微型機械式靜電繼電器及其製造方法
2023-05-23 01:12:31
專利名稱：微型機械式靜電繼電器及其製造方法
技術領域：
本發明涉及了一個微型機械式靜電繼電器，該繼電器有-一個帶有基極的基本基片，並且具有至少一個固定觸點，一個銜鐵簧舌，該簧舌單邊連接到與基本基片相連的支持層上，該簧舌有一個被安裝在基極對面的銜鐵電極，靜止狀態時根據楔形空氣隙的構造該銜鐵簧舌由基本基片靈活的向外彎曲並且在其自由端有至少一個在固定觸點對面的活動觸點。另外本發明還涉及了一個用於製造這種繼電器的方法。
這種微型機械式繼電器和相應的製造方法根據DE 42 05 029 C1已經基本上被了解了。在這裡重要的是，從支持層出來的銜鐵簧舌是如下這樣彎曲的，即銜鐵電極利用對面的基極構造一個楔形空氣隙，這個楔形空氣隙利用加載在兩個電極之間的電壓根據所謂的活動楔形原則產生一個快速拉力動作。該原則的中心意思在DE 44 37 259 C1和DE 44 37 261 C1中以舉例的方式給出。
對於所有這種為人所熟悉的帶有微型機械結構的繼電器來說由於這兩個支持層而需要相對較高的製造技術費用，因為一方面帶有基極和固定觸點的基本基片以及另一方面帶有銜鐵簧舌，銜鐵電極和活動觸點的銜鐵支持層分別被加工而且互相之間又必須被連接。除了所提到的兩個支持層主功能元件外還必須有其他的塗膜和腐蝕過程，舉例來說如絕緣層，引線以及這一類的。就是說兩個支持層必須經過針對它們的所有必須採用的昂貴工序，在它們的主功能層可以互相面對的被連接之前。因為開關元件也應該防止環境的影響，所以在這個原則下必須有一個附加的外殼部分用做防護元件，這裡就不必進一步探討了。
如果繼電器的所有功能元件可以在支持層一側被構造，簡化製造就是可以期望的。這裡原則上可以考慮，帶有活動觸點的簧舌以及固定觸點元件在一個和同一個支持層上被製造，例如在這裡可以重複放置的來製造固定觸點和活動觸點並且在這裡通過所謂的消耗層刻蝕可以構造觸點間隔。基本上這種構成可以從US-4 570 139被熟悉。可是對於這種微型機械式開關來說在銜鐵簧舌下面產生了一個沒有詳細定義的空隙，這個空隙對於靜電驅動的結構是不適合的。所以對於這種開關設計成，不僅銜鐵簧舌而且固定觸點都被裝上了磁性層並且通過在外面布置的磁場控制該開關。利用這種磁場在相對較小的觸點間隔上可以產生必須的觸點力，這種觸點間隔是利用消耗層技術在活動觸點和剛性的固定觸點之間實現的。可是這必須有一個用於產生磁場的附加設備例如一個線圈，這個設備需要有比用於控制微型機械式繼電器所限定的使用場合大很多的空間。
本發明的目的是，開頭所說方式的微型機械繼電器有益的改進，以便利用靜電驅動可以產生一個較大的接觸力，但是在這裡繼電器的功能元件可以在支持層上通過其一面的加工處理被製造。
依照本發明這個目的利用如下方式被達到，即至少一個固定觸點被布置在固定觸點簧舌上，這個固定觸點簧舌放置在銜鐵簧舌的對面就象單邊被連接到支持層上並且靜止狀態時由基本基片靈活的向外彎曲，同時至少一個活動的觸點通過這個突出被構造在銜鐵簧舌的自由端並且重疊在固定觸點上。
在本發明中與以前微型機械式繼電器和開關的建議的區別是固定觸點不再被固定的布置在基本基片上，而是象活動觸點一樣布置在可彎曲的簧舌上，由此獲得一個另外的接觸行程。該活動觸點布置在銜鐵簧舌上並且重疊在固定觸點上。通過兩個互相正對著的簧舌的預彎曲從觸點閉合開始到銜鐵的終端位置對於開關來說獲得了一個足夠的超程來產生期望的接觸力。如下的效果被獲得，即如果根據在基本基片上的銜鐵簧舌的構造通過消耗層技術在銜鐵下面可以僅僅產生一個相對較小的自由空間，穿過這個自由空間在啟動時銜鐵在其被延伸的位置上面向外僅產生一個小的特定的超程連到對電極上。
