缺陷修補裝置及靶材結構的製作方法

2023-04-25 03:27:01

專利名稱：缺陷修補裝置及靶材結構的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種修補裝置，尤其是指一種利用具有流體冷卻 以避免裝置的構成組件以及修補材料受到熱影響而遭受破壞以 及氧化之一種缺陷修補裝置。
背景技術：
平面顯示器(Flat Panel Display, FPD)已是國內最重要的 產業之一，隨著大尺寸液晶顯示器面板的發展量產到七代廠，面 板尺寸的大型化及產能需求不斷提高的趨勢及市場需求下，使得 現有的修補製程面臨極大的瓶頸。如圖l所示，平面顯示器的前 段製程主要為利用光阻蝕刻技術進行線路圖案成型，而在此製程 中因汙染及本身的蝕刻誤差，導致製程完成後於線路圖案中產生 開路缺陷(open defect) 10以及線缺陷(line defect) 11，這些缺 陷是不被允許的，因此必須加以修補(repair)。傳統進行修補的主要方式為雷射化學氣相沉積(Laser Chemical Vapor Deposition, Laser CVD)， 而此修補製程主要 是將檢測後的面板離線送至需特殊氣氛環境的Laser CVD設備 中，再利用雷射與特殊氣體的光化學反應，使修補的線路材料沉積於具有缺陷的線路上而完成修補製程。因為需要離線進行修補處理及製程需要於特殊氣氛環境下進行，導致使用Laser CVD進行修補製程的產能較低。另外，現有技術中如日本公開專利JP. NO. 2000031013號所揭露的一種線路圖案修補裝置與方法，其是利用雷射將修補材料 轉移至具有缺陷的線路圖案上，以回複線路圖案的電性。在該技術中，修補的線路材料受雷射照射後，修補材料容易受到雷射的 能量而產生熱影響區的現象，因此會有材料氧化及破壞的問題。 此外，在現有技術中也容易因為高熱而導致裝置的相關組件，例如修補材料承載單元以及被修補的基板遭到損壞。發明內容本發明目的是提供一種缺陷修補裝置，其是可提供冷卻以避 免修補裝置的構成組件或被修補的基板因在修補過程中受熱而 遭受熱損害。本發明提供一種缺陷修補裝置，其是可提供冷卻以避免修補 材料因在修補過程中受熱而氧化，進而影響其導電特性。本發明提供一種缺陷修補裝置，其是不需將檢測後的面板離 線修補，可與整線製程設備結合，大幅提升生產效率。本發明提供一靶材結構，其是承載多種不同材質以及不同厚 度的修補材料，以適用於各種多樣式的修補圖案。在一實施例中，本發明提供一種缺陷修補裝置，包括 一電 磁波發射單元； 一平臺，其是可提供承載待修補的一基板，該基 板上具有一缺陷線路； 一承載單元，其是設置於該電磁波發射單元與該平臺之間，該承載單元是承載有一修補材料，該修補材料 可接收該電磁波發射單元所提供的電磁波光束，以轉移至該缺陷 線路上；以及一流體冷卻單元，其是可吸收在轉移修補材料時所 產生的熱，以提供冷卻。在另一實施例中，該流體冷卻單元是為一承載單元冷卻裝 置，其是設置於該承載單元上，該承載單元冷卻裝置可以提供一 氣流作用於該承載單元上。在另一實施例中，該流體冷卻單元更具有 一保護氣簾單元， 其是設置於該承載單元的周圍且具有多數個氣流通道，以提供一 循環氣流於該基板以及該修補材料上；以及一承載單元冷卻裝 置，其是設置於該承載單元上，該承載單元冷卻裝置可以提供一 冷卻氣流。在另一實施例中，該流體冷卻單元更具有 一保護氣簾單元， 其是設置於該承載單元的周圍且具有多數個氣流通道，以提供一 循環氣流於該基板以及該修補材料上； 一承載單元冷卻裝置，其 是設置於該承載單元上，該承載單元冷卻裝置可以提供一冷卻氣 流；以及一平臺冷卻單元，其是設置於該平臺上，該平臺冷卻單 元具有循環迴路以提供一流體進行循環。在另一實施例中，該流體冷卻單元更具有 一保護氣簾單元， 其是設置於該承載單元的周圍且具有多數個氣流通道，以提供一 循環氣流於該基板以及該修補材料上；以及一平臺冷卻單元，其 是設置於該平臺上，該平臺冷卻單元具有循環迴路以提供一流體 進行循環。在另一實施例中，該流體冷卻單元更具有 一承載單元冷卻裝置，其是設置於該承載單元上，該承載單元冷卻裝置可以提供 一冷卻氣流；以及一平臺冷卻單元，其是設置於該平臺上，該平 臺冷卻單元具有循環迴路以提供一流體進行循環。在一實施例中，本發明更提供一種靶材結構，包括 一承載 板；以及複數種修補材料，其是形成於該承載板的一面上。該復 數種修補材料可選擇環形數組以及矩形數組其中之一而排列於 該承載板上。


