電子照像光敏材料的製作方法
2023-04-29 15:49:11 2
專利名稱：電子照像光敏材料的製作方法
技術領域：
本發明涉及電子照像的光敏材料，更準確地說涉及重複使用過程中具有優良耐久性和電學特性極其穩定的電子照像光敏材料。
用於電子照像光敏材料的光電導材料是無機光電導材料，如硒、硫化鎘和氧化鋅，或有機光電導材料如聚乙烯咔唑。如附圖中的
圖1所示，單層光敏材料在電導性基體1上有單個光敏層20，它含有這樣的光電導材料2。近年來，已研製出雙層層壓型光敏材料並付諸實施。後一種型式的光敏材料具有光敏層，它具有分成接受光和產生載荷子作用和遷移所產生的載荷子作用的光電導作用。也就是說，如圖2所示，它們在電導基體1上有光敏層21，該層是由電荷產生層4和電荷遷移層6組成的層壓製件，電荷產生層4含有電荷產生物質3，它能起到接受光而產生載荷子的作用，而電荷遷移層6含有電荷遷移物質5，它能起到遷移所產生的載荷子作用。
有機光電導材料具有許多優點，以致於可以獲得種類繁多的材料並可按要求進行選擇；成膜對於生產光敏材料來說是容易的；所得到的膜是撓性的；而且是經濟的。因為具有這些優點，已經進行了積極地研究和研製，而且已經發現了使用這些材料的有機光敏材料的實際用途。已知實例包括如U.S.P.3,484,237中所述包含電荷轉移配合物的單個光敏層的光敏材料，該配合物是由乙烯基咔唑和三硝基芴酮化合形成的；如日本專利申請公開號25658/1973所述具有染料敏化的光敏層的光敏材料；如日本專利申請公開號30328/1972和18545/1972中所述的光敏材料，該材料具有單個光敏層，光敏層包含分散於空穴轉移劑或電子轉移劑內的顏料；和如日本專利申請公開號105537/1974所述光敏材料，該材料具有雙層層壓型光敏層，光敏層主要由層壓在一起的電荷產生層和電荷遷移層構成。在它們當中，雙層的層壓型光敏材料靠著優選其相應功能的材料製成相應薄層並結合在一起，很可能獲得高的感光性和極好的特性。因此，正在急於研製這種類型的光敏材料。
在電子照像設備中，為獲得影像，光敏材料通常要經過多步驟的循環，如電暈充電、影像曝光、顯像、轉印和清洗。在該過程中，要求光敏材料能顯示穩定的特性。然而，至今所獲得的有機光敏材料就其特性中的穩定性和重複使用過程中的耐久性來說並不完全令人滿意。重複使用會引起表面電位下降(破壞充電性質)，像密度降低，最後會使光敏材料不能使用。
這類損壞的原因尚不清楚，而且牽涉到各種因素。目前，似乎可能的解釋如下已知電暈放電可以產生活化氣體如臭氧和NOx。在成像過程中，光敏材料持續地暴露於電暈放電的環境中。這樣，在這些氣體的影響下發生了破壞作用。
為了避免這種影響，電子照像儀採用能消除電暈電荷周圍氣體的裝置。然而，完全除去這些氣體是困難的。
圖2中示出了上述雙層層壓型的光敏材料，尤其是常常具有這樣一種結構，該結構中電荷遷移層6疊加在薄的電荷產生層4上以保護它。對於目前使用中的有機電荷遷移劑來說，通常空穴作為載荷子遷移，而且所使用的上述結構的光敏材料是帶負電荷的。負電暈放電會產生大量的活化氣體如離子和NOx，使損壞的問題甚至更嚴重。
作為預防這一問題的方法，已知把各種抗氧劑加到光敏層中，例如日本專利申請公開號122444/1982提出加入受阻酚，日本專利申請公開號143763/1986推薦加大量受阻酚，而日本專利申請公開號105151/1987提出加特殊結構的受阻酚。作為使用受阻胺的實例，日本專利申請公開27693/1994和27694/1994提出加入受阻胺和專用電子接受體化合物。
使用這類抗氧劑可以一定程度地防止光敏材料由於氣體如臭氧和NOx的影響而發生損壞。為了滿足當前市場對長壽命光敏材料的需求，必須增強預防效果。
為滿足這一需求完成了本發明。本發明的目的是提供一種電性能極好和甚至在長期的重複使用過程中顯著改進了特性穩定性的光敏材料，採用的方法是往光敏層中的含空穴電荷遷移劑層中加特定的化合物。
