用於藉助超聲波對試件進行無損檢測的方法及裝置的製作方法

2023-05-14 08:25:01 1

專利名稱：用於藉助超聲波對試件進行無損檢測的方法及裝置的製作方法
技術領域：
本發明的主題內容涉及一種用於藉助超聲波對試件進行無損檢測的方法，其中在 該方法的範圍內，通過使用在該方法的範圍內所記錄的超聲波回波信號來確定位於試件體 積中的缺陷的等效反射體大小。此外，本發明的主題還涉及一種適用於實施根據本發明的 方法的裝置。
背景技術：
所述類型的方法在現有技術中是公知的。試件體積中的藉助基於將脈動的超聲波 輻照入試件的脈衝回波方法所檢測出的缺陷(例如，縮孔、夾雜物或裂縫)是通過給出其等 效反射體大小ERG(英文ERS "equivalent reflector size」)的值表徵出來的。此等效 反射體大小的值是通過將由試件體積中的檢出缺陷引起的回波信號的振幅與已知大小的 模型化的比較缺陷相比較的方式確定的。在所謂的參考標準樣品方法中，檢測者將被檢測 的試件的回波信號與該檢測者在等效於該試件的被插入一個或多個參考反射體的參考標 準樣品處獲得的回波信號相比較。為此，例如可以將具有已知尺寸的圓柱體形的孔引入該 參考標準樣品。隨後，將在超聲波反射期間在該孔處出現的回波信號與在檢測試件時獲得 的回波信號相比較。在參考標準樣品方法中，檢測者因此用例如可以是合適的斜探頭的探 頭來對待檢測的試件以及對準備好的參考標準樣品進行測量。與之相反，在所謂的AVG方法中，將因試件體積中的缺陷導致的回波信號的振幅 與模型化的參考缺陷的根據理論計算出的和/或根據經驗確定的回波信號相比較，該參考 缺陷通常被假定為平坦的圓盤並且在試件中的深度與在對試件執行檢測期間所檢測出的 缺陷的深度相同。為此，預先為在檢測時所使用的探頭提供所謂的AVG圖，該AVG圖包含探 頭的特性。AVG圖中所包含的曲線指示在用所使用的探頭進行測量時由參考缺陷產生的回 波振幅。在實際的檢測任務中，檢測者隨後可以通過對試件進行聲衰減校正(因材料而異 的聲衰減)和傳輸校正(因試件而異的耦合損失)的方式直接從AVG圖讀取試件體積中的 檢出缺陷的等效反射體大小。在根據AGV方法的傳統檢測方法中，檢測者相對於檢出缺陷改變探頭位置和取向 並嘗試由此使結果得到的回波信號最大化。此過程在藉助超聲波的材料檢測時亦被稱為超 聲波信號的「飼育(ZUchten) 」。隨後為了最大化的超聲波回波而進行檢出缺陷的等效反射 體大小的實際確定。AVG方法的其他細節可以例如從專利文獻US 5，511，425A得到，該專利文獻屬於 本申請申請人的法律前任人。此外，在J. Krautkramer和H. Krautkramer所著的「利用超聲
波進行材料檢測」第五版，Springer出版社，ISBN3-540-15754-9，章節19. 1，第343-349頁 中詳細描述了 AVG方法。此處所公開的關於AVG方法的技術細節的全部公開內容通過援引 納入本申請。當前流行形式的AVG方法的缺點在於，為了對試件體積中的缺陷進行有意義的表 徵，必須用多個探頭來執行檢測。其原因在於，對於給定的缺陷而言，輻照入試件的垂直聲照射未必提供最大的回波振幅。更確切地說，可獲得最大回波信號的聲照射角取決於試件 體積中的缺陷的取向。為了真正獲得檢出缺陷的等效反射體大小的、合理地與該缺陷的實 際大小相關的值，通常在基於AVG方法的標準化檢測規程的範圍內使用不同的斜探頭，這 些斜探頭實現不同的聲照射角。實踐中，此方法對於檢測者而言意味著較高的檢測耗費和 記錄耗費，以使得通常僅在較少的聲照射角情況下進行檢測。此外，聲照射角的改變要求更 換探頭，這由於決不是百分之百明確的校準並且由於探頭的耦合特性而會導致其他問題。

發明內容
因此，本發明的任務在於，如此改進現有技術中已知的AVG方法，以使得能夠以顯 著減小的檢測耗費來獲得至少意義相當的檢測結果。此外，本發明的任務還在於提供一種 適用於實施根據本發明的方法的裝置。此任務是通過根據獨立的方法權利要求的方法以及通過根據獨立的裝置權利要 求的裝置解決的。根據本發明的方法是為藉助超聲波來無損地檢測試件所擬定的並且至少具有以 下方法步驟，這些方法步驟還能夠被循環地執行a)將聲照射角β下的定向超聲波脈衝輻照入試件，其中電子地設定該聲照射角 β ,b)記錄由輻照入試件的超聲波脈衝導致的回波信號，以及c)從可與試件體積中的缺陷相關聯的回波信號計算該缺陷的ERS值，其中藉由計 算來補償聲照射角β的電子設定對該缺陷的所確定的ERS值的影響。根據本發明的對所述類型的AVG方法的改進基於，使用能夠電子地設定輻照入試 件的聲照射角的探頭。此處，例如使用所謂的相控陣探頭，即具有能夠彼此獨立地且相位精 準地受控的多個相鄰地布置的超聲波換能器的探頭。在現有技術中已知的是，在此類相控 陣探頭中，通過有針對性地設定各個超聲波換能器之間的相移而能夠在寬泛的界限內自由 地改變所發射的聲束的輻射角α。現在根據本發明提出，在從與試件體積中檢測出的缺陷相關聯的回波信號計算該 缺陷的ERS值時自動地通過計算來補償輻射角α的電子設定對該缺陷的所確定的ERS值 的影響並且由此補償聲照射角β的電子設定對該缺陷的所確定的ERS值的影響。輻射角 和聲照射角β在本發明的範圍內被認為是等效的，因為它們在物理上彼此緊密相聯繫。特 別地，這意味著在根據本發明的方法的範圍內自動地進行以下校正中的至少一個校正，但 是優選進行多個校正 在變化的輻射角α或聲照射角β的情況下補償虛擬的超聲波換能器大小的變 化或者超聲波換能器的與超聲波換能器大小相聯繫的孔徑的變化， 在變化的輻射角α或聲照射角β的情況下補償由超聲波換能器發射的超聲波 輻照入試件的輸入耦合點的位置的變化， 在變化的輻射角α的情況下補償引導體中的聲路徑的變化，以及 在變化的輻射角α或聲照射角β的情況下補償試件中的焦點的位置變化。