圖1是為線路圖案的缺陷示意圖。圖2A與圖2B是為本發明缺陷修補裝置的第一實施例示意圖。 圖3是為本發明缺陷修補裝置的第二實施例示意圖。 圖4A至圖4C是為本發明缺陷修補裝置的流體冷卻單元其它實 施例示意圖。圖5是為本發明缺陷修補裝置的第三實施例示意圖。 圖6是為本發明缺陷修補裝置的第四實施例示意圖。圖7是為本發明的耙材結構第一實施例示意圖。 圖8A至圖8H是為本發明的修補材料結構示意圖。圖9是為本發明的靶材結構第二實施例示意圖。主要組件符號說明1- 線路圖案 10、 11-缺陷2- 缺陷修補裝置20- 電磁波發射單元 200-電磁波21- 承載單元 210-固定單元211、 213、 214-承載板 22、 22a、 22b-修補材料220- 金屬材料層221- 緩衝層222- 導電黏著層 224-中介層23- 平臺230-平臺冷卻單元24- 保護氣簾單元 240-氣流通道25- 承載單元冷卻裝置26- 光罩結構27- 光形調整單元 30-基板 3卜缺陷線路 90-循環氣流具體實施方式
為能對本發明的特徵、目的及功能有更進一步的認知與了 解，下文特將本發明的裝置的相關細部結構以及設計的理念原由 進行說明，以使得審查委員可以了解本發明的特點，詳細說明 陳述如下請參閱圖2A與圖2B所示，該圖是為本發明缺陷修補裝置的 第一實施例示意圖。該缺陷修補裝置2具有一電磁波發射單元 20、 一平臺23、 一承載單元21以及一流體冷卻單元。該電磁波 發射單元20是可產生電磁波光束200，其是可選擇為全波段雷射 源或者是紫外光波雷射。在本實施例中，該電磁波發射單元20 是為全波段雷射源。該平臺23，其是可提供承載待修補的一基板30，該基板30 上具有一缺陷線路31。該缺陷線路31是可為線缺陷或者是開路 缺陷或者是前述兩者的組成，在本實施例中是以開路缺陷作說 明。該基板30可是玻璃基板或者是矽基板，面板上的線路圖案 在本實施例中是為應用於平面顯示器的線路圖案，但不在此限。 該承載單元21，其是設置於該電磁波發射單元20與該平臺23 之間，該承載單元21是具有一固定單元210以及一承載板211。 該承載板211是承載有一修補材料22，該修補材料22可接收該 電磁波發射單元20所提供的電磁波光束200，以轉移至該缺陷線 路31上。該修補材料22可為金屬可導電的材料，該金屬可導電 材料可選擇鎢、金、銀、銅、銀膠或者是鉬材料，但不在此限。 在本實施例中，該修補材料22是形成於一承載板211上，該承 載單元21的固定單元210是利用真空吸附或者是夾持的方式固定該承載板211，此時該修補材料22是與該缺陷線路31相對應。該流體冷卻單元，其是可提供冷卻以避免該修補材料因受熱 氧化、該基板因受熱影響而損壞或者是缺陷修補裝置的構成組件，例如承載單元21，受熱而損壞。本發明的流體冷卻單元可以對基板30或者是修補材料22提供冷卻的效果以避免基板30 損壞或者是修補材料22因在轉移的過程中受熱氧化，進而減低 或者是喪失其導電的特性。此外，流體冷卻單元可以對承載修補 材料22的承載板211提供冷卻的效果，以防止承載板211受熱 而損壞。因此在圖2A的實施例中，該流體冷卻單元是包括有 一保護氣簾單元24以及一平臺冷卻單元230。該保護氣簾單元24， 其是設置於該承載單元21的周圍且具有多數個氣流通道240，以 提供一循環氣流90於該基板30以及該修補材料22上。該平臺 冷卻單元230，其是設置於該平臺23內，該平臺冷卻單元230 具有循環迴路以提供一流體進行循環。該保護氣簾單元上的氣流 信道，可導引循環氣流90由上往下吹，並在該修補材料22與該 基板30之間循環。如圖2B所示，當電磁波發射單元20發射出電磁波光束 200 (本實施例為全波段雷射)時，修補材料22接受電磁波光束 200照射後產生的碰撞壓力，亦即直接來自光子撞擊所產生的光 壓，輔以電磁波能量產生打斷分子鍵結或爆炸現象，而轉移至缺 陷線路31上。