這種製造特別有利的就是，不僅銜鐵簧舌而且固定觸點簧舌都是由同一個支持層構成的並且由此在一個和同一個腐蝕過程中可以被製造。這種何其自由端點互相正對放置的簧舌能夠以有利的方式按齒狀交錯連接，以便於向外突出的活動的觸點不是僅僅被連接到其後面端子，而是至少也要被連接到銜鐵簧舌上平面的一邊。這種特殊的設計依賴於是否應該製造常開接點或電橋觸頭。
用來製做基本基片優選採用了矽，這裡簧舌的支持層在各自必須的功能層和絕緣層的中間接縫下利用矽層被沉澱或粘和並且通過相應的工作過程被自由腐蝕。基本基片也能夠由玻璃或陶瓷組成；這種材料最重要的是比矽的成本低。但是為了獲得繼電器結構所必須的光滑上表面陶瓷必須有一個附加的上表面處理。構成簧舌的支持層舉例來說能夠由沉積的多晶矽或帶有再結晶的多晶矽組成或者利用粘和的矽晶片的自由分布摻雜的矽層而產生。這種層通過取向附生或者擴散可以在矽晶片上被製造。除了這種矽結構外也可以採用一種彈簧金屬的沉積層，這種彈簧金屬例如鎳，鎳鐵合金或者含有其他摻雜物的鎳。其他金屬也可以被採用；重要的是，這種材料有好的彈性和小的老化。
一個有利的方法對於依照本發明的繼電器的製造給出了如下的步驟-在一個裝備了金屬化層作為基極的基本基片上在絕緣層和中間空隙的中間接縫下用金屬塗成了一個支持層，-在支持層上兩個簧舌被單邊的連接，簧舌的自由端被構造成互相正對簧舌，-該簧舌至少逐段地在其上表面裝備了拉應力層，-一個優選短的簧舌在其自由端裝備了至少一個固定觸點，-這個優選長的簧舌裝備了至少一個活動的觸點，這個活動的觸點在消耗層的中間接縫下被疊加在固定觸點上，並且-通過簧舌彼此分離並且與支持層分離的刻蝕可以獲得從支持層向上面的簧舌彎曲。
製造方法的其他結構在權利要求14到16中被說明。
接下來本發明藉助下圖根據實例被詳細解釋。圖示如下
圖1利用截面示意圖給出了依照本發明的微型機械式繼電器的重要功能層的結構，圖2給出了圖1所描述的微型機械式繼電器靜止位置時的終止狀態(沒有機殼)，圖3給出了圖2所述繼電器的工作位置，圖4給出了圖3所述繼電器的平面圖，該繼電器構成了一個工作觸點，圖5給出了如圖4同樣的前視圖，只是帶有構成電橋觸點的構造形式，圖6給出了電橋觸點布置的不同構造形式，
圖7給出了相應於圖1的描述，只是在銜鐵簧舌局部截面上帶有拉應力層，圖8給出了相應於圖2的具有不同彎曲的簧舌截面的前視9給出了針對圖1稍微有些改變的基本基片的層結構，該層結構包括由多晶矽構成的簧舌支持層，圖10給出了相對圖9有改變的層結構，該層結構帶有由金屬構成的簧舌支持層，圖11給出了針對圖9和10有改變的層結構，該層結構帶有粘和在基本基片上的用於構造簧舌支持層的失晶層，圖12給出了採用SOI晶片半成品而改變的層結構。
首先指出，所有層的示意描述僅僅概略給出了層的順序而沒有給出層的厚度比例。
在圖1到3中依照本發明的機械式繼電器的功能層結構是在矽基上給出的。基本基片1在這裡是由矽組成的。這種基本基片同時用做基極；根據需要相應的電極層也可以通過合適的摻雜被製造。在基本基片上是例如利用氮化矽來構造的絕緣層2。在這個層上重新覆蓋第一個消耗層3，這個層稍後會被腐蝕掉。這個層例如可由二氧化矽組成並且在優選方式下其厚度被設置小於0.5μm。在消耗層3上覆蓋用於構造簧舌的支持層4。這個層是導電的並且舉例來說可由厚度在5到10μm之間的多晶矽構成。利用這個支持層4以後可以分別腐蝕出銜鐵簧舌41和固定觸點簧舌42。對於層構造來說首先是通過第二消耗層5被彼此分離。在兩個簧舌41和42上面布置了絕緣的拉應力層6，這個拉應力層根據它的拉應力在簧舌的分別腐蝕後使基本基片的簧舌產生向上的彎曲。這種彎曲狀態在圖2中被給出。