在根據本發明的方法的範圍內，通常結合對試件的檢測來對一個/多個參考反射 體進行測量。這些參考反射體可以例如採取分別具有已知直徑的、被插入試塊的盲孔或橫向孔的形式。適用於執行根據本發明的方法的、以下還將詳細描述的裝置在此優選地提供 執行標準化的校準步驟的可能性，其中還可以例如在多個預設定的標準化的試塊中進行選擇。對於聲照射角β的電子設定而言，已提及的相控陣探頭具有特殊的優點。但是這 並不意味著，在根據本發明的方法的範圍內，在給定能夠電子地設定並且還能夠量化聲照 射角的前提下不能夠使用帶有可變的聲照射角的其他超聲波探頭。為了從回波信號計算試件體積中檢測出的缺陷的ERS值，有利地將這些回波信號 與多個所存儲的參考值相比較，尤其是與關於預定的經電子設定的聲照射角β的AVG圖相 比較。在此情況下，有利地可以預先因探頭而異地確定此AVG圖，例如通過在預定的聲照射 角β下輻照多個不同的參考缺陷並且從結果得到的回波信號產生標準參考回波信號的方 式。在根據本發明的方法的一個優選的改進方案中，為至少兩個不同的分別電子設定 的聲照射角β 和β 2執行方法步驟a)到c)。結合執行這些改進的方法步驟，隨後從分 別在至少兩個不同的聲照射角β 1和β2下輻照的多個參考缺陷得到該多個所存儲的參考 值。通常，將試件體積中檢測出的缺陷的回波信號與兩個不同的分別與聲照射角β 或β2 相關聯的AVG圖曲線簇相比較。在根據本發明的方法的一個優選的改進方案中，從檢測數據，尤其是從沿著試件 表面上的線性掃描所獲得的回波信號，創建試件的B掃描(X軸試件表面上的位置，Y軸 試件中的深度)。為此，用於執行根據本發明的方法的裝置具有位移傳感器，該位移傳感器 檢測探頭在試件表面上的航行。在此情況下，該位移傳感器可以機械地工作，或者基於根據 「光學滑鼠」的方法來分析的光信號或超聲波信號。因此，在該裝置中除了存在由探頭記錄 的超聲波信號之外還存在關於探頭的位置的信息。從這兩個信息創建B掃描，該B掃描能 夠被顯示在合適的顯示單元上或者作為檢測記錄被列印出來或者被電子存儲。特別地，在所創建的B掃描中可以通過條紋來表示檢測出的缺陷，該條紋的沿著 其縱軸的延伸與檢出缺陷的ERS值相關。有利地，為了描繪ERS值並且為了描繪試件表面 上的X位置而使用相同的標度。在本發明的上下文中，條紋應當被理解為任意的關於兩個 彼此正交的軸線鏡像對稱的幾何圖形，例如線段、矩形、橢圓、等等。在此情況下，在本發明 的上下文中，將條紋的兩個對稱軸中的一個表示為其縱軸。為了提高在根據本發明的方法的範圍內所創建的B掃描的可解讀性，尤其是改善 所創建的B掃描的直觀的可理解性，經證明有利的是，在所創建的B掃描中以合適的方式來 顯示檢出缺陷的以下其他特性中的至少一個特性a)缺陷回波的相對振幅，b)得到檢出缺陷的最大ERS值的聲照射角β，這例如是通過將缺陷描繪為垂直於 得到最大缺陷回波的聲照射方向的條紋的方式達成的，c)相對缺陷大小，d)關於回波的聲路徑的信息，例如發出缺陷回波的支線(Bein)，以及e)關於檢出缺陷的ERS值對於預定的缺陷界限範圍內的所有經檢測的聲照射角 β而言是相同的還是不同的信息。對相對值的指示可以例如涉及結合對試件的檢測所測得的參考值。
為此，可以在B掃描中有利地使用以下顯示參數中的一個或多個顯示參數a)條紋的顏色，b)條紋橫向於其縱軸的尺寸(條紋寬度B)，c)條紋的縱軸相對於試件表面的角度，以及d)條紋的基本幾何形狀。作為示例，以下進一步解釋關於不同缺陷特性的一些顯示可能性。在本發明的範圍內，缺陷回波的相對振幅應被理解為關於因試件體積中的缺陷導 致的超聲波回波(即，回波的振幅)是否超過確定的預定閾值的信息。此類閾值可以例如 涉及測得的缺陷回波振幅與參考缺陷的振幅的比較。特別地，可以按「毫米ERS」的形式來 說明閾值，例如ERS應當大於或等於例如2毫米或5毫米的登記界限。如果聲照射角β在根據本發明的方法的範圍內發生變化並且確定了得到缺陷的 最大ERS值的那個聲照射角β，那麼可以通過相對於試件表面傾斜地描繪表示B掃描中的 缺陷的條紋的縱軸的方式來向檢測者提供關於試件體積中的缺陷的取向的指示。有利地， 此處如此描繪條紋，以使得其縱軸垂直於在得到缺陷的最大ERS值的那個角度α下輻照的 超聲波的聲軸。另一個與檢測者和文檔記載有關的信息是檢出缺陷的ERS值是在預定的登記界 限以上還是以下。因此，例如可以在所創建的B掃描中完全抑制確定的閾值以下的缺陷信 號。替換地，此類缺陷信號還可被色彩編碼或者被描繪為透明的條紋，以便指示與登記界限 的(例如，以「mm ERS」或dB計的)距離。特別是後兩種描繪變型方案提供了以下優點可 以向檢測者指出雖然在檢測位置處在試件體積中存在缺陷，但是該缺陷相對於其ERS值而 言較小，從而由於有關的測試規範而不需要記載該缺陷。此外，對於檢測者感興趣的可以是關於從哪個聲路徑(即，輻照入的超聲波束的 「支線」)產生缺陷回波的信息。此信息尤其是在對具有共平面的表面的試件執行檢測時是 令人感興趣的，因為此處通常出現如下情況直到超聲波束在試件的後壁處至少反射一次 之後才由超聲波束檢測到缺陷。此信息可以從缺陷回波的傳播時間來確定並且在B掃描中 例如通過對條紋的色彩編碼來圖形地顯示給檢測者。此外，關於試件體積中的檢出缺陷被認為是平面延伸的缺陷還是三維延伸的缺陷 的信息對於檢測者是重要的。三維延伸的缺陷通常是縮孔或缺陷點，該縮孔或缺陷點是由 於製造導致的並且通常不會帶來疲勞斷裂的危險。與之相反，平面延伸的缺陷通常與試件 中的裂縫相關，該裂縫可能是疲勞症狀並且具有擴展的強烈趨勢，這可能會導致疲勞斷裂。 在根據本發明的方法的範圍內，試件體積中的三維延伸的缺陷的特徵在於，缺陷的結果得 到的ERS值基本上與聲照射角無關。