一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝的製作方法

2023-05-04 14:28:51

專利名稱：一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝的製作方法
技術領域：
本發明涉及真空鍍膜工藝技術領域，特指一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工 藝。
背景技術：
現有技術中，為使透明塑膠製品具有更好的視覺效果，增加透明塑膠製品的表面 的應用範圍，提高透明塑膠製品的表面的附加價值，在透明塑膠製品的表面鍍覆一層金屬 鍍膜，如公開號為「CN101730409」、專利名稱為「殼體及製造方法」的中國專利，以及公開號 為「101896043A 」、專利名稱為「塑料殼體及其製作方法」所示，其工藝比較複雜，相關工藝 的實施有較高的難度，對設備和工藝條件要求較高，實施成本較高，所形成的鍍膜的視覺效 果比較普通。

發明內容
本發明的目的在於針對現有技術的不足提供一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜 工藝，其工藝簡單，對設備和工藝條件要求低，易於實施，成本較低，使透明塑膠製品具有類 似水晶和光學玻璃的視覺效果，提高產品的附加值。為實現上述目的，本發明是通過以下技術方案實現的
一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝，採用蒸髮式鍍膜機，設置蒸髮式鍍膜機的真 空度為 5 X ICT2Pa 10 X ICT5Pa ；
選用二氧化矽為靶材，通過蒸髮式鍍膜機的電子槍轟擊二氧化矽，蒸髮式鍍膜機的電 子槍的電流為3 18A;
對蒸髮式鍍膜機內的透明塑膠製品進行真空鍍膜，在透明塑膠製品的表面鍍上一層透 明的二氧化矽增透膜。具體地，在鍍膜過程中，使用膜厚儀測量沉積在透明塑膠製品表面的二氧化矽增 透膜的厚度；
在二氧化矽增透膜的厚度達到設定值後停機，控制沉積在透明塑膠製品表面的二氧化 矽增透膜的厚度而在透明塑膠製品的表面形成具有相對應的折射光效果的二氧化矽增透 膜。二氧化矽增透膜的厚度為膜厚為195-390nm。二氧化矽增透膜的厚度為292nm。蒸髮式鍍膜機的真空度為5 X ICT2Pa 3 X 10_4Pa。蒸髮式鍍膜機的真空度為1 X ICT5Pa 10 X 10_5Pa。本發明的有益效果本發明選用二氧化矽為靶材，通過蒸髮式鍍膜機的電子槍轟 擊二氧化矽，在透明塑膠製品的表面鍍上一層透明的二氧化矽增透膜，本發明工藝簡單，對 設備和工藝條件要求低，易於實施，成本較低，使透明塑膠製品具有類似水晶和光學玻璃的 視覺效果，使透明塑膠製品具有更高的觀賞價值，在成本提升不大的前提下大幅度提高產品的附加值。
具體實施例方式實施例一。透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝如下。採用蒸髮式鍍膜機，設置蒸髮式鍍膜機的真空度為5X10_2Pa 10X10_5Pa ；
選用二氧化矽為靶材，通過蒸髮式鍍膜機的電子槍轟擊二氧化矽，蒸髮式鍍膜機的電 子槍的電流為3 18A;
對蒸髮式鍍膜機內的透明塑膠製品進行真空鍍膜，在透明塑膠製品的表面鍍上一層透 明的二氧化矽增透膜；
形成的二氧化矽增透膜的厚度為膜厚為195-390nm。於較佳實施方式中，形成在透明塑膠製品的表面的二氧化矽增透膜的厚度為 292nm。本發明是使用離子蒸發鍍膜技術，針對透明塑膠製品進行鍍膜，而在透明塑膠製 品的表面鍍一層透明的二氧化矽增透膜，從而使透明塑膠製品具有類似水晶和光學玻璃的 視覺效果，使透明塑膠製品具有更高的觀賞價值，在成本提升不大的前提下大幅度提高產 品的附加值。形成在透明塑膠製品的表面的二氧化矽增透膜的厚度達到膜厚要求後即可按照 標準停機程序停機，從而控制不同的膜厚，就可以做出各種不同的折射光的效果。本發明工藝簡單，對設備和工藝條件要求低，易於實施，成本較低，使透明塑膠製 品具有類似水晶和光學玻璃的視覺效果，使透明塑膠製品具有更高的觀賞價值，在成本提 升不大的前提下大幅度提高產品的附加值。實施例二。透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝包括以下步驟。採用蒸髮式鍍膜機，設置蒸髮式鍍膜機的真空度為5X10_2Pa 10X10_5Pa ；
選用二氧化矽為靶材，通過蒸髮式鍍膜機的電子槍轟擊二氧化矽，蒸髮式鍍膜機的電 子槍的電流為3 18A;
對蒸髮式鍍膜機內的透明塑膠製品進行真空鍍膜，在透明塑膠製品的表面鍍上一層透 明的二氧化矽增透膜；
在鍍膜過程中，使用膜厚儀測量沉積在透明塑膠製品表面的二氧化矽增透膜的厚度； 在二氧化矽增透膜的厚度達到設定值後停機，控制沉積在透明塑膠製品表面的二氧化 矽增透膜的厚度而在透明塑膠製品的表面形成具有相對應的折射光效果的二氧化矽增透 膜；