在固定觸點簧舌42上通過相應的電鍍方法堆積出固定觸點7，同時活動觸點8在銜鐵簧舌41的自由端也被如此構造，在第二個消耗層的中間接縫下活動觸點被重疊在固定觸點7上。開關觸點的高度是任意選擇的，典型方式下是在2到10μm之間。根據需要厚度或者開關觸點的材料成分也可以是不規則的。就象在圖4中給出的，兩個簧舌41和42以齒狀方式交錯的連接，以便於簧舌42的中間突出部分44被銜鐵簧舌41兩側的突出部分43以鉗形方式抓牢。根據這種方式活動觸點8利用三個側面部分被放置在銜鐵簧舌上。該活動觸點根據這種布置和固定觸點7構成了一個簡化的常閉觸點。其餘是明顯的，即活動觸點8有S形式或Z形式的橫斷面，這是為了保證和固定觸點7重疊。中間布置的消耗層2典型情況分配的厚度d2小於0.5μm。
利用熟知的方式來構造其餘需要的層，例如固定觸點7的引線71，活動觸點8的引線81以及銜鐵簧舌上表面起鈍化作用的其他絕緣層9。
在圖2中給出了在通過腐蝕掉兩個消耗層3和5而露出簧舌後的完整的布置，這裡在銜鐵簧舌41下面有一個自由空隙31。就象所說的那樣，兩個簧舌41和42根據拉應力層6向上彎曲，於是就產生了帶有斷開觸點的依照圖2的布置。銜鐵簧舌根據預應力彎曲一個小縫隙X1到彈簧末端。利用同樣方式固定觸點簧舌42根據顯露的小縫隙X2向上彎曲。於是小的觸點間距如下計算Xk=X1-X2+d2並且近似為Xk=X1-X2。
這個小的觸點間距Xk通過銜鐵簧舌和固定觸點簧舌的幾何圖形以及利用層6在簧舌上引起的拉應力而被隨意設置。
繼電器的閉合開關狀態由圖3給出。因為銜鐵簧舌直接放置在對電極上，也就是說銜鐵簧舌接觸到了對電極或者基本基片的絕緣層2。於是銜鐵簧舌向下彎曲了第一個消耗層3的厚度，也就是d1。這裡得到了一個超程Xu=X2-d2+d1，近似為Xu=X2。
這個超程是不依賴於觸點高度的製造公差。
正如所描述的那樣，圖4給出了依照圖1到圖3的簧舌41和42的平面圖。這裡可以看到觸點的形式和布置，也就是在簧舌42突出部分44上的固定觸點7以及利用三個側面掛接在簧舌41突出部分43上的活動觸點8的形式和布置。此外以暗示方式給出了第一個消耗層3自由腐蝕的穿孔陣列10。
圖5中給出了一個對於圖4有所改變的帶有電橋觸頭的結構形式。在這種情況下簧舌42利用相應的連接總線在兩個外部突出部分46上設置了兩個分離的固定觸點7，同時簧舌41構造了一個中間突出部分47，在該突出部分上設置了活動觸點8。在固定觸點簧舌42中的縫隙42a主要是考慮了較高的扭轉彈性，這樣在不同的燒損時兩個觸點仍可被確保連接。這個觸點在這個例子中用做電橋觸頭，在這裡觸點兩側與固定觸點7重疊。
利用依照圖6的結構可以得到相同的效果。這裡銜鐵簧舌141設置了中間突出部分147，在這個突出部分上布置了一個向兩側伸展的活動電橋觸點148。這個電橋觸點和兩個固定觸點144以及145共同工作，該固定觸點位於兩個分離的固定觸點簧舌142和143上。這種固定觸點簧舌142和143對於銜鐵簧舌141是橫向布置的，也就是說，其鉗位線142a和143a對於銜鐵簧舌的鉗位線141a是垂直的。
對於優化開關特徵曲線來說下面是合適的，即銜鐵簧舌僅僅是局部彎曲，就象在文本DE 44 37 260 C1和DE 44 37 261 C1中詳細給出的那樣。在圖7和8中概略的給出了製造期間以及完整狀態下的布置，在這裡銜鐵簧舌僅僅有一部分被構造成可彎曲的。通過比較圖1和圖2存在如下這樣很大的區別，即在圖7和8中拉應力層61僅僅在銜鐵簧舌41的一部分上擴展，於是銜鐵簧舌的可彎曲區域62被限制在固定位置的區域上，這時簧舌末端的區域63以直線或者以較小彎曲運動。根據在圖7和8中的示意在矽支持層4上有一個無固有應力的絕緣層64，該層構造了把帶有引線81的負載電路與簧舌分開的電流隔離。在該層上面布置了前面所說的拉應力層61。