與之相反，二維延伸的缺陷表現出與聲照射角的極大 依賴性。因此，此處可以將關於更可能是平面延伸的缺陷還是三維缺陷的信息編碼到所示 的條紋中。這可以例如通過匹配所示的條紋的長度和寬度來實現或者通過選擇表示缺陷的 對稱性的幾何形狀來實現。但是在此處也可以有利地使用色彩編碼。替換地，還可以創建C掃描(X軸試件表面上沿X方向的位置，Y軸試件表面上 沿Y方向的位置)或者創建扇形掃描(亦被稱為S掃描，X軸與聲照射點的距離/試件中 的深度，Y軸方位角聲照射角)並且該C掃描和扇形掃描在特殊的應用場合是有利的。 所有以上用於描述B掃描中所確定的缺陷特性的實施例均可直接轉移到進一步提供的C掃描和S掃描。根據本發明的方法現在允許用現代的超聲波探頭來執行在許多檢測規範中規定 的AVG方法，這些現代的超聲波探頭允許例如在使用相控陣技術的情況下對輻照入試件的 聲照射角進行電子設定。當然，為了提高檢測準確性，實際上可以不費力地任意增加確定缺 陷的等效反射體大小ERS的聲照射角β的數目。特別地，相控陣探頭的使用允許連續地調 諧聲照射角β。實際上，能夠在檢測任務的範圍內設定的不同聲照射角的β的數目基本上 是由例如用於確定AVG圖的耗費限定的。根據本發明的用於藉助超聲波來對試件進行無損檢測的裝置包括具有超聲波發 射器的發射探頭，該超聲波發射器被設置成將聲照射角β下的定向超聲波脈衝輻照入試 件。此外，該裝置包括超聲波接收器，其被設置成記錄輻照入試件的超聲波脈衝的回波信 號。此外，該裝置包括控制和分析單元，其被設置成控制發射探頭的超聲波發射器，以便激 勵超聲波發射器發射超聲波脈衝序列。此外，該控制和分析單元被設置成處理由超聲波接 收器記錄的回波信號。最後，該控制和分析單元被設置成從可與試件體積中的缺陷相關聯 的經記錄回波信號來確定該缺陷的ERS值。根據本發明，超聲波發射器現在包括多個可獨 立控制的超聲波換能器，即該超聲波發射器是相控陣類型的。相應地，控制和分析單元被設 置成個體地且相位精確地控制超聲波發射器的該多個超聲波換能器，以使得能夠有針對性 地電子調節該超聲波發射器的輻射角α。作為改變輻射角α的結果，因此還可以電子地調 節超聲波輻照入試件的聲照射角β。最後，控制和分析單元被設置成自動地補償聲照射角β的電子調節對缺陷的待 確定的ERS值的影響。如結合根據本發明的方法已說明的，可以例如自動地通過與多個所存儲的參考值 的比較來確定缺陷的ERS值，其中這些參考值可以例如是一個或多個AVG圖。在此方面應 當指出，為了藉助根據本發明的方法來確定檢出缺陷的ERS值，對於輻照缺陷的每個角度 而言，除了 AVG圖之外還必須提供例如來自試塊的參考回波。在根據本發明的裝置的一個優選的改進方案中，控制和分析單元因此被設置成電 子地設定至少兩個不同的聲照射角β。在此情形中，存儲在控制和分析單元中的參考值與 該至少兩個不同的聲照射角β相關。特別地，這可以是兩個因探頭而異的AVG圖或者是關 於電子地設定的兩個不同聲照射角β的AVG曲線簇。在一個特別優選的設計方案中，在控制和分析單元中存儲例如成群地與不同的聲 照射角β相關的AVG圖形式的多個參考值。在此情況下，這些參考值可以繼續是因探頭而 異的。特別地，這些參考值可以是因探頭而異數量的關於不同聲照射角β的AVG圖。優選 地，探頭進一步設有電子標識，該電子標識允許控制單元在連接探頭時獨立地識別探頭類 型或者甚至識別個體的探頭並且選擇所存儲的因探頭(類型)而異的參考值。然而在所有的設計方案中，對檢出缺陷的(因聲照射角而異的)ERS值的確定通常 具有以下前提存在例如在相應的角度下在試塊處檢測到的參考值或者來自不同的測得角 度之間的內插的參考值。在根據本發明的裝置的一個特別優選的設計方案中，其控制和分析單元被設置成 自動地將超聲波發射器的輻射角α換算成在試件中結果得到的聲照射角β，以便自動地 補償聲照射角β的電子設定對缺陷的待確定的ERS值的影響。特別地，此補償可以被設計成是因探頭而異的。此外，控制和分析單元實際上被設置成考慮引導段和試件的材料的因 超聲波而異的特性，例如聲速。如果為了自動地補償聲照射角β的電子設定對缺陷的待確定的ERS值的影響，根 據本發明的裝置的控制和分析單元被設置成自動地補償隨著聲照射角β的電子變動所帶 來的虛擬的超聲波發射器大小的變化並且自動地補償由此造成的探頭的孔徑的變化，那麼 可以達成進一步的改進。虛擬的超聲波發射器大小是從超聲波發射器的實際的幾何尺寸在 垂直於超聲波發射器的電子設定的輻射方向上的投影得到的。如果超聲波發射器在不等於 0°的輻射角α下進行輻射，那麼這會直接導致虛擬的超聲波發射器大小的下降。由於超 聲波發射器大小在必要時被納入對檢出缺陷的ERS值的計算，因而此處在必要時必須進行 相應的自動補償。如果控制和分析單元被設置成自動地補償輸入耦合位置Xtl的與輻射角α或聲照 射角β的調節相關聯的位移對缺陷的待確定的ERS值的影響，那麼得到進一步的改進。最後，還可以提供對試件中的焦點的位置變化的自動補償，該位置變化是在輻射 角α發生變化時由於引導體中的聲路徑長度的由此產生的變化所造成的。最後還應當指出，可以基於所存儲的AVG圖按兩種不同的方式來根據本發明自動 地補償聲照射角β的電子調節對缺陷的待確定的ERS的影響。一方面，控制和分析單元可 被設置成在考慮聲照射角β的調節的影響下標準化實際的測量值(即，時間分辨的回波信 號)，即例如換算到具有固定的聲照射角β的常規探頭的結果。隨後，將這些結果與標準化 的AVG圖相比較。另一方面，可以在創建存儲在控制和分析單元中的AVG圖時就已考慮電子的角度 調節對回波信號的因探頭而異的影響，即已在所存儲的AVG圖中就考慮了待進行的補償。 此實現也應當被包括在根據本發明的方法以及根據本發明的裝置中。最後，在根據本發明的裝置的一個優選的改進方案中，該裝置還包括由控制和分 析單元控制的顯示裝置。在此情況下，控制和分析單元被設置成在本發明裝置的顯示裝置 上至少顯示試件的B掃描。優選地，還可以創建並在顯示裝置上顯示C掃描和扇形掃描(S 掃描)。就在顯示裝置上顯示藉助根據本發明的裝置所執行的檢測方法的結果的可能性而 言，已結合對根據本發明的方法的說明進行了詳細解說。為此可參考有關的實施方式。另外，已結合對根據本發明的裝置的說明詳細解說了同樣能夠有利地在B掃描中 顯示的其他缺陷特性以及對B掃描中的這些特性進行編碼的可能性。


