一種曝光能量均勻性測試裝置的製作方法
2023-05-20 08:00:26 2
專利名稱：一種曝光能量均勻性測試裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及PCB板曝光技術，具體涉及的是一種曝光能量均勻性測試裝置。
背景技術：
PCB板製作過程中，曝光是很重要的一個環節，其主要目的是經過光源作用將原始 底片上的圖像轉移到感光底板上。由於曝光是將紫外光透過菲林底片使感光抗蝕劑材料發 生光聚合反應的過程，因此要求曝光能量必須均勻，否則在PCB板上將會產生開路、短路、 滲鍍以及線寬、線隙不穩定等問題，嚴重則會影響產品的品質。在現有的曝光技術中，為了 確保曝光能量均勻，在曝光前常用UV能量計進行檢測，但是UV能量計價格昂貴，導致生產 成本高。
發明內容為此，本實用新型的目的在於提供一種成本低廉、使用方便的用於測量曝光能量 均勻性的測試裝置。為實現上述目的，本實用新型主要採用以下技術方案一種曝光能量均勻性測試裝置，包括曝光碟(1)，所述曝光碟(1)上均勻設置有多 個基板(2)，所述基板(2)的兩面設置有曝光尺(3)。其中所述基板(2)為覆銅板，該覆銅板兩面粘貼有幹膜，通過該幹膜粘貼有曝光 尺⑶。本實用新型通過將曝光尺設置在基板兩面的覆銅板上，並將該覆銅板均勻放置在 曝光碟上。在PCB板曝光之前對曝光機的曝光均勻性進行測試，以控制曝光均勻度，達到曝 光均勻的目的。與現有技術相比，本實用新型具有成本低，製作簡單，操作方便、快捷，可重 複利用等優點。
圖1為本實用新型的工作狀態示意圖。圖2為本實用新型的結構示意圖。圖中標識說明曝光碟1、基板2、曝光尺3。
具體實施方式
本實用新型通過PCB板曝光之前對曝光機的曝光均勻性，通過均勻位於曝光碟上 的基板及曝光尺進行測試，以控制曝光機的曝光均勻度，從而達到曝光均勻的目的。為闡述本實用新型的思想及目的，下面將結合附圖和具體實施例對本實用新型做 進一步的說明。請參見圖1、圖2所示，本實用新型提供的是一種曝光能量均勻性測試裝置，該裝 置主要用於在對PCB板曝光之前，先對曝光機的曝光均勻性進行測試，以避免因曝光機曝
3光不均勻而導致PCB板產生開路、短路、滲鍍以及線寬、線隙不穩定等品質問題。其中該裝置主要包括有曝光碟1，所述曝光碟1上均勻設置有多個基板2，所述基 板2為覆銅板，該覆銅板兩面設置有幹膜，而曝光尺3則通過上述幹膜粘貼在覆銅板上。所 述的曝光尺是印製電路板生產過程中，對液態感光線路油墨、液態感光防焊油墨有一個較 為準確曝光條件控制的必備工具。基板為雙面貼有幹膜的FR-4覆銅板，其外形尺寸為160mmX 200mm,板厚為 1. Omm 1. 6mm ο本實用新型的具體操作方法為首先在曝光碟的中心區域和四角位置上各放一個 基板；啟動曝光機，設定曝光能量，按照生產工藝參數進行曝光；曝光後靜止15min以上，將 經過曝光的基板顯影，精確讀出每個基板上顯影出的格數；然後根據公式能量偏差值= (格數最高值_格數最低值)/格數最高值X 100 %，計算出曝光能量偏差值若能量偏差值 <20%，表明達到曝光均勻性要求，否則就是未達到要求，還需進行調整。以上是對本實用新型所提供的一種曝光能量均勻性測試裝置進行了詳細的介紹， 本文中應用了具體個例對本實用新型的結構原理及實施方式進行了闡述，以上實施例只是 用於幫助理解本實用新型的方法及其核心思想；同時，對於本領域的一般技術人員，依據本 實用新型的思想，在具體實施方式
及應用範圍上均會有改變之處，綜上所述，本說明書內容 不應理解為對本實用新型的限制。
權利要求一種曝光能量均勻性測試裝置，其特徵在於包括曝光碟(1)，所述曝光碟(1)上均勻設置有多個基板(2)，所述基板(2)的兩面設置有曝光尺(3)。
2.根據權利要求1所述的曝光能量均勻性測試裝置，其特徵在所述基板(2)為覆銅板， 該覆銅板兩面粘貼有幹膜，通過該幹膜粘貼有曝光尺(3)。
專利摘要本實用新型公開了一種曝光能量均勻性測試裝置，包括曝光碟，所述曝光碟上均勻設置有多個基板，所述基板的兩面設置有曝光尺。本實用新型通過將曝光尺設置在基板兩面的覆銅板上，並將該覆銅板均勻放置在曝光碟上。在PCB板曝光之前對曝光機的曝光均勻性進行測試，以控制曝光均勻度，達到曝光均勻的目的。與現有技術相比，本實用新型具有成本低，製作簡單，操作方便、快捷，可重複利用等優點。
文檔編號G03F7/20GK201749292SQ20102025873
公開日2011年2月16日 申請日期2010年7月14日 優先權日2010年7月14日
發明者何春 申請人:深圳市深聯電路有限公司