可以考慮用不同的為人熟知的方法來實現所描述和示意的層布置。所以圖9給出了在支持層1上的一個原理性的層結構，這就是利用所謂添加技術來得到。在這個方法中活動觸點或其支持層由如下材料製造得出，該材料在製造期間首先被沉澱在支持層上。在圖9所給出的例子中由P-型矽製造的晶片被用做支持層。在這個晶片上首先通過n型擴散產生一個控制基極11(例如利用磷)；在電極的n型矽和支持層的p型矽之間構造一個阻擋層12。在電極上面絕緣層2和其上的消耗層3被電鍍構造出。在消耗層上沉澱出厚度例如為5到10μm的支持層4。該支持層由多晶矽組成或者由帶有再結晶的多晶矽組成。利用通用的掩模技術產生簧舌的結構。依照圖1可以得到另外的構造。於是不同的功能層，也就是在負載電路和活動的驅動電極之間的絕緣層，也許被沉澱出附加的拉應力層和必須的負載電路導電總線。另外產生了所描述的帶有在中間放置的兩個消耗層以及對於導電總線可能需要的鈍化絕緣層的觸點。
就象開始已經提到的，可以應用其他的材料。於是在圖10中概略的給出了一個層布置，這裡支持層由玻璃製造。但是支持層也可以由帶有絕緣層的矽支持層組成或者由帶有相應上表面處理的陶瓷構成。在這種支持層上面基極11以金屬層的形式被製造。在其上面放置了絕緣層2並且在絕緣層上放置了消耗層3。在這個例子中電鍍塗上的金屬層被用做支持層，這個金屬層由鎳或鎳合金(例如鎳鐵)或者也可以由其他金屬合金組成。重要的是這種金屬要有較小的彈性老化。在電鍍過程中通過相應的電流荷載可以產生非均質的鎳層，這個鎳層使一定結構的簧舌產生較遲緩的彎曲。其他的構造根據圖9或圖1類似的得出。
用於製造繼電器功能層的一個其他可能性是所謂的失晶片技術。這種技術藉助於圖11做了簡短的描述。在這種情況下採用了兩個源支持層，這種源支持層要有上表面的塗層處理。在支持層1上，該支持層是由矽或者由玻璃重新構造，基極11首先被塗上，在這個例子中該基極沉積在腐蝕坑中。在基極上放置了絕緣層2。接著帶有n型摻雜矽塗層21的第二個矽晶片20以陽極方式被粘接在已經構造的支持層1上，該矽塗層或者通過取向附生被塗上或者通過擴散被製造。然後其上表面利用電化學的腐蝕保護得到矽晶片20的反腐蝕，於是只保留了取向附生層21，這個取向附生層被用做活動簧舌的支持層。在基本基片上的失晶片接縫步驟也可以不用第一個消耗層3(見圖1)來獲得，如果是構造了一個自由空間31，而沒有把絕緣層2固定連接到摻雜的矽層21上。
最後在這個例子中利用添加技術也可以相似的得到負載電路元件的結構，就象藉助圖1或者圖6已經描述的那樣。舉例來說用於在負載電路和由簧舌41構造的驅動電極之間絕緣的絕緣層64，總的說來必須的，附加拉應力層61、負載電路導電總線71和81、固定設置的觸點7、第二個消耗層5以及活動觸點8被按順序塗抹和構造。總的說來用於鈍化絕緣的附加層是必須的，這個層是根據專業人員的實踐經驗來實現的。
用於產生依照本發明的結構其他可能性在於採用了所謂的SOI-晶片(絕緣矽片)。在圖12中這種SOI晶片作為半成品被描述。並且按照圖9的構造相比區別如下，在這種情況下單個的層不是後來被沉積在支持層上，而確切說是這種半成品的SOI-晶片有一個預製的層結構，這裡例如由矽鎳合金構成的絕緣層2，例如由二氧化矽構成的第一個消耗層3，以及作為支持層4厚度例如是5到10μm的結晶矽-取向附生層被布置在矽支持層1上。在這種半成品上負載電路元件的結構類似的利用上面描述的添加技術來獲得，在這裡作為功能層的絕緣層64、附加的拉應力層61、負載電路導電總線71和81、固定安裝的觸點7、第二個消耗層5(如果可能的話也作為導電總線的鈍化絕緣)以及活動觸點8被構造。