從從屬權利要求及以下根據附圖詳細說明的實施例中得到根據本發明的裝置和 根據本發明的方法的其他優點和特徵。附圖中示出圖1 根據本發明的用於對試件進行無損檢測的裝置的示意圖，圖2a_2c 在不同的聲輻照位置χ處和在不同的聲照射角β下記錄的試件的A掃 描，以及對於給定的聲照射角β而言取決於試件中的深度d的最大振幅的變化，圖3 取決於聲照射角β的最大回波振幅的圖示，圖4 角度分辨的因探頭而異的AVG圖，
圖5 探頭處的波束幾何形狀的示意圖，圖6 表示試件的B掃描的圖示，其中通過相關聯的ERS值來表示缺陷，圖7 對應於圖6的具有多個缺陷的試件的圖示，該多個缺陷具有不同的反射特 性，圖8 用於檢測試件體積中的缺陷的ERS值的角度相關性的方法的示意圖，以及圖9a、9b 試件體積中的兩個不同缺陷的取決於角度的ERS值的示意圖。
具體實施例方式圖1示出了根據本發明的用於藉助超聲波來對試件100進行無損檢測的裝置1的 實施例。裝置1包括發射探頭10，該發射探頭10在它那邊包括引導段16和布置在引導段 16上的超聲波發射器12。超聲波發射器12在此情況下如此布置在引導段16上，以便激勵 超聲波發射器12發射超聲波脈衝時這些超聲波脈衝基本上輸入耦合到引導段16中。引導 段16在此可以例如由來自Plexiglas 的物體形成，如原則上在現有技術中已知的那樣。 優選地，發射探頭10的諸元件被放置到共同的殼體中，出於簡明的目的而未在附圖中示出 該殼體。所示的發射探頭10是斜探頭，該斜探頭被設置成將由超聲波發射器12在相對於 試件100的入射面的表面法線所測得的聲照射角β下發射的超聲波脈衝輸入耦合到試件 100中。斜探頭的使用是可選的並且不是強制的，根據應用場合還可以將探頭用於垂直的聲 照射(即，β =0° )。在發射探頭10中所使用的超聲波發射器12是相控陣類型的超聲波發射器，即超 聲波發射器12包括形成至少一個線性布置的且個體可控制的多個超聲波換能器14。該至 少一個線性的超聲波換能器14陣列的縱軸在此被定向在用X表示的方向上。通過有針對 性地調節各個超聲波換能器14之間的相位，可以在寬泛的界限內動態地影響輻射角α，即 輻射方向。在所示的實施例中，發射探頭10包括機械的位移傳感器18，該位移傳感器18機 械地感測發射探頭10在試件100的表面上的運動並且將相應的位置信息例如提供給與發 射探頭10相連接的控制單元50。替換地，位移傳感器18還可以例如根據光學滑鼠的原理 以非接觸的方式工作。位移傳感器18 (無論其類型如何)優選能夠檢測發射探頭10在試 件100的表面上的沿兩個彼此獨立的方向的運動。如果能夠檢測發射探頭10在試件表面 上的旋轉運動，那麼可以得到特別的優點。基於在專利文獻US 7，324，910Β2中公開的技術 以及在2007年6月26日提交的德國專利申請10 2007 028 876. 1中公開的對該技術的改 進方案，可以完全省去單獨設計的位移傳感器，因為可以自行從超聲波發射器12的信號獲 得全部位置信息。控制單元50與發射探頭10相連接，該控制單元50被設置成個體地且相位準確地 控制布置在發射探頭10的超聲波發射器12中的超聲波換能器14。此外，控制單元50被設 置成與超聲波接收器40相連接，以便接收從試件10反射回來的回波信號，這些回波信號是 由超聲波發射器12輻照入的超聲波脈衝造成的。在此處所示的實施例中，布置在發射探頭 10中的超聲波發射器12還充當超聲波接收器40。為此，包含在超聲波發射器12中的、分 開形成的、且個體可控制的超聲波換能器14在發射了發射脈衝之後電氣地互連成大面積 的隨後起超聲波接收器40作用的超聲波發射器12。當然，還可以使用分開形成的超聲波接收器40，其例如可以被布置在分開形成的接收探頭中。在本實施例中，此類分開的接收探頭 同樣還包括對應於發射探頭10的引導段16的引導段。為了對試件100進行無損檢測以例如發現隱藏在試件100的體積中的缺陷102， 發射探頭10與控制單元50相連接並且被放置到試件100的表面上。發射探頭10與試件 100的聲耦合通常是在使用合適的耦合劑的情況下實現的，該耦合劑可以例如是水、油或者 基於水的凝膠。試件100優選是機械的工件或工具，但是也可以是生物試件。現在，檢測者沿著圖1中用X表示的方向使發射探頭10在試件100的表面上往復 移動。該檢測者同時觀察與控制單元50相關聯的顯示裝置52上的顯示，該顯示裝置52 在所示的實施例中作為顯示器整合在控制單元50中。在所示的實施例中，在顯示裝置52上 顯示A圖像，其中根據時間示出關於給定聲輻照位置X的經反射的超聲波脈衝的振幅。如 果由發射探頭10發射的聲束遇到試件100的體積中的缺陷102，即遇到諸如缺陷點、縮孔或 裂縫之類的反射超聲波的結構，那麼輻照入的聲束中的一部分會反射回來並且沿著相同的 路徑返回到發射探頭的超聲波發射器12。如所提及的，超聲波發射器12同時起超聲波接收 器40的作用，該超聲波接收器40將反射的聲信號轉換成電信號，該電信號隨後在必要時以 合適的方式被放大並且被輸出給控制單元50。