此時該循環氣流90可以吸收熱電磁波轉移修補材 料22時所產生的熱量，並可以形成氣幕以避免外界空氣進入， 進而防止該修補材料22氧化。在本實施例中該循環氣流90的氣體可選擇為惰性氣體，例如氦氣或者是氖氣等，但不在此限。 另外該平臺冷卻單元230可通過由循環迴路內所通過的流體，例 如液體或者是氣體，產生冷卻的效果，以避免基板30在轉移過程中受熱而損壞。該平臺冷卻單元230的技術是可利用現有技術達成，在此不作贅述。請參閱圖3所示，該圖3是為本發明缺陷修補裝置的第二實 施例示意圖。在本實施例中，在該承載單元21上更設置有一承 載單元冷卻裝置25，其是設置於該承載單元上21，該承載單元 冷卻裝置25可以提供一冷卻氣流91作用於該承載單元21以及 該承載板211上。由於該電磁波發射單元20所產生的電磁波光 束200是會穿透該承載板211，因此在轉移的過程中承載板211 也會產生高熱。為了避免在轉移過程中所產生的高熱破壞承載板 211，該承載單元冷卻裝置25所產生的冷卻氣流91可以輔助降 低承載板211的溫度，以增加承載板211的使用壽命。另外，由 於該承載單元冷卻裝置25也可以提供輔助降低修補材料22的溫 度以及避免電磁波能量不均的功效。在本實施例中，該冷卻氣流 91的氣體可選擇為惰性氣體，例如氦氣或者是氖氣等，但不在 此限。綜合前述的本發明所提供的流體冷卻單元的實施例具有保 護氣簾單元24、承載單元冷卻裝置25以及平臺冷卻裝置230。 前述的保護氣簾單元24、承載單元冷卻裝置25以及平臺冷卻裝 置230可以單獨實施或者是相互組合以達到不同的冷卻功效，如 圖4A至圖4C所示的流體冷卻單元的不同組合實施例。例如在 圖4A中該流體冷卻單元是為承載單元冷卻裝置25與平臺冷卻單元230的組合。而在圖4B中該流體冷卻單元是為承載單元冷 卻裝置25。另外在圖4C中，該流體冷卻單元是為平臺冷卻單元 230。接下來請參閱圖5所示，該圖是為本發明缺陷修補裝置的第 三實施例示意圖。在本實施例中，在該修補材料22與該電磁波 發射單元20之間更可以設置一光罩結構26，以對不同的線路圖 案進行修補，增加可修補圖案的多樣性。雖然在圖5中是將光罩 結構26與圖2A的缺陷修補裝置實施例結合，但實際上亦可與圖 3的實施例結合，或者是其它單獨或者是組合實施。請參閱圖6所示，該圖是為本發明缺陷修補裝置的第四實施 例示意圖。在本實施例中，在該修補材料22與該電磁波發射單 元20之間更可以設置一光形調整單元27(beam shaper)。該光形 調整單元27可以視需求選擇聚焦該電磁波光束、增大該電磁波 光束的面積或者是調整該電磁波光束的線形，以配合不同的線路 圖案進行修補，增加可修補圖案的多樣性。該光形調整單元27 是為現有技術的商品，在此不作贅述。雖然在圖6中是將光形調 整單元27與圖2A的實施例結合，但實際上亦可與圖3的實施例 結合，或者是其它單獨或者是組合實施本發明的流體冷卻單元的 實施例(如圖4A至圖4C)相組合。接下來說明轉移時的靶材結構，該靶材結構是由前述的承載 板211以及修補材料22所構成。在前述的實施例中，耙材結構 的修補材料22是皆為相同性質的材。請參閱圖7所示，該圖是 為本發明的靶材結構第一實施例示意圖，在本實施例中，該耙材 結構的承載板213是為矩形承載板，而其上具有複數種修補材料22a，該複數種修補材料22a是成矩形數組排列於該承載板213 上。該複數種修補材料22a的組成可以相同或者是不相同，例如 在圖7中的a位置上的修補材料與b位置上的修補材料可為相同 結構或者是不相同結構。接下來說明修補材料的幾種實施例。以位置a的修補材料為 例，其是可為如圖8A的狀態，該修補材料是為單一的金屬材料 層220，該金屬材料層220的材料可以選擇為鎢、金、銀、銅、 銀膠以及鉬其中之一。另為如圖8B所示，該圖是為修補材料的 另一實施例，在本實施例中，該修補材料具有一緩衝層221以及 一金屬材料層220。該緩衝層221是形成於該承載板213上，而 該金屬材料層220則形成於該緩衝層221上。