繼電器的功能直接根據所描述的結構來獲得。為了控制繼電器通過相應的連接元件控制電壓Us被加載到電極上，也就是加載在圖2的基本基片1上，該基本基片同時用做基極，或者根據圖9到圖11的結構形式加載到與基本基片絕緣的基極上以及銜鐵簧舌41上，該銜鐵簧舌同時用做銜鐵電極。通過靜電充電銜鐵簧舌41被拉動到基極上，於是觸點閉合。
對於專業人員來說下面是很清楚的，即在圖中描述的結構以合適的方式被裝配到機殼中，以便觸點可以防止外部環境的影響。下面也應被提到，即所描述的許多開關特性可以同時被布置在一個和同一個支持層上並且被布置到為多路繼電器構造的共有機殼中。
權利要求
1．微型機械式靜電繼電器，具有-帶有基極(1,11)的基本基片(1)，並且具有至少一個固定觸點(7)、一個銜鐵簧舌(41)，其單側連接到與基本基片(1)相連的支持層(4)上，該銜鐵簧舌有一個在基極(1,11)對面布置的銜鐵電極(41)，靜止狀態時根據楔形空氣隙的構造該銜鐵簧舌可靈活的從基本基片(1)向外彎曲並且在其自由端至少有一個布置在固定觸點(7)對面的活動觸點(8)，其特徵是，至少一個固定觸點(7)被布置在固定觸點簧舌(42)上，該固定觸點簧舌連接到在銜鐵簧舌(41)對面布置的單側固定的支持層(4)上並且在靜止狀態由基本基片(1)靈活的向外彎曲，同時至少一個活動觸點(8)通過簧舌的突出部分被布置在銜鐵簧舌(41)的自由端並且與固定觸點(7)重合。
2．根據權利要求1的繼電器，其特徵是，銜鐵簧舌(41)和固定觸點簧舌(42)是由相同的支持層(4)構成的。
3．根據權利要求1或2的繼電器，其特徵是，至少一個活動的觸點(8)具有近似Z形式的橫斷面，這裡末端鐵心放在銜鐵簧舌(41)上並且與銜鐵簧舌近似平行的末端鐵心與固定觸點(7)重合。
4．根據權利要求1到3之一的繼電器，其特徵是，銜鐵簧舌(41)的自由端和固定觸點簧舌(42)以齒形交錯連接，這裡簧舌(42,41)的每一個突出部分(44,47)都嵌入到另一個簧舌(41,42)的凹座中，並且在固定觸點簧舌(42)的突出部分(44,46)上布置了至少一個固定觸點(7)，同時在另外一個簧舌的凹座上擴展了至少一個活動觸點(8)。
5．根據權利要求4的繼電器，其特徵是，在擴展狀態下銜鐵簧舌(41)利用其按鉗形構造的末端部分(43)包住一個在固定觸點簧舌(42)中間的支撐固定觸點(7)的突出部分(44)，並且兩側布置的活動觸點(8)在固定觸點(7)上隨意擴展。
6．根據權利要求4的繼電器，其特徵是，在擴展狀態時銜鐵簧舌(41)的中間突出部分(47)連接在固定觸點簧舌(42)上的布置了固定觸點(7)的兩個突出部分(46)之間，並且活動觸點(8)是被固定在中間突出部分(47)上的並且在固定觸點上面向兩側自由擴展。
7．根據權利要求4的繼電器，其特徵是，銜鐵簧舌(141)的中間突出部分(147)支撐著向兩側伸展的電橋觸點(148)並且兩個固定觸點簧舌(142,143)分別支撐著與電橋觸點(148)共同作用的固定觸點(144,145)。
8．根據權利要求1到7之一的繼電器，其特徵是，簧舌的支持層(4)是一個沉積層，該沉積層位於基本基片(1)上一部分被腐蝕的的消耗層(3)的中間接縫下。
9．根據權利要求1到8之一的繼電器，其特徵是，基本基片(1)和支持層(4)是由矽組成的並且在基本基片中和在銜鐵簧舌中的兩個電極層是通過固有導電的或摻雜的矽來構造的。
10．根據權利要求1到9之一的繼電器，其特徵是，簧舌(41,42)總是在遠離基本基片上的一側上至少利用其長度的一部分來給出一個產生拉應力的層(6,61)。