在控制單元50中，以合適的方式來處理通 常作為電信號存在的、但是必要時也可以例如由發射探頭10以光信號的形式傳輸的收到 回波信號，該處理可以例如是通過高時間分辨的AD轉換和信號處理來實現的。隨後，在顯 示裝置52上以上述A掃描的形式顯示信號。如果輻照入的超聲波束遇到缺陷102，那麼就 由此得到在A掃描中直接可見的回波信號。上述處理方法在此有利地是在固定的聲照射角 β下進行的。如果檢測者通過使用上述處理方法發現了缺陷102，那麼檢測者嘗試通過改變發 射探頭10在試件100的表面上的X位置來使結果得到的缺陷信號的振幅最大化，即飼育該 信號。此對信號的飼育也是為固定的聲照射角β 1進行的。圖2a中示出了在不同的聲照 射位置Xp X2和X3處飼育回波信號時得到的A掃描。清晰可見，由於試件100中的傳播路 徑的變化，因而在不同的時間出現回波信號，此外在其最大振幅方面也是變化的。其原因在 於，當發射探頭10在試件100的表面上移動時，聲錐體的在其中最高聲壓佔優勢的中心在 缺陷102上移動。通常，當聲束中央地碰到缺陷102時，得到最大的回波信號振幅。如果在 改變聲照射位置X的情況下確定關於固定的聲照射角β 1的所有回波信號的包絡，則得到 對由傳播時間或者缺陷102在試件100中的深度決定的回波振幅的描繪，如在圖2a的右側 示圖中所示的那樣。從此圖示能夠確定關於所選擇的聲照射角β 1所得到的最大回波振幅
A最大⑷)。此後，檢測者可以改變聲照射角β，以使得檢測者再次為經改變的聲照射角β 2 執行相同的檢測。替換地，在部分自動化的檢測方法的範圍內可以進行自動的角度變化。由 此同樣得到關於由時間或缺陷102在試件100中的深度決定的振幅變化的圖示。此類圖示 被示出在圖2b中的右側。此處在聲照射角β 2下得到的最大回波振幅不必強制對應於首 先選擇的聲照射角β 1下的回波振幅，只要不是規則形狀的缺陷，通常此處甚至存在偏差。如果補償了由於不同的聲照射角β 1禾Π β 2而導致的不同的傳播時間，那麼在所提及的對包絡的圖示中的峰值(β)基本上在相同的位置Dtl處。然而，如果省去此類傳 播時間補償，則這些峰值將位於不同的位置。在圖2c中示例性地示出了用於再次改變的聲照射角β 3的相同方法的結果。在上述處理方法中，聲照射角β是在充分利用相控陣類型的超聲波發射器12的 有利發射特性的情況下電子地調諧的。在一個替換的設計方案中，控制單元50被設置成通過改變聲照射角β來為給定 的聲照射位置X自動地優化可能得到的回波信號。如果在相應的聲照射角β上標繪關於不同的聲照射角β所得到的最大振幅Ae λ，那麼得到如圖3中可見的圖示。現在可以從此圖示或者基於此圖示的回波數據確定對於 其而言檢出缺陷102呈現出最大回波振幅的那個聲照射角β。由此還可以容易地說 明並分析缺陷102的超聲波反射率的角度相關性。以上已描述了對關於缺陷102的類型所 達成的特性的可能的解說。在對試件進行以上所說明的實際檢測的準備過程中(如現有技術中關於具有固 定的聲照射角β的探頭所已知的那樣)確定所謂的AVG圖。在此，AVG圖根據距離(即根 據試件中的深度d)示出不同直徑的圓盤反射體的回波振幅以及延伸的平面反射體(後壁 回波)的回波振幅。與現有技術中已知的AVG圖和用於超聲波測量的裝置不同(其中因探 頭而異的AVG圖例如是以數字形式存儲的)，而在本發明的範圍內，附加地以角度分辨的方 式記錄或生成AVG圖並且在必要時將這些AVG圖存儲在控制單元50中。圖4根據距離d 和角度β示例性地示出了關於圓盤反射體的預定直徑的AVG圖。為了藉助允許電子地改變輻照入試件100的聲照射角β的相控陣探頭來確定缺 陷的ERS值，在各種方面可能要求對現有技術中已知的基於理論考慮的普通AVG圖(參考 US 5，511，425Α)進行匹配。一方面，對一般情況下因探頭而異的AVG圖的校準是必需的，以 便考慮試件的材料的超聲波特性以及補償諸如超聲波換能器的老化或者發射探頭與試件 的耦合發生變化之類的因探頭而異的效應。為此，在對試件100進行真正的檢測之前，在大 多數檢測規程中要求執行校準步驟，以便校準可能已存儲在裝置1中的普通AVG圖。此外，在藉助相控陣探頭來電子地改變聲照射角β時必須考慮，探頭的超聲波特 性會直接通過角度變化而自行改變。出於此原因，必須將已為特地的聲照射角確定的普通 AVG圖換算到其他(經電子設定的)聲照射角β。特別地，還可以在本發明裝置本身中進行 這種換算，以使得不需要為不同的聲照射角β存儲大量因探頭而異的AVG圖。在替換的辦 法中，當然還可以在裝置1中存儲大量例如因探頭而異的涉及多個聲照射角β的AVG圖。 此處也可以根據經驗來確定或者根據理論來計算這些AVG圖。如以上已說明的，可以在使用根據本發明的裝置時電子地調諧聲照射角β。如從 圖5可見，例如在具有引導段的斜探頭中，當電子地調諧聲照射角β時，聲波輻照入試件的 輸入耦合點變化了 ΔΧ並且聲束的直徑在該聲束從引導段轉移入試件時發生變化。這也可 以被解讀為超聲波發射器12的尺寸的虛擬變化(D- > D')，在記錄以上提及的AVG圖時 同樣必須考慮此變化。藉助簡單的幾何考量以及聲折射定律可以容易地計算出聲照射角β 的電子變動對輸入耦合點的變化以及虛擬的超聲波發射器12的大小的影響。為了現在確定關於在試件體積中檢測出的缺陷的等效反射體大小ERS，檢測者 (如在現有技術中已知的具有帶有固定的聲照射角β的探頭的裝置情況下)在控制單元50的顯示裝置52上顯示與經電子調節的在其下得到最大回波信號的聲照射角β對 應的那個AVG曲線。在此情況下，在真正測量可以例如被插入試塊的參考缺陷之前檢定 (eichen)該AVG曲線。「檢定」是指對所使用的探頭的靈敏度的校準。通常，(根據所使用 的探頭的頻率)從標準化的所謂的「K1試塊或「K2」試塊處的後壁回波獲得進行檢定所需 要的參考回波。