一種清洗裝置製造方法
2023-05-04 15:11:36
一種清洗裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種清洗裝置，屬於清洗【技術領域】，其可解決現有的清洗基板的技術存在的或投入成本較高或清洗效果不理想的問題。本實用新型的清洗裝置包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用於對基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進行抽吸，所述清洗裝置還包括至少一個用於形成渦旋流體的筒狀元件，其兩端均設開口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。本實用新型可用於對基板進行清洗。
【專利說明】一種清洗裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型屬於基板清洗【技術領域】，具體涉及一種清洗裝置。
【背景技術】
[0002]在薄膜電晶體液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid CrystalDisplay, TFT-LCD)生產過程中，玻璃基板表面通常會殘留很多顆粒(如玻璃碎屑、灰塵、微小有機物或纖維等)，如果不及時有效地清除這些顆粒，將會產生如金屬層之間短路、大面積脫落等不良現象，從而影響液晶顯示器的各種性能。在TFT-LCD生產過程中，清洗工藝是重複次數最多的工藝，直接決定了 TFT的良品率。
[0003]當前，對於玻璃基板的清洗，針對不同的顆粒採用不同的清洗技術。一般地，等離子體(Plasma)清洗用於清除玻璃基板上的有機物殘留；毛刷噴淋(brush+shower)用於清除玻璃基板上粒徑為10微米以上的顆粒；壓力噴射用於清除玻璃基板上粒徑為1-10微米的顆粒；雙流體噴射用於清除玻璃基板上粒徑為1-5微米的顆粒；超聲波清洗技術則可以用於清除玻璃基板表面上的不同粒徑的顆粒。
[0004]超聲波清洗技術是在清洗液中使用超聲波對玻璃基板進行清洗。相對於其他清洗裝置的物理衝擊的清洗原理，超聲波清洗技術利用了空蝕作用，空蝕作用是指利用清洗液中的微型氣泡的內爆裂進行玻璃基板表面的清洗。其中微型氣泡的內爆裂是由於清洗液中的液體的壓力變化導致的，當液體處於負壓狀態時，液體的沸點會降低，從而產生許多小氣泡；當液體處於正壓狀態時，小氣泡就會發生猛烈的內爆裂，因此空蝕現象使清洗液產生了攪拌和洗滌作用，這樣可以較好的清洗玻璃基板的表面。
[0005]發明人發現現有技術中至少存在如下問題:而目前的玻璃基板的清洗裝置存在以下的不足:
[0006]1、當採用物理衝擊清洗時，針對不同粒徑的顆粒採用不同的清洗機臺，造成了機臺的高成本投入，並在各種機臺的轉換過程中會浪費較多的工時且易引入新的顆粒。
[0007]2、當採用物理衝擊清洗時，對於尺寸較小並頑固附著的顆粒的清洗效果並不明顯，且對清洗需要使用的蒸餾水和添加溶劑消耗較大。
[0008]3、採用超聲波對玻璃基板表面進行清洗時，超聲波頻率發生器的振子發出的超聲波容易在清洗液中產生駐波等相干效應而影響超聲波對玻璃基板表面的清洗。
[0009]因此，有必要提供一種高效、低成本的玻璃基板的清洗裝置以解決現有技術中存在的問題。
實用新型內容
[0010]本實用新型所要解決的技術問題包括，針對現有的清洗基板的技術存在的或投入成本較高或清洗效果不理想的問題，提供一種效率高且成本低的清洗裝置。
[0011]解決本實用新型技術問題所採用的技術方案是一種清洗裝置，包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用於對基板待清洗表面外清洗液體或氣體進行抽吸，還包括至少一個用於保持真空度並形成渦旋氣流的筒狀元件，其兩端均設開口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。