該金屬材料層220 的材料選擇如前所述。在本實施例中，該緩衝層221不轉移至缺 陷線路上，該緩衝層221的目的在於吸收電磁波光源的能量並傳 導部分的電磁波能量給該金屬材料層220。如此一來， 一方面可 以避免該金屬材料層220因受熱而氧化，進而影響導電的特性； 另一方面也可以通過由該緩衝層221與金屬材料層220之間的低 黏著性，以使得金屬材料層220容易從緩衝層221轉移至缺陷線 路上。該緩衝層221是可選擇為高分子材料，在本實施例中，該 高分子材料是選擇為聚二甲基矽氧烷(Polydimethylsiloxane， PDMS)。如圖8C所示，在本實施例中，該修補材料具有一金屬材料 層220以及一導電黏著層222。該金屬材料層220，其是形成於 該承載板213上。該導電黏著層222，其是形成於該金屬材料層 220上。該金屬材料層220的材料選擇如前所述，而該導電黏著層222主要目的是為加強金屬材料層220於轉移後與缺陷線路之 間的黏著性。該導電黏著層222的材料是可選擇同時具有導電性 以及黏著性的材料，在本實施例中是使用銀膠。另外如圖8D所 示，更可以在圖8C的結構上於該金屬材料層220與該承載板213 之間形成一層緩衝層221。該緩衝層221的目的如前所述，在此 不做贅述。如圖8E所示，在本實施例中，該修補材料更具有 一中介層224以及一金屬材料層220。該中介層224，其是形成於該承 載板213上。該金屬材料層220，其是形成於該中介層224上。 該中介層224是為可吸收電磁波能量的材料，以保護該金屬材料 層220免於直接受到該電磁波光源的影響而產生熱影響區，以避 免該金屬材料層220因受熱而氧化，進而影響導電的特性。該金 屬材料層220的材料如前所述，而該該中介層224的材料是為鈦， 但不以此為限。另外，在該中介層224與該承載板213之間形成 一層緩衝層221，如圖8F的結構。該緩衝層221的目的如前所 述，在此不做贅述。或者是在圖8E的結構下，於該金屬材料層 220上更形成一層導電黏著層222，以形成如圖8G的結構。另外 也可以在圖8G的結構下，在該中介層224與該承載板213之間 形成一層緩衝層221。至於前述的緩衝層221以及導電黏著層222 的結構以及目的如前所述在此不做贅述。另外，除了圖8的矩形結構承載板外，如圖9所示，該承載 板也可以為圓形的承載板214。在本實施例中，該複數種修補材 料22b是成環形數組分布於承載板214上。至於修補材料22b的 種類與結構如前所述。惟以上所述，僅為本發明的實施例，當不能以的限制本發明 範圍。即大凡依本發明申請專利範圍所做的均等變化及修飾，仍 將不失本發明的要義所在，亦不脫離本發明的精神和範圍，故都 應視為本發明的進一步實施狀況。綜合上述，本發明提供的缺陷修補裝置及靶材結構，其是具 有避免裝置與待修補的基板在轉移修補材料的過程中受到熱損 壞以及避免修補材料受熱而氧化。另外，更可以根據需求改變修 補圖案。因此可以滿足業界的需求，進而提高該產業的競爭力以 及帶動周遭產業的發展，誠已符合發明專利法所規定申請發明所 需具備的要件，故依法呈提發明專利的申請。
權利要求
1. 一種缺陷修補裝置，其特徵在於包括一電磁波發射單元；一平臺，其是可提供承載待修補的一基板，該基板上具有一缺陷線路；一承載單元，其是設置於該電磁波發射單元與該平臺之間，該承載單元是承載有一修補材料，該修補材料可接收該電磁波發射單元所提供的電磁波，以轉移至該缺陷線路上；以及一流體冷卻單元，其是可吸收在轉移修補材料時所產生的熱，以提供冷卻。
2. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該缺陷 線路是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一。
3. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流體冷卻單元是為一保護氣簾單元，其是設置於該承載單元的周圍且 具有多數個氣流通道，以提供一循環氣流於該基板以及該修補材 料上。