由於在此情形中不涉及平坦的後壁，因而還必須執行(通常由探頭的生產 商指出的)圓弧校正。與之相反，來自部件的參考反射體是相當罕見的。屏幕上示出的AVG曲線對應於預定的等效反射體大小，該等效反射體大小對應於 由檢測規程規定的登記界限。如果找到其回波超過屏幕上顯示的AVG曲線的缺陷，那麼例 如自動地由控制單元50(以超過登記界限的dB為單位或者直接以毫米為單位)指示得到 的等效反射體大小ERS。在AVG曲線中，檢測者還可以在移去脈衝直至檢出缺陷的傳播時間 的情況下直接讀取該缺陷的等效反射體大小ERS。在廣泛自動化的檢測規程中，檢測者使 用上述處理方式來掃描試件100的表面直至檢測者檢測到據其看來緣於試件100的體積中 的缺陷102的回波。必要時，在檢測者將根據本發明的裝置1的控制和分析單元50轉換到 自動測量模式之前，檢測者手動地對缺陷信號進行一定的優化。其中，控制單元50如此控 制超聲波發射器12，以使得聲束輻照入試件的輸入耦合點朝試件100的表面上的X方向偏 移。同時，控制單元50檢測結果得到的缺陷回波的由輸入耦合點決定的振幅並且確定最大 回波振幅。在此情況下，聲照射角β保持不變。在後續的方法步驟中，控制單元50改變聲照射角，以使得在另一角度β 2下輻照 試件100的體積中的待測量的缺陷102。同樣，控制單元50在此處通過對超聲波發射器 12的恰當控制來改變所發射的聲波輻照入試件的輸入耦合點，其中同時檢測得到的回波振 幅。同樣，為經設定的聲照射角β 2確定最大回波振幅β 2)，即檢測者「飼育」回波信號。隨後，通過與一個或多個因探頭而異並且因角度而異的AVG圖的比較，根據本發 明的裝置的控制單元50自動地確定經測量的缺陷102的ERS值。為此，控制單元50自動 地補償超聲波發射器12的輻射角α的電子變動對超聲波束輻照入試件的輸入耦合點的影 響並且由此對超聲波脈衝從超聲波發射器12直至缺陷102的傳播時間的影響。此外，控制 單元50同樣如以上所描述的那樣自動地補償超聲波發射器12的輻射角α的電子變動對 虛擬的發射器大小的影響。控制單元50還自動地補償由於引導體中改變的聲路徑所導致 的試件中的焦點的位置變化。最後，控制單元50自動地將輻射角α換算成聲照射角β，其 中必要時還考慮試件的材料特性。結果，既從手動執行的檢測方法又從自動執行的檢測方法獲得在試件100的體積 中檢測到的缺陷102的ERS值以及得到最大缺陷信號的那個聲照射角β。隨後，可以 記錄這些數據。如果附加地存在關於探頭的位置信息，那麼還可以直觀地進一步在如圖6中示例 性呈現的B掃描中或者還在C掃描或S掃描中顯示檢測結果。因此可以在B掃描中顯示長 度為L的條紋，該條紋的在試件表面上的X位置對應於缺陷所處的根據計算得到的位置Xtlt5 在Y方向上，條紋位於深度Dtl處，該條紋對應於試件100的體積中的缺陷的根據計算得到 的深度。此外，描繪測得缺陷102的條紋的長度L直接與該缺陷的在根據本發明的檢測方 法的範圍內所確定的等效反射體大小ERS相聯繫。此外有利地，條紋的取向直接與得到最大回波信號的那個聲照射角β相關。為此，可以相對於X軸傾斜地描繪條紋的縱軸， 以使得該條紋被定向成垂直於聲傳播方向，該聲傳播方向對應於得到最大回波信號的那個 聲照射角β。圖6中所示的B掃描中的條紋的取向因此直接向檢測者給出關於試件中的測 得缺陷的取向的信息，同樣可以記錄並存儲該信息。另外，優選同樣在與控制單元50相連 接的顯示裝置52上向檢測者顯示圖6中示意性示出的B掃描。優選地，控制單元50被設 置成向PC傳輸所存儲的數據，在該PC中能夠進一步分析這些數據。最後，圖7示出了試件100的另一個B掃描，從中可見到試件100的體積中的三個 缺陷102。這些缺陷位於位置X1J2以及Χ3。在位置X1和X3處檢測到的缺陷102呈現出回 波信號與聲照射角的極大相關性，即在聲照射角β發生變化的情況下所得到的最大缺陷 回波振幅的變動要超過特定的閾值。由此可推斷，這些缺陷更可能是平面延伸的缺陷 102，相應地在圖7的B掃描中將這些缺陷示為基本上一維的符號。與之相反，在位置X2處檢測到的缺陷102呈現出基本上與聲照射角β無關的回 波振幅，即產生的回波振幅變化保持低於預定的閾值。由此可以推斷該缺陷102更可能是 均勻的三維延伸，其在圖7的B掃描中是通過二維的缺陷符號(例如，如所示的圓盤)表示 的，該缺陷符號的直徑與此缺陷的等效反射體大小ERS相關。現在根據圖8來解說一個新穎的方法，其同樣被實現在根據本發明的裝置1中。在 第一方法步驟中，由裝置1控制發射探頭10，以使得發射探頭10在固定的聲照射角β下將 超聲波脈衝輻照入試件100。如果檢測者檢測到試件100的體積中的缺陷102，那麼檢測者 飼育缺陷信號直至信號振幅變成最大。在下一步驟中，檢測者激活「掃描」功能，其中由裝 置1控制探頭10，以使得輻照入試件100的聲照射角β在預定的區間內電子地變化。裝 置1還被設置成從不同的聲照射角β下接收到的缺陷回波來確定最大的缺陷回波以及與 之相關聯的聲照射角β Λλ。如果發射探頭10在試件100的表面上的位置發生變化，那麼 就得到在其下缺陷回波最大的那個經改變的聲照射角β，因為最大的缺陷回波一般情況下 是在缺陷由超聲波束中央地檢測到的情況下獲得的。如果如先前所描述的那樣執行電子的 角度掃描，那麼裝置1可以完全自動地找到對於其而言缺陷回波變得最大的那個經改變的 聲照射角β。通過改變發射探頭10在試件100的表面上的位置，可以藉助上述方法自動地 確定關於不同聲照射角β的最大缺陷回波。在此情況下，一方面可以通過發射探頭10的 機械運動來改變發射探頭10在試件100的表面上的位置，但是也可以通過在超聲波發射器 12中的大量個體的超聲波換能器14內執行線性掃描的方式(所謂的「電子線性掃描」)來 虛擬地改變該位置。