OLED顯示器的封裝方法及OLED顯示器與流程

2023-05-20 22:12:53 1

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種OLED顯示器的封裝方法及OLED顯示器。

背景技術：

OLED顯示器具有亮度高、響應快、能耗低、可彎曲等一列優點，被廣泛認可為下一代顯示技術的焦點。OLED與TFT-LCD相比，最大的優勢就是可製備大尺寸、超薄、柔性、透明及雙面顯示器件。

目前OLED普遍面臨的一個問題是器件壽命不長，主要原因包括兩個方面：一是有機薄膜對水氣和氧氣很敏感，容易因水氧發生老化變性，導致器件亮度和壽命出現明顯衰減；二是為了減小電子的注入勢壘，陰極通常採用是化學性質較為活潑的低功函數金屬，這類金屬很容易被氧化，導致器件的壽命降低。

技術實現要素：

本發明提供一種OLED顯示器的封裝方法及OLED顯示器，能夠解決現有技術存在的OLED器件容易被水和氧損壞而導致壽命降低的問題。

為解決上述技術問題，本發明採用的一個技術方案是：提供一種一種OLED顯示器的封裝方法，該方法包括以下步驟：在第一基板的OLED層上形成銅膜層，其中，所述第一基板包括陣列基板和形成在陣列基板上的OLED層；在第二基板的外緣形成框膠；在所述第二基板的所述框膠內的區域形成乾燥劑層；在充有氫氣的真空機臺內，將所述第一基板形成有銅膜層的一側和所述第二基板形成有乾燥劑層的一側相對設置，並將所述第一基板和所述第二基板進行壓合，將所述框膠進行固化，以將氫氣封存在所述銅膜層和所述第二基板之間。

其中，在第一基板的OLED層上形成銅膜層的步驟中，所述銅膜層通過蒸鍍的方式形成在所述OLED層上。

其中，在所述第二基板的所述框膠內的區域形成乾燥劑層的步驟中，所述乾燥劑層為液態乾燥劑，所述乾燥劑通過塗布的方式形成在所述第二基板上。

其中，在所述第二基板的所述框膠內的區域形成乾燥劑層的步驟中，所述乾燥劑層為固態乾燥劑，所述固態乾燥劑通過貼合的方式形成在所述第二基板上。

其中，在充有氫氣的真空機臺內，將所述第一基板形成有銅膜層的一側和所述第二基板形成有乾燥劑層的一側相對設置，並將所述第一基板和所述第二基板進行壓合的步驟中，所述真空機臺內的氣體壓強為0.1-10pa。

其中，在所述第二基板的所述框膠內的區域形成乾燥劑層的步驟中，所述乾燥劑層形成有預留空間；將所述第一基板和所述第二基板壓合後，所述氫氣填充在所述預留空間內；所述乾燥劑層與所述銅膜層接觸。

為解決上述技術問題，本發明採用的另一個技術方案是：提供一種OLED顯示器，該OLED顯示器包括第一基板、銅膜層、乾燥劑層和第二基板；第一基板包括陣列基板和OLED層，所述OLED層設置在所述陣列基板上；銅膜層形成在所述OLED層上；乾燥劑層設置在所述銅膜層上；第二基板設置在所述乾燥劑層上，所述第二基板和所述第一基板的外緣通過框膠進行密封連接；在所述銅膜層和所述第二基板之間填充有氫氣。

其中，所述乾燥劑層為液態乾燥劑或者固態乾燥劑。

其中，所述乾燥劑層設有預留空間，所述氫氣填充在所述預留空間內；所述乾燥劑層與所述銅膜層接觸。

其中，所述乾燥劑層的乾燥劑均勻分布，所述預留空間均勻分布在所述乾燥劑層中。

本發明的有益效果是：區別於現有技術的情況，本發明通過在第一基板OLED層上形成銅膜層，並在第二基板上形成乾燥劑層，並在充有氫氣的真空機臺內將銅膜層和乾燥基層相對設置後將第一基板和第二基板進行壓合，從而將氫氣封存在銅膜層和第二基板之間，當有O2浸入到OLED顯示器內部時，銅膜層的Cu會和O2發生反應生成CuO，從而將O2除去，當OLED顯示器點亮發熱時，CuO被H2還原成Cu，同時生成的H2O被乾燥劑吸收，從而能阻止水和氧對OLED層的損壞，因而能大大提高OLED顯示器的封裝效果，有效延長了OLED顯示器的使用壽命。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發明第一實施例提供的一種OLED顯示器的封裝方法的流程示意圖；

圖2是本發明第二實施例提供的一種OLED顯示器的封裝方法的流程示意圖；

圖3是本發明第二實施例中步驟S201後的結構示意圖；

圖4是本發明第二實施例中步驟S202後的結構示意圖；

圖5是本發明第二實施例中步驟S203後的結構示意圖；

圖6是本發明第二實施例最終形成的OLED顯示器的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬於本發明保護的範圍。