4. 如權利要求3所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該循環氣流是可選擇為惰性氣體。
5. 如申請專利範圍第4項所述的缺陷修補裝置，其中該惰性氣體是可選擇為氦氣以及氖氣其中之一。
6. 如權利要求l所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流體冷卻單元是為一承載單元冷卻裝置，其是設置於該承載單元上，該承載單元冷卻裝置可以提供一冷卻氣流。
7. 如權利要求6所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該氣流 是選擇為惰性氣體。
8. 如權利要求7所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該惰性 氣體是選擇為氦氣以及氖氣其中之一。
9. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流體 冷卻單元是設置於該平臺內，該流體冷卻單元具有循環迴路以提 供一流體進行循環。
10. 如權利要求9所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流 體是可選擇為液體或者是氣體其中之一。
11. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流 體冷卻單元更具有一保護氣簾單元，其是設置於該承載單元的周圍且具有多數 個氣流通道，以提供一循環氣流於該基板以及該修補材料上；以 及一承載單元冷卻裝置，其是設置於該承載單元上，該承載單 元冷卻裝置可以提供一冷卻氣流。
12. 如權利要求11所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該循 環氣流是可選擇為惰性氣體。
13. 如權利要求12所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該惰 性氣體是可選擇為氦氣以及氖氣其中之一。
14. 如權利要求11所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該冷 卻氣流是可選擇為惰性氣體。
15. 如權利要求14所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該惰性氣體是可選擇為氦氣以及氖氣其中之一。
16. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流 體冷卻單元更具有一保護氣簾單元，其是設置於該承載單元的周圍且具有多數 個氣流通道，以提供一循環氣流於該基板以及該修補材料上；一承載單元冷卻裝置，其是設置於該承載單元上，該承載單 元冷卻裝置可以提供一冷卻氣流；以及一平臺冷卻單元，其是設置於該平臺內， 有循環迴路以提供一流體進行循環。
17. 如權利要求16所述的缺陷修補裝置環氣流是可選擇為惰性氣體。
18. 如權利要求17所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該惰性氣體是可選擇為氦氣以及氖氣其中之一。
19. 如權利要求16所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該冷卻氣流是可選擇為惰性氣體。
20. 如權利要求19所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該惰性氣體是可選擇為氦氣以及氖氣其中之一。
21. 如權利要求16所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流體是可選擇為液體或者是氣體其中之一。
22. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流 體冷卻單元更具有一保護氣簾單元，其是設置於該承載單元的周圍且具有多數個氣流通道，以提供一循環氣流於該基板以及該修補材料上；以 及該平臺冷卻單元具 ，其特徵在於該循一平臺冷卻單元 有循環迴路以提供一