如果在設備中存儲有至少一個例如根據圖4的、例如可能已經根據理論計算出的 或者藉助實際測量確定的AVG圖，那麼可以從該AVG圖中、從為特定的聲照射角β確定的 最大缺陷回波振幅來確定該缺陷的關於此角度的ERS值。必要時可能必需的是，在對試件 100執行真正的檢測之前，根據在試塊處獲得的、可能在不同聲照射角下記錄的參考回波來 因探頭而異地或因材料而異地校準存儲在設備中的AVG圖。AVG方法因此尤其允許自動地 補償試件中由於不同的聲照射角所得到的聲路徑。替換地，在確定試件100的體積中的缺陷102的與角度有關的ERS值時，裝置1還 可以利用由路徑檢測單元18提供的位置信息。如以上所描述的，在第一步驟中為固定的聲 照射角β尋找發射探頭10在試件100的表面上的對於其而言缺陷回波振幅最大的那個位置。隨後，由檢測者激活裝置1處的「跟蹤」功能。如果激活了此功能，那麼裝置1被 設置成在發射探頭10的位置發生變化的情況下藉助合適的幾何計算來調節發射探頭10處 的聲照射角β，以該聲照射角β甚至在發射探頭位置發生變化的情況下也能夠由超聲波 束中央地檢測到試件中的缺陷102。當發射探頭10在試件100的表面上移動時，藉助所提 及的跟蹤功能，檢出缺陷102在任何時候均由超聲波束中央地檢測到，以使得到的缺陷回 波可被認為是關於經設定的聲照射角β的最大缺陷回波。因此，可以直接通過改變發射探 頭10在試件100的表面上的位置來記錄由聲照射角β決定的最大缺陷回波並且由此根據 角度β來確定缺陷102的與角度相關的ERS值。最後，圖9a和圖9b示例性地示出了試件100的體積中的兩個不同缺陷102的ERS 值的與角度有關的變化。在此，圖9a示出了 ERS值僅隨著聲照射角β微弱變化的缺陷102。 因此，這顯然是超聲波反射率實際上與在其下缺陷由超聲波束碰到的那個角度無關的缺陷 102。因此可以認為，至少就發射探頭10的位置在上述檢測期間發生變化的那個空間方向 而言，該缺陷在很大程度上是各向同性的。與之相反，圖9b示出了 ERS值與聲照射角β極其有關的缺陷。即，缺陷102的超 聲波反射率與在其下缺陷102由超聲波束檢測到的那個角度極其相關。至少就為了檢測 ERS值的角度相關性而朝其移動發射探頭的那個空間方向而言，待分類的缺陷102可被認 為是極其各向異性的。該缺陷可以例如是裂縫，必須以較高的概率來登記該裂縫並且因此 應當以恰當的方式例如在由裝置1創建的B掃描、C掃描或扇形掃描中圖形地強調該裂縫， 如以上已說明的那樣。
權利要求
一種用於藉助超聲波來對試件(100)進行無損檢測的方法，包括以下方法步驟a.將聲照射角β下的定向超聲波脈衝輻照入所述試件(100)，其中電子地設定所述聲照射角β，b.記錄由輻照入所述試件(100)的所述超聲波脈衝導致的回波信號，c.從可與所述試件體積中的缺陷(102)相關聯的回波信號計算所述缺陷(102)的ERS值，其中自動地補償所述聲照射角β的所述電子設定對所述缺陷(102)的所述待確定的ERS值的影響。
2.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，a.將發射探頭(10)用於輻照入所述定向超聲波脈衝，所述發射探頭(10)的超聲波發 射器(12)包括多個可獨立控制的超聲波換能器(14)，以及b.為了電子地設定所述聲照射角β，個體地且相位準確地控制所述多個超聲波換能 器(14)，以便改變所述超聲波發射器(12)的輻射角α。
3.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，為了確定所述缺陷的所述ERS值，將所述回 波信號與多個所存儲的參考值相比較。
4.如權利要求3所述的方法，其特徵在於，所述所存儲的參考值是a.關於聲照射角β的AVG圖，和/或b.一個或多個在所述聲照射角β下測得的參考缺陷的回波。
5.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，為至少兩個不同的電子設定的聲照射角 β 1、β 2執行所述方法步驟a)到c)。
6.如權利要求3所述的方法，其特徵在於，所述多個所存儲的參考值與所述至少兩個 不同的聲照射角β 、β 2相關。
7.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，為了自動地補償所述聲照射角β的所述電 子設定對所述缺陷的所確定的ERS值的影響，自動地從所述超聲波發射器(12)的所述輻射 角α換算到結果得到的所述聲照射角β。
8.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，為了自動地補償所述聲照射角β的所述電 子設定對所述缺陷的所確定的ERS值的影響，自動地補償隨著所述聲照射角β的電子變動 而出現的虛擬的超聲波發射器大小D'的變化。
9.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，為了自動地補償所述聲照射角β的所述電 子設定對所述缺陷的所確定的ERS值的影響，自動地補償隨著所述聲照射角β的電子變動 而出現的所述超聲波束在所述試件中的焦點的位置的變化。
10.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，為了自動地補償所述聲照射角β的所述電 子設定對所述缺陷的所確定的ERS值的影響，自動地補償隨著所述聲照射角β的電子變動 而出現的輻照入所述試件的輸入耦合點X的位置的變化。
11.如權利要求1所述的方法，其特徵在於，在另一方法步驟中顯示所述試件(100)的 B掃描、C掃描、或者S掃描。