請參閱圖1，圖1是本發明第一實施例提供的一種OLED顯示器的封裝方法的流程示意圖。

本實施例的OLED顯示器的封裝方法包括步驟：

S101、在第一基板的OLED層上形成銅膜層，其中，第一基板包括陣列基板和形成在陣列基板上的OLED層。

具體地，陣列基板為TFT(Thin Film Transistor，薄膜電晶體)陣列基板，OLED層具體包括正極子層、空穴傳輸子層、發光子層、電子傳輸子層以及金屬陰極子層，其中，正極子層與電源正極電連接，金屬陰極子層與電源負極電連接。當電源供應至適當電壓時，正極子層的空穴與陰極子層的電荷就會在發光子層中結合，產生光亮，依發光子層的成份不同產生紅、綠以及藍(RGB)三原色，構成基本色彩，以使得OLED層發出可見光。其中，金屬陰極子層由較為活潑的金屬形成，例如Ca/Al或Mg/Ag等。銅膜層形成在金屬陰極子層上。

S102、在第二基板的外緣形成框膠。

具體地，該第二基板作為封裝基板以對第一基板進行封裝。框膠可以是UV固化膠。UV固化膠粘劑具有固化快、耗能少、無溶劑汙染等優點，其固化原理是：固化膠中的光引發劑在適當波長和光強的紫外光照射下，迅速分解成自由基或陽離子，進而引發不飽和鍵聚合，使材料固化。

S103、在第二基板的框膠內的區域形成乾燥劑層。

S104、在充有氫氣的真空機臺內，將第一基板形成有銅膜層的一側和第二基板形成有乾燥劑層的一側相對設置，並將第一基板和第二基板進行壓合，並對框膠進行固化，以將氫氣封存在銅膜層和第二基板之間。

具體地，當有O2浸入到OLED顯示器內部時，銅膜層的Cu會和O2發生反應生成CuO，從而將O2除去，當OLED顯示器點亮發熱時，CuO被氫氣還原呈Cu，同時生成H2O，而由於銅膜層和乾燥劑層相對設置，因而生成的H2O可以被乾燥劑層的乾燥劑吸收，從而能阻止水和氧對OLED層的損壞，並能使得銅膜層的Cu可以重複使用，延長了OLED顯示器的使用壽命。

相關的化學反應方程式如下：

區別於現有技術，本發明通過在第一基板OLED層上形成銅膜層，並在第二基板上形成乾燥劑層，並在充有氫氣的真空機臺內將銅膜層和乾燥基層相對設置後將第一基板和第二基板進行壓合，從而將氫氣封存在第一基板和第二基板之間，當有O2浸入到OLED顯示器內部時，銅膜層的Cu會和O2發生反應生成CuO，從而將O2除去，當OLED顯示器點亮發熱時，CuO被H2還原成Cu，同時生成的H2O被乾燥劑吸收，從而能阻止水和氧對OLED層的損壞，因而能大大提高OLED顯示器的封裝效果，有效延長了OLED顯示器的使用壽命。

請參閱圖2，圖2是本發明第二實施例提供的一種OLED顯示器的封裝方法的流程示意圖。

本實施例提供的OLED顯示器的封裝方法包括步驟：

S201、在第一基板的OLED層上通過蒸鍍的方式形成銅膜層，其中，第一基板包括陣列基板和形成在陣列基板上的OLED層。

如圖3所示，圖3是本發明第二實施例中步驟S201後的結構示意圖。其中，第一基板10包括陣列基板11和形成在陣列基板11上的OLED層12。銅膜層20通過蒸鍍的方式完全覆蓋在OLED層12上。

銅通過真空蒸發鍍膜法覆蓋在OLED層12上形成銅膜層20，具體地，真空蒸發鍍膜法為在真空環境中，將材料加熱並鍍到基片上成為真空蒸鍍，其是將待成膜的物質置於真空中進行蒸發或生化，使之在工件或基片表面析出的過程。該方法具有操作簡單、製成的膜純度高、質量好、厚度可準確控制、成膜速率快、效率高、薄膜生長激勵比較單純等優點。

S202、在第二基板的外緣形成UV框膠。

如圖4所示，圖4是本發明第二實施例中步驟S202後的結構示意圖。其中，UV框膠40形成在第二基板30的外緣，以用於後序將第二基板30與第一基板10之間進行連接密封。

S203、在第二基板的框膠內的區域塗布液體乾燥劑以形成乾燥劑層，且在乾燥劑層形成用於填充氫氣的預留空間。

具體地，請參閱圖5，圖5是本發明第二實施例中步驟S203後的結構示意圖。本實施例中的乾燥劑層50形成有預留空間52，即，乾燥劑51並不是完全覆蓋第二基板30的框膠40內的區域，而只是覆蓋了一部分區域，其餘的區域則為預留空間52，以將氫氣填充在預留空間52內。

舉例而言，本實施例的乾燥劑51為液體乾燥劑，液體乾燥劑可以呈類似球體的水滴狀，多顆水滴狀的乾燥劑均勻分布在第二基板上框膠內的區域，相鄰的水滴狀乾燥劑之間的間隔則為預留空間52。