23. 如權利要求 環氣流是可選擇為惰
24. 如權利要求性氣體是可選擇為氦
25. 如權利要求 體是可選擇為液體或
26. 如權利要求體冷卻單元更具有一承載單元冷卻 元冷卻裝置可以提供一平臺冷卻單元 有循環迴路以提供一
27. 如權利要求，其是設置於該平臺內，該平臺冷卻單元具 流體進行循環。22所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該循 性氣體。23所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該惰氣以及氖氣其中之一。22所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流者是氣體其中之一。l所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流裝置，其是設置於該承載單元上，該承載單一冷卻氣流；以及，其是設置於該平臺內，該平臺冷卻單元具 流體進行循環。26所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該冷卻氣流是可選擇為惰性氣體。
28. 如權利要求27所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該惰性氣體是選擇為氦氣以及氖氣其中之一。
29. 如權利要求26所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該流體是選擇為液體或者是氣體其中之一。
30. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該修補材料與該電磁波發射單元相對應的面上設置有一光罩結構。
31. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該修補材料與該電磁波發射單元之間設置有一光形調整單元。
32. 如權利要求31所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該光 形調整單元可以聚焦該電磁波光束、增大該電磁波光束的面積或 者是調整該電磁波光束的線形。
33. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該電 磁波發射單元是選擇為一全波段雷射源以及紫外光波雷射其中 之一。
34. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該修 補材料是為一金屬材料。
35. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該金 屬材料是選擇鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬材料其中之一。
36. 如權利要求1所述的缺陷修補裝置，其特徵在於承載 單元是具有一固定單元；以及一耙材結構，其是具有一承載板以提供承載該修補材料。
37. 如權利要求36所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該固 定單元是利用真空吸附或者是夾持方式固定該承載板。
38. 如權利要求36所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該承 載板上更具有複數種的修補材料。
39. 如權利要求38所述的缺陷修補裝置，其特徵在於該復 數種修補材料可選擇環形數組以及矩形數組其中之一而排列於 該承載板上。
40. —種靶材結構，其特徵在於包括 一承載板；以及複數種修補材料，其是形成於該承載板之一面上。
41. 如權利要求40所述的靶材結構，其特徵在於該複數種 修補材料可選擇環形數組以及矩形數組其中之一而排列於該承 載板上。