12.如權利要求11所述的方法，其特徵在於，在所述示出的掃描中，通過條紋來表示缺 陷(102)，所述條紋的沿著其縱軸的延伸與所述缺陷(102)的所述ERS值相關。
13.如權利要求11所述的方法，其特徵在於，在所述示出的掃描中顯示缺陷(102)的以 下其他特性中的至少一個特性a.所述缺陷回波的相對振幅，b.在其下所述缺陷(102)的所述ERS值最大的聲照射角β，c.相對缺陷大小，d.引起所述缺陷回波的聲路徑，以及e.關於所述缺陷(102)的所述ERS值對於不同的聲照射角β是否基本恆定的信息。
14.如權利要求13所述的方法，其特徵在於，將以下顯示參數中的至少一個顯示參數 用於對要被顯示的其他缺陷特性進行編碼a.色彩，b.所述條紋橫向於其縱軸的尺寸，c.所述條紋的所述縱軸相對於所述試件(100)的表面的角度，以及d.所述條紋的基本幾何形狀。
15.一種用於藉助超聲波來對試件(100)進行無損檢測的裝置(1)，包括a.具有超聲波發射器(12)的發射探頭(10)，所述超聲波發射器(12)被設置成將聲照 射角β下的定向超聲波脈衝輻照入所述試件(100)，b.超聲波接收器(40)，設置成記錄輻照入所述試件(100)的所述超聲波脈衝的回波信號，c.控制和分析單元(50)，設置成i.控制所述發射探頭(10)的所述超聲波發射器(12)，以便激勵所述超聲波發射器 (12)發射超聲波脈衝， .處理由所述超聲波接收器(40)記錄的所述回波信號，以及 iii.從可與所述試件(100)的體積中的缺陷(102)相關聯的回波信號確定所述缺陷 (102)的 ERS 值， 其特徵在於，d.所述超聲波發射器(12)包括多個可獨立控制的超聲波換能器(14)，以及e.所述控制和分析單元(50)被設置成i.個體地且相位準確地控制所述多個超聲波換能器(14)，以便能夠電子地調節所述 超聲波發射器(12)的輻射角α並且由此電子地調節輻照入所述試件(100)的所述聲照射 角β，以及 .自動地補償所述聲照射角β的所述電子調節對所述缺陷(102)的待確定的ERS值 的影響。
16.如權利要求15所述的裝置(1)，其特徵在於，所述控制和分析單元(50)還被設置 成通過比較所存儲的參考值來自動地確定缺陷(102)的所述ERS值。
17.如權利要求16所述的裝置，其特徵在於，所述所存儲的參考值是a.關於聲照射角β的AVG圖，和/或b.一個或多個在所述聲照射角β下測得的參考缺陷的回波。
18.如權利要求16所述的裝置(1)，其特徵在於，a.所述控制和分析單元(50)被設置成電子地設定至少兩個不同的聲照射角β，以及b.所述多個所存儲的參考值與所述至少兩個不同的聲照射角β相關。
19.如權利要求15所述的裝置(1)，其特徵在於，所述控制和分析單元(50)被設置成，為了自動地補償所述聲照射角β的所述電子設定對所述缺陷(102)的所述待確定的ERS 值的影響而自動地從所述超聲波發射器(12)的所述輻射角α換算到結果得到的所述聲照 射角β。
20.如權利要求15所述的裝置(1)，其特徵在於，所述控制和分析單元(50)被設置成， 為了自動地補償所述聲照射角β的所述電子設定對所述缺陷(102)的所述待確定的ERS 值的影響而自動地補償隨著所述聲照射角β的電子變動而出現的虛擬的超聲波發射器大 小D'的變化。
21.如權利要求15所述的裝置(1)，其特徵在於，所述控制和分析單元(50)被設置成， 為了自動地補償所述聲照射角β的所述電子設定對所述缺陷(102)的所述經確定的ERS 值的影響而自動地補償隨著所述聲照射角β的電子變動而出現的所述超聲波束在所述試 件中的焦點的位置的變化。
22.如權利要求15所述的裝置(1)，其特徵在於，所述控制和分析單元(50)被設置成， 為了自動地補償所述聲照射角β的所述電子設定對所述缺陷(102)的所述經確定的ERS 值的影響而自動地補償隨著所述聲照射角β的電子變動而出現的輻照入所述試件的輸入 耦合點X的位置的變化。
23.如權利要求15所述的裝置(1)，其特徵在於，a.所述探頭具有用於位置檢測的裝置，以及b.所述控制和分析單元(50)被設置成在與所述裝置(1)相關聯的顯示裝置(52)上顯 示所述試件(102)的B掃描、C掃描或者S掃描。
24.如權利要求23所述的裝置(1)，其特徵在於，在所述示出的掃描中，通過條紋來表 示缺陷(102)，所述條紋的沿著其縱軸的延伸與所述缺陷(102)的所述ERS值相關。
25.如權利要求23所述的裝置(1)，其特徵在於，在所述示出的掃描中顯示缺陷(102) 的以下其他特性中的至少一個特性a.所述缺陷回波的相對振幅，b.在其下所述缺陷(102)的所述ERS值最大的聲照射角β，c.相對缺陷大小，d.引起所述缺陷回波的支線，以及e.關於所述缺陷(102)的所述ERS值對於不同的聲照射角β是否基本恆定的信息。
26.如權利要求25所述的裝置(1)，其特徵在於，將以下顯示參數中的至少一個顯示參 數用於對要被顯示的其他缺陷特性進行編碼a.色彩，b.所述條紋橫向於其縱軸的尺寸，c.所述條紋的所述縱軸相對於所述試件的表面的角度，d.所述條紋的基本幾何形狀。
全文摘要
本發明的主題內容是一種用於藉助超聲波來對試件(100)進行無損檢測的方法，包括以下方法步驟a.將聲照射角β下的定向超聲波脈衝輻照入試件(100)，其中電子地設定該聲照射角β，b.記錄由輻照入試件(100)的超聲波脈衝導致的回波信號，c.從可與試件體積中的缺陷(102)相關聯的回波信號計算該缺陷(102)的ERS值。此外，本發明還涉及一種用於執行該方法的裝置。
文檔編號G01N29/30GK101952716SQ200880126453
公開日2011年1月19日 申請日期2008年12月8日 優先權日2008年1月4日
發明者W-D·克萊納特, Y·奧伯多弗 申請人:通用電氣傳感與檢測科技有限公司