[0012]優選的是，所述筒狀元件為圓錐臺形，其半徑較小的一端朝向所述抽吸裝置，半徑較大的一端朝向基板。
[0013]進一步優選的是，所述筒狀元件包括第一筒狀元件和第二筒狀元件，第二筒狀元件設於第一筒狀元件內。
[0014]更進一步優選的是，所述第二筒狀元件的外壁設有至少一個導流槽。
[0015]優選的是，所述清洗裝置還包括支架，其與所述筒狀元件連接，所述支架用於調節所述筒狀元件與基板之間的距離。
[0016]優選的是，所述清洗裝置還包括排出單元，其用於將所述抽吸裝置旋轉吸附的清洗液體和/或空氣排出。
[0017]優選的是，所述抽吸裝置包括渦輪。
[0018]進一步優選的是，所述抽吸裝置還包括驅動單元。
[0019]更進一步優選的是,所述驅動單元包括電動機。
[0020]再進一步優選的是,所述電動機為調速電動機。
[0021]本實用新型的清洗裝置的抽吸裝置對基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進行連續的抽吸，配合使用圓錐臺形狀的筒狀元件形成強力渦旋流體，渦旋流體對基板表面具有強大的吸附力，從而清除掉附著在玻璃基板表面上的顆粒或其他雜質，從而能夠產生較好的清洗效果。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0022]圖1為本實用新型的實施例1的清洗裝置的結構示意圖；
[0023]圖2為本實用新型的實施例1第一筒狀元件和第二筒狀元件的透視結構示意圖；
[0024]其中附圖標記為:1、回收裝置；2、玻璃基板；3、清洗液體；4、筒狀元件；41、第一筒狀元件；42、第二筒狀元件；421、導流槽；5、抽吸裝置；6、排出單元；7、支撐柱。
【具體實施方式】
[0025]為使本領域技術人員更清楚地理解本實用新型的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細描述。
[0026]實施例1:
[0027]本實施例提供一種清洗裝置，可對液晶顯示器生產過程中的玻璃基板進行清洗，本實施例以玻璃基板處於無清洗液體的環境中對玻璃基板進行清洗為例進行說明，顯然，本實施例的清洗裝置也可以對其他的基板進行清洗或者乾燥等。
[0028]如圖1和圖2所示，清洗裝置包括抽吸裝置5，抽吸裝置5用於對玻璃基板2待清洗表面外的區域抽真空，玻璃基板2由支撐柱7進行支撐。清洗裝置還包括至少一個用於保持真空度並形成渦旋氣流的筒狀元件4，所述筒狀元件4的兩端均設開口，一端朝向抽吸裝置5，即抽吸裝置5設在筒狀元件4的上部，另一端朝向玻璃基板2。
[0029]本實施例的清洗裝置的抽吸裝置5對玻璃基板2待清洗表面外的區域進行連續地抽真空，配合使用筒狀元件4保持真空度，形成強力渦旋氣流，渦旋氣流對玻璃基板2表面具有強大的吸附力，從而清除掉附著在玻璃基板2表面上的顆粒或其他雜質，具有較好的清洗效果。另外，渦旋氣流對玻璃基板2還具有乾燥的作用。
[0030]抽吸裝置5可以為真空泵以及渦輪等。優選的，抽吸裝置5包括渦輪等，這樣便於製作抽吸裝置5。
[0031]進一步優選的，抽吸裝置5還包括驅動單元(附圖中未示出)，用於驅動渦輪，更進一步優選的，驅動單元包括電動機，再進一步優選的，電動機為調速電動機。使用調速電動機更容易實現對抽吸裝置5的轉速的調節，也即更容易實現對真空度和渦旋氣流的強度的調節。
[0032]筒狀元件4的形狀可以為圓筒狀、稜錐臺狀或圓錐臺狀等。優選的，在本實施例中筒狀元件4優選為圓錐臺狀，其半徑較小的一端的上部設有抽吸裝置5，半徑較大的一端的下部靠近玻璃基板2。這樣設置筒狀元件4有利於在筒狀元件4內形成真空，也有利於保持
真空度。