11．根據權利要求1到10之一的繼電器，其特徵是，構造簧舌(41,42)的支持層是由沉積的多晶矽或帶有再結晶的多晶矽組成的。
12．根據權利要求1到10之一的繼電器，其特徵是，構造簧舌(41,42)的支持層(4)是由電鍍塗上的金屬層，特別如鎳、鎳鐵合金或其他鎳合金來組成的。
13．根據權利要求1到9之一的繼電器，其特徵是，基本基片是由矽或玻璃組成的，並且構成簧舌(41,42)的彈性層(4)是通過固定在基本基片上並且自由分布的由矽晶片(20)組成的矽層(21)來構成的。
14．用於製造根據權利要求1到13之一的微型機械式靜電繼電器的方法，其特徵在於如下步驟-在裝備了用作基極的導電層的基本基片(1)上面在絕緣層(2)和中間空間(31)的中間接縫下塗上了一個導電的支持層(4,21)，-在支持層(4,21)中兩個簧舌由單側固定，其自由端彼此相對布置的簧舌(41,42)構造，-簧舌(41,42)在其上面至少一部分裝備了拉應力層(6,61)，-一個優選短的簧舌(42)在其自由端被裝備了至少一個固定觸點(7)，-這個優選長的簧舌(41)裝備了至少一個活動觸點(8)，該活動觸點在消耗層(5)的接縫下與固定觸點(7)重合，並且-通過簧舌(41,42)互相之間以及與襯底(1)之間的自由腐蝕就產生一個由襯底向上的彎曲。
15．根據權利要求14的方法，其中，在由矽組成的基本基片(1)上在第一個消耗層(3)的中間接縫下由多晶矽或帶有再結晶的多晶矽組成的一個導電簧舌層(4)根據兩個簧舌(41,42)的結構被沉積成，這裡簧舌的輪廓和觸點通過第二個消耗層(5)被彼此分離開，同時在觸點電鍍後兩個消耗層(3,5)被腐蝕掉。
16．根據權利要求14的方法，其中，在由玻璃、陶瓷或矽構成的基本基片(1)上在第一個消耗層(3)的中間接縫下由鎳或鎳合金特別是由鎳鐵合金構成的簧舌(41,42)結構被電鍍沉積而成，這裡在簧舌(42)上沉積成至少一個固定觸點(7)，並且在塗上第二個消耗層(5)以後在另一個簧舌(41)上沉積成一個與固定觸點(7)重合的活動觸點(8)，並且最後在塗完觸點以後兩個消耗層(3,5)被腐蝕掉。
17．根據權利要求14的方法，其中-在由矽或玻璃組成的基本基片(1)上電極(11)以及在其上的絕緣層(2)被沉積而成，-然後帶有摻雜矽層(21)的一個矽晶片(20)，該矽層主要是一個取向附生層或擴散層，被作為簧舌層固定連接在基本基片(1)上，-然後晶片(20)被防腐蝕處理，一直到只留下了摻雜的矽層(21)，然後利用這個矽層腐蝕出兩個簧舌(41,42)的結構，-然後在簧舌(42)之一上沉積成至少一個固定觸點(7)，-接著在另一個簧舌(41)上在消耗層(5)的中間接縫下面沉積成至少一個和固定觸點(7)重合的活動觸點(8)並且-最後消耗層(5)被腐蝕掉。
全文摘要
微型機械式繼電器含有一個基本基片(81),在該支持層上一個單側連接的帶有活動觸點(8)的銜鐵簧舌(41)被如下構造成,在靜止狀態時該銜鐵簧舌由支持層向外彎曲。與活動觸點共同作用的固定觸點(7)在被同樣布置成由基本基片向外彎曲的固定觸點簧舌(42)上如下擺動,兩個簧舌利用其自由端彼此相對布置並且活動觸點(8)重合在固定觸點上。通過在兩個簧舌上的觸點布置儘管只有一個較小的利用靜電驅動實現的銜鐵行程仍可以通過持續的狀態在觸點上獲得按比例放大的超程,由此產生一個足夠的觸點力。
文檔編號H01L41/09GK1310854SQ98808413
公開日2001年8月29日 申請日期1998年7月24日 優先權日1997年8月22日
發明者H·施拉克, L·基塞韋特 申請人:泰科電子後勤有限公司