在其它實施例中，液體乾燥劑還可以塗布成柵欄狀，或者網格狀，或者螺旋狀等，只要在乾燥劑層上形成預留空間即可。

可以理解的是，在其它一些實施例中，還可以是固態乾燥劑形成具有預留空間52的乾燥劑層50，固態乾燥劑可以是片狀，片狀的固態乾燥劑上形成有多個孔隙，該孔隙則作為預留空間52，片狀的固態乾燥劑通過貼合的方式形成在第二基板30上。此外，乾燥劑層50也可以由多片固態乾燥劑形成，貼合時，每片固態乾燥劑之間保留間隙，該間隙則作為預留空間52。

在其它一些實施例中，還可以在乾燥劑層50和銅膜層20之間形成間隙，用以填充氫氣。

S204、在充有氫氣的、氣體壓強為0.1-10pa的真空機臺內，將第一基板形成有銅膜層的一側和第二基板形成有乾燥劑層的一側相對設置，並將第一基板和第二基板進行壓合至銅膜層和乾燥劑層接觸，將UV框膠進行固化，以將氫氣封存在銅膜層和第二基板之間的預留空間內。

具體地，真空機臺為VAS機臺，機臺內的氣體壓強為0.1-10pa，具體可以是0.1-4pa，例如0.1pa，2pa，3.5pa等，還可以是4pa-10pa，例如4pa，6pa，6.7pa，9pa或者10pa等，該機臺內的氣體壓強可以在0.1-10pa的範圍內變動，具體壓強值可以根據實際需求和實際機臺能達到的範圍而定。UV框膠40的固化則通過照射UV光實現。

如圖6所示，圖6是本發明第二實施例最終形成的OLED顯示器的結構示意圖。本實施例的第一基板10上的銅膜層20和第二基板30上的乾燥劑層50相對設置，且乾燥劑層50與銅膜層20接觸，從而確保預留空間52內的氫氣60與銅膜層20接觸，使得氫氣60能直接與形成的銅膜層20上形成的CuO接觸，從而使得在OLED顯示器點亮發熱時，氫氣60將CuO還原為Cu，使銅膜層能重複與浸入的O2發生反應。同時還確保乾燥劑51與銅膜層20接觸，使得H2將CuO還原為Cu時生產的H2O直接被乾燥劑51吸收。從而防止H2O和O2對OLED層造成損壞。

本發明還提供了一種OLED顯示器，具體地，請繼續參閱圖6，該OLED顯示器包括第一基板10、銅膜層20、乾燥劑層50以及第二基板30，其中，銅膜層20形成在第一基板10之上，乾燥劑層50設置於銅膜層20上，第二基板30設置在乾燥劑層50上，第二基板30和第一基板10的外緣通過框膠40進行密封連接。並且，在銅膜層20和第二基板30之間填充有氫氣60。

具體地，第一基板10包括陣列基板11和OLED層12，OLED層12設置在陣列基板11上。銅膜層20形成在OLED層12上，具體地，該銅膜層20覆蓋在OLED層12的金屬陰極子層上。

乾燥劑層50設置在銅膜層20上，其中，乾燥劑51可以是液態乾燥劑也可以是固態乾燥劑。

具體地，本實施例的乾燥劑層50上形成有用於填充氫氣的預留空間52，乾燥劑51均勻分布，預留空間52也均勻分布，乾燥劑層50與銅膜層20接觸。

舉例而言，在一些實施例中，乾燥劑51為液態乾燥劑，該液體乾燥劑可以呈類似球體的水滴狀，多顆水滴狀的乾燥劑均勻分布在第二基板上框膠內的區域，相鄰的水滴狀乾燥劑之間的間隔則為預留空間。

在其它實施例中，液體乾燥劑還可以塗布成柵欄狀，或者網格狀，或者螺旋狀等。

可以理解的是，在其它一些實施例中，還可以由固態乾燥劑形成具有預留空間52的乾燥劑層50，固態乾燥劑可以是片狀，片狀的固態乾燥劑上形成有多個孔隙，該孔隙則作為預留空間52，片狀的固態乾燥劑通過貼合的方式形成在第二基板30上。此外，乾燥劑層50也可以由多片固態乾燥劑形成，貼合時，每片固態乾燥劑之間保留間隙，該間隙則作為預留空間52。

本實施例的且乾燥劑層50與銅膜層20接觸，從而確保預留空間52內的氫氣60與銅膜層20接觸，使得H260能直接與形成的銅膜層20上形成的CuO接觸，從而使得在OLED顯示器點亮發熱時，氫氣60將CuO還原為Cu，而能重複與浸入的O2發生反應。同時還確保乾燥劑與銅膜層20接觸，使得氫氣60將CuO還原為Cu時生產的H2O直接被乾燥劑吸收。從而防止H2O和O2對OLED層造成損壞。

綜上所述，本發明能有效提高封裝效果，延長OLED顯示器的使用壽命。

以上所述僅為本發明的實施方式，並非因此限制本發明的專利範圍，凡是利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護範圍內。