[0033]進一步優選的，如圖2所示，筒狀元件4包括第一筒狀元件41和第二筒狀元件42，第二筒狀元件42設於第一筒狀元件41內，且第二筒狀元件42的半徑較小的一端的上部朝向抽吸裝置5，半徑較大的一端的下部靠近玻璃基板2。第二筒狀元件42可通過條狀物與第一筒狀元件41膠結在一起，也可通過支架結構與和抽吸裝置5連接在一起。這樣，第一筒狀元件41和第二筒狀元件42就形成了雙筒狀結構，更有利於真空度的保持和渦旋氣流的形成，而且通過選擇第一筒狀元件41和第二筒狀元件42的大小以形成不同的配合，進而實現對真空度和渦旋氣流的強度的調節。
[0034]更進一步優選的，第二筒狀元件42的外壁設有至少一個導流槽421，設置多個導流槽421更有利於渦旋氣流的形成。
[0035]優選的，本實施例的清洗裝置還包括支架(附圖中未示出)，其與第一筒狀元件41連接，這樣可以調節第一筒狀元件41與玻璃基板2之間的距離，從而實現對真空度和渦旋氣流的強度的調節。
[0036]優選的，本實施例的清洗裝置還包括排出單元6，排出單元6可由軟管等組成，抽吸裝置5旋轉吸附的氣體經由排除單元6排放到回收裝置I中。
[0037]需要說明的是，以上是以對玻璃基板2的表面外的區域持續抽真空為例說明如何清洗玻璃基板2的。顯然，當玻璃基板2表面上噴淋有清洗液體3時，本實施例中的清洗裝置也可以在筒狀元件4內形成渦旋氣流體，從而對玻璃基板2的表面形成強力吸附，清除掉附著在玻璃基板2表面上的顆粒或其他雜質，或者當玻璃基板2處於清洗液體3中時，清洗裝置亦可以在筒狀元件4內形成渦旋液流體，渦旋液流體對玻璃基板2的表面形成吸附以及攪拌，從而達到清洗玻璃基板2的目的。
[0038]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本實用新型的原理而採用的示例性實施方式，然而本實用新型並不局限於此。對於本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本實用新型的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本實用新型的保護範圍。
【權利要求】
1.一種清洗裝置，包括抽吸裝置，所述抽吸裝置用於對基板待清洗表面外的清洗液體或氣體進行抽吸，其特徵在於， 所述清洗裝置還包括至少一個用於形成渦旋流體的筒狀元件，所述筒狀元件的兩端均設開口，所述筒狀元件的一端朝向所述抽吸裝置，另一端朝向基板。
2.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特徵在於，所述筒狀元件為圓錐臺形，其半徑較小的一端朝向所述抽吸裝置，半徑較大的一端靠近基板。
3.根據權利要求2所述的清洗裝置，其特徵在於，所述筒狀元件包括第一筒狀元件和第二筒狀元件，第二筒狀元件設於第一筒狀元件內。
4.根據權利要求3所述的清洗裝置，其特徵在於，所述第二筒狀元件的外壁設有至少一個導流槽。
5.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特徵在於，所述清洗裝置還包括支架，其與所述筒狀元件連接，所述支架用於調節所述筒狀元件與基板之間的距離。
6.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特徵在於，所述清洗裝置還包括排出單元，其用於將所述抽吸裝置旋轉吸附的清洗液體和/或空氣排出。
7.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特徵在於，所述抽吸裝置包括渦輪。
8.根據權利要求7所述的清洗裝置，其特徵在於，所述抽吸裝置還包括用於驅動渦輪的驅動單元。
9.根據權利要求8所述的清洗裝置，其特徵在於，所述驅動單元包括電動機。
10.根據權利要求9所述的清洗裝置，其特徵在於，所述電動機為調速電動機。
【文檔編號】B08B11/04GK203635584SQ201320599735
【公開日】2014年6月11日 申請日期:2013年9月26日 優先權日:2013年9月26日
【發明者】劉利萍, 劉俊豪, 孔益, 葉超前, 管禮志 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司