形成的二氧化矽增透膜的厚度為膜厚為195-390nm。於較佳實施方式中，形成在透明塑膠製品的表面的二氧化矽增透膜的厚度為 292nm。實施例三。透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝包括以下步驟。採用蒸髮式鍍膜機，設置蒸髮式鍍膜機的真空度為5X10_2Pa 3X10_4Pa ；選用二氧化矽為靶材，通過蒸髮式鍍膜機的電子槍轟擊二氧化矽，蒸髮式鍍膜機的電 子槍的電流為3 18A;
對蒸髮式鍍膜機內的透明塑膠製品進行真空鍍膜，在透明塑膠製品的表面鍍上一層透 明的二氧化矽增透膜；
在鍍膜過程中，使用膜厚儀測量沉積在透明塑膠製品表面的二氧化矽增透膜的厚度； 在二氧化矽增透膜的厚度達到設定值後停機，控制沉積在透明塑膠製品表面的二氧化 矽增透膜的厚度而在透明塑膠製品的表面形成具有相對應的折射光效果的二氧化矽增透 膜；
形成的二氧化矽增透膜的厚度為膜厚為195-390nm。於較佳實施方式中，形成在透明塑膠製品的表面的二氧化矽增透膜的厚度為 292nm。實施例四。透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝包括以下步驟。採用蒸髮式鍍膜機，設置蒸髮式鍍膜機的真空度為lX10_5Pa 10X10_5Pa ；
選用二氧化矽為靶材，通過蒸髮式鍍膜機的電子槍轟擊二氧化矽，蒸髮式鍍膜機的電 子槍的電流為3 18A;
對蒸髮式鍍膜機內的透明塑膠製品進行真空鍍膜，在透明塑膠製品的表面鍍上一層透 明的二氧化矽增透膜；
在鍍膜過程中，使用膜厚儀測量沉積在透明塑膠製品表面的二氧化矽增透膜的厚度； 在二氧化矽增透膜的厚度達到設定值後停機，控制沉積在透明塑膠製品表面的二氧化 矽增透膜的厚度而在透明塑膠製品的表面形成具有相對應的折射光效果的二氧化矽增透 膜；
形成的二氧化矽增透膜的厚度為膜厚為195-390nm。於較佳實施方式中，形成在透明塑膠製品的表面的二氧化矽增透膜的厚度為 292nm。以上內容僅為本發明的較佳實施例，對於本領域的普通技術人員，依據本發明的 思想，在具體實施方式
及應用範圍上均會有改變之處，本說明書內容不應理解為對本發明 的限制。
權利要求
1.一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝，其特徵在於採用蒸髮式鍍膜機，設置蒸髮式鍍膜機的真空度為5 X IO-2Pa IOX IO-5Pa ；選用二氧化矽為靶材，通過蒸髮式鍍膜機的電子槍轟擊二氧化矽，蒸髮式鍍膜機的電 子槍的電流為3 18A;對蒸髮式鍍膜機內的透明塑膠製品進行真空鍍膜，在透明塑膠製品的表面鍍上一層透 明的二氧化矽增透膜。
2.根據權利要求1所述的一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝，其特徵在於在鍍 膜過程中，使用膜厚儀測量沉積在透明塑膠製品表面的二氧化矽增透膜的厚度；在二氧化矽增透膜的厚度達到設定值後停機，控制沉積在透明塑膠製品表面的二氧化 矽增透膜的厚度而在透明塑膠製品的表面形成具有相對應的折射光效果的二氧化矽增透 膜。
3.根據權利要求2所述的一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝，其特徵在於二氧 化矽增透膜的厚度為膜厚為195-390nm。
4.根據權利要求2所述的一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝，其特徵在於二氧 化矽增透膜的厚度為292nm。
5.根據權利要求1至4之一所述的一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝，其特徵在 於蒸髮式鍍膜機的真空度為5X 10_2Pa 3X 10_4Pa。
6.根據權利要求1至4之一所述的一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝，其特徵在 於蒸髮式鍍膜機的真空度為lX10-5Pa 10X10-5Pa。
全文摘要
本發明公開了一種透明塑膠製品的表面真空鍍膜工藝，本發明選用二氧化矽為靶材，通過蒸髮式鍍膜機的電子槍轟擊二氧化矽，在透明塑膠製品的表面鍍上一層透明的二氧化矽增透膜，本發明工藝簡單，對設備和工藝條件要求低，易於實施，成本較低，使透明塑膠製品具有類似水晶和光學玻璃的視覺效果，使透明塑膠製品具有更高的觀賞價值，在成本提升不大的前提下大幅度提高產品的附加值。
文檔編號C23C14/10GK102002674SQ20101056629
公開日2011年4月6日 申請日期2010年11月30日 優先權日2010年11月30日
發明者黃偉雄 申請人:東莞星暉真空鍍膜塑膠製品有限公司