本 允許在不知道振幅的情況下確定相位並且獲得對功率波動減小的敏感性。此外,可能使用已知幹涉測量法來測量或檢測第一光柵條帶4與 第二光柵條帶5之間的距離。在權利要求書中,置於括號之間的任何標號不應^f皮認為限制該權 利要求。措詞"包括"並不排除在權利要求中所列出的之外的元件或 步驟的存在。在元件前面的措詞"一"並不排除多個這樣的元件存在。 在相互不同的獨立權利要求中引用特定措施的事實並不表示不可以使 用這些措施的組合來取得更好的效果。
權利要求
1.一種用於檢測主體(2)的運動的系統,包括接合到所述主體的第一延伸光柵條帶(4)和與所述第一延伸光柵條帶交叉的單獨的並且基本上固定的第二延伸光柵條帶(5),其中所述系統還包括光學檢測機構(6),所述光學檢測機構(6)被設置成接收在所述第一延伸光柵條帶和第二延伸光柵條帶處被衍射的一個或多個光束來檢測所述主體的運動。
2. 根據權利要求1所述的系統(1),其特徵在於,所述系統包 括傳輸機構,所述傳輸才幾構被設置以相對於所述固定的第二延伸光柵 條帶(5)來移動所述光學檢測機構。
3. 根據權利要求1所述的系統(1),其特徵在於,所述光學檢 測機構(6)在所述系統內基本上固定地設置,所述系統還包括光重定 向機構(7),所述光重定向機構(7)使得所述光學檢測機構能夠接 收所述光束。
4.根據權利要求1所述的系統(1),其特徵在於,所述光學檢 測機構(6)包括第一固定檢測機構和第二可移動的檢測機構。
5.根據權利要求1所述的系統(1),其特徵在於,所述第一延 伸光柵條帶和第二延伸光柵條帶(4、 5)包括在一個或多個優選地正 交的方向中呈周期性的光柵圖案(P)。
6.根據權利要求1所述的系統(1),其特徵在於,所述第一延 伸光柵條帶和第二延伸光柵條帶(4、 5)中的至少一個包括在一個或 多個優選地正交的方向中呈周期性的光柵圖案(P)並且所述條帶中的 一個具有至少兩個光柵圖案(Pl至P4; P1至P3),所述至少兩個光 柵圖案(Pl至P4; Pl至P3)在相同的方向中呈周期性並且在所述圖 案之間存在相位差。
7. 根據權利要求1所述的系統(1),其特徵在於,包括所述第 一延伸光柵條帶(4)的平面的第一法線與包括所述第二延伸光柵條帶(5)的平面的第二法線成一定角度。
8. 根據權利要求1所述的系統(1),其特徵在於,所述系統還 包括反向反射機構(9),用於將入射光束重定向成基本上相反的方向。
9. 根據權利要求1所述的系統(1),其特徵在於,所述第一光 柵條帶(4)和第二光柵條帶(5)包括透射性和/或反射性光柵。
10. 根據權利要求l所述的系統(1),其特徵在於,所述第一光 柵條帶(4)和所述第二光柵條帶(5)分別在第一方向和第二方向中 延伸,所述第一方向和所述第二方向彼此垂直。
11. 根據權利要求l所述的系統(1),其特徵在於,所述第一光 柵條帶和第二光柵條帶具有小於10mm的橫向尺寸(W)。
12. —種主體處理和/或4全查系統(10),包括處理和/或檢查腔室 (12),所述處理和/或檢查腔室(12)容納用'於所述主體的主體定位平臺(11),其中第一延伸光柵條帶(4)安裝於所述主體定位平臺上, 且與所述第一延伸光柵條帶交叉的第二延伸光柵條帶(5)相對於所述 腔室基本上固定地安裝,所述第一延伸光柵條帶和第二延伸光柵條帶 和所述光學檢測機構被設置成使得能夠檢測所述主體定位平臺的運 動。
13. —種用於在系統(1)中檢測主體(2)的運動的方法,所述 系統(1)包括接合到所述主體的第一延伸光柵條帶(4)和與所述第 一延伸光柵條帶交叉的單獨的並且基本上固定的第二延伸光柵條帶(5)和光學檢測機構(6),所述方法包括-向所述第一延伸光柵條帶或第二延伸光柵條帶提供入射光束 (L),以及-在所述光學檢測機構處接收從所述第一延伸光柵條帶和第二延伸 光柵條帶衍射的一個或多個光束以檢測所述對象的運動。
14. 根據權利要求13所述的方法,其特徵在於,還包括沿著所述 固定的第二延伸光柵條帶(5)移動所述光學機構(6)的步驟。
15. 根據權利要求13所述的方法,其特徵在於,所述第一延伸光 柵條帶和第二延伸光柵條帶(4、 5)中的至少一個包括在一個或多個 優選地正交的方向中呈周期性的光柵圖案(P),並且所述條帶中的一 個具有至少兩個光柵圖案(P1至P4; P1至P3),所述光柵圖案(Pl 至P4; Pl至P3)在相同的方向呈周期性並且在所述圖案之間存在相 位差,所述方法還包括向所述光柵圖案中的每一個提供入射光束(Ll 至L4; Ll至L3 )並且在所述光學檢測才幾構(6 )處接收從所述光柵圖 案衍射的相應光束的步驟。
16. —種延伸光柵條帶(4、 5),包括在至少一個方向中呈周期 性的光柵圖案,所述延伸光柵條帶具有小於15mm的橫向尺寸(W)。
17. 根據權利要求17所述的延伸光柵條帶(4、 5),其特徵在於, 所述光柵條帶包括在所述延伸的方向呈周期性的第一光柵圖案(P2) 和在所述橫向尺寸方向呈周期性的第二光柵圖案(Pl)。
18. 根據權利要求17所述的延伸光柵條帶(4、 5),其特徵在於,單個光柵圖案(P)。
全文摘要
本發明涉及一種用於檢測主體(2)的運動的系統(1),包括接合到所述主體的第一延伸光柵條帶(4)和與所述第一延伸光柵條帶交叉的單獨的並且基本上固定的第二延伸光柵條帶(5)。該系統還包括光學檢測機構(6),該光學檢測機構(6)被設置成接收在所述第一延伸光柵條帶和第二延伸光柵條帶衍射的一個或多個光束來檢測所述主體的運動。該發明還涉及一種用於檢測主體(2)的運動的方法和一種主體處理或檢查系統。
文檔編號G01D5/38GK101268337SQ200680034542
公開日2008年9月17日 申請日期2006年9月13日 優先權日2005年9月21日
發明者J·范埃克, M·J·M·倫肯斯, R·G·克拉弗, T·A·M·魯爾 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司