42. 如權利要求40所述的靶材結構，其特徵在於其中的一金屬材料層。42所述的靶材結爾鎢、金、銀、銅、銀.42所述的靶材結構，有一層緩衝材料。44所述的靶材結構，種修補材料是具有一
43. 如權利要求 料層的材料是選擇為
44. 如權利要求 與該金屬材料層間具
45. 如權利要求 料是為一高分子材料
46. 如權利要求 材料是為聚二甲基矽
47. 如權利要求 種修補材料更具有一中介層，其是 一金屬材料層，
48. 如權利要求 料層的材料是選擇為
49. 如權利要求其特徵在於該金屬. 膠以及鉬其中之一。實特徵在於該承載.46所述的靶材結構，氧垸。40所述的耙材結構，其特徵在於該緩衝材其特徵在於該高分子其特徵在於其中的形成於該承載板上；以及其是形成於該中介層上。47所述的靶材結構，其特徵在鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬47所述的靶材結構，其特徵在 的材是可吸收電磁波光源的能量或防止該金屬材料
50. 如權利要求47所述的靶材結構，其特徵在於該中介層 的材料是為鈦。
51. 如權利要求47所述的靶材結構，其特徵在於該中介層於該金屬材其中之一。於該中介層與該承載板間更具有一層緩衝層。
52. 如權利要求51所述的靶材結構，其特徵在於該緩衝材 料是為一高分子材料。
53. 如權利要求52所述的靶材結構，其特徵在於該高分子 材料是為聚二甲基矽氧烷。
54. 如權利要求40所述的靶材結構，其特徵在於其中的一種修補材料具有一中介層，其是形成於該承載板上； 一金屬材料層，其是形成於該中介層上；以及 一導電黏著層，其是形成於該金屬材料層上。
55. 如權利要求54所述的靶材結構，其特徵在於該金屬材 料層的材料是選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一。
56. 如權利要求54所述的靶材結構，其特徵在於該導電黏 著層是可為一銀膠。
57. 如權利要求54所述的靶材結構，其特徵在於該中介層 的材是可吸收電磁波光源的能量或防止該金屬材料層氧化。
58. 如權利要求54所述的靶材結構，其特徵在於該中介層 的材料是為鈦。
59. 如權利要求54所述的靶材結構，其特徵在於該中介層 與該承載板間具有 一 緩衝層。
60. 如權利要求59所述的靶材結構，其特徵在於該緩衝層 是為一高分子材料。
61. 如權利要求60所述的靶材結構，其特徵在於該高分子材料是為聚二甲基矽氧烷。
62. 如權利要求40所述的靶材結構，其特徵在於其中的一 種修補材料具有一金屬材料層，其是形成於該承載板上；以及 一導電黏著層，其是形成於該金屬材料層上。
63. 如權利要求62所述的靶材結構，其特徵在於該金屬材料層的材料是選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一。
64. 如權利要求62所述的靶材結構，其特徵在於該導電黏著層是為一銀膠。
65. 如權利要求62所述的靶材結構，其特徵在於該金屬材料層與該承載板間更具有一緩衝層。
66. 如權利要求65所述的靶材結構，其特徵在於該緩衝層 是可為一高分子材料。
67. 如權利要求66所述的靶材結構，其特徵在於該高分子 材料是為聚二甲基矽氧垸。
全文摘要
本發明提供一種缺陷修補裝置，包括一電磁波發射單元、一平臺、一承載單元以及一流體冷卻單元。該平臺，其是提供承載待修補之一基板，該基板上具有一缺陷線路。該承載單元，其是設置於該電磁波發射單元與該平臺之間，該承載單元是承載有一修補材料，該修補材料可接收該電磁波發射單元所提供的電磁波光束，以轉移至該缺陷線路上。該流體冷卻單元，其是可吸收在轉移修補材料時所產生的熱，以提供冷卻。利用本發明的裝置可以防止缺陷修補裝置受到熱影響而受到破壞以及修補材料因受熱而氧化的問題。另外本發明提供一靶材結構，其是承載多種不同材質以及不同厚度的修補材料，以適用於各種多樣式的修補圖案。
文檔編號B23K26/00GK101276071SQ20071009173
公開日2008年10月1日 申請日期2007年3月30日 優先權日2007年3月30日
發明者廖仕傑, 王儀龍, 陳輝達 申請人:財團法人工業技術研究院