根據本發明，通過把下列混合物摻入到至少提供在導電性基體上的一種含空穴電荷遷移劑的層中解決上述問題一種混合物，含有至少一種選自通式(A1)的氫化苯偶姻化合物或通式(A2)的氫化苯偶姻化合物(下文統稱為A組化合物)的物質，和至少一種選自通式(B1)的受阻酚或通式(B2)的一組醌或通式(B3)的氫醌(下文統稱B組化合物)的物質
A組化合物中的R和R′彼此可不同也可相同，並且各自代表一個氫原子、滷素原子、氰基、硝基、任選地具有取代基的烷基、任選地具有取代基的烷氧基、任選地具有取代基的芳基、或任選地具有取代基的芳烷基。
B組化合物中的R1—R29彼此可以不同也可相同，且各自代表一個氫原子、滷素原子、取代的或未取代的鏈烯基、取代或未取代的芳基、取代的或未取代的環烷基、取代的或未取代的烷氧基、或取代的或未取的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、醯基、烷基醯氨基、芳基醯氨基、烷基氨基甲醯基、芳基氨基甲醯基、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基磺醯、芳基磺醯、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基醯氧基、芳基醯氧基、甲矽烷基或雜環基團。
含空穴電荷遷移劑的層指的是圖1所示的單層型光敏材料中的光敏層20，或圖2所示層壓型光敏材料的電荷遷移層6。
詳細地說，上述問題是通過在含空穴電荷遷移劑層中摻入一種混合物解決的，該混合物含有至少一種選自通式(A1)的氫化苯偶姻化合物和至少一種選自通式(B1)的受阻酚。
上述問題還可通過在含空穴電荷遷移劑的層中摻入一種混合物解決，該混合物含有至少一種選自通式(A1)的氫化苯偶姻化合物和至少一種選自通式(B2)的一組醌的物質。
上述問題還可通過在含空穴電荷遷移劑的層中摻入一種含有至少一種選自通式(A1)的氫化苯偶姻化合物和至少一種選自通式(B3)的氫醌的混合物解決。
上述問題還可通過在含空穴電荷遷移劑的層中摻入一種混合物解決，該混合物含有至少一種選自通式(A2)的氫化苯偶姻化合物和至少一種選自通式(B1)的受阻酚。
上述問題也可通過在含空穴電荷遷移劑的層中摻入一種混合物解決，該混合物含有至少一種選自通式(A2)的氫化苯偶姻化合物和至少一種選自通式(B2)的一組醌的物質。
上述問題還可通過在含空穴電荷遷移劑的層中摻入一種混合物解決，該混合物含有至少一種選自通式(A2)的氫化苯偶姻化合物和至少一種選自通式(B3)的氫醌。
按照本發明電導性基體的實例包括金屬筒或薄片，所述金屬如鋁、銅、鋅、鎳和鐵，或這些金屬的合金；以及紙、塑料或玻璃筒或薄片，為了獲得電導性在它們的表面上層壓電導性薄片、或沉積金屬、或塗上電導性塗料。必要時，可將基體表面進行氧化處理或用化學品、臭氧、紫外線或等離子體處理。
需要時，還可在基體表面塗上一層可溶性聚醯胺、酪蛋白、聚乙烯醇或尿烷的內塗層。
在電導性基體上形成含顏料和空穴電荷遷移劑的單層型光敏層(圖1)，或雙層層壓型光敏層(圖2)，它主要由電荷產生層和電荷遷移層構成，電荷產生層主要含顏料，而電荷遷移層主要含空穴電荷遷移劑，電荷產生層和電荷遷移層被層壓在一起，由此構成光敏材料。雙層層壓型的光敏材料是優選的，因為它結合了對於相應功能最佳材料形成的相應層。因此，該光敏材料非常有可能具有極好的特性。
電荷產生層是通過把下列顏料分散在具有粘合劑樹脂的有機溶劑中，然後在電導性基體上塗層分散體製成的，所述顏料是酞菁顏料，偶氮顏料，二苯並〔cd，jk)芘-5，10-二酮顏料、苝顏料、perinone顏料、squalyium顏料、噻喃鎓顔料，或喹吖啶酮顏料，所述粘合劑樹脂是聚乙烯醇縮丁醛、聚氯乙烯共聚物、丙烯酸系樹脂、聚酯或聚碳酸酯。電荷產生層的厚度優選為0.1—2μm。
電荷遷移層是通過使空穴電荷遷移劑如烯胺化合物、苯乙烯基化合物、腙化合物或胺化合物與樹脂一起轉變成溶液，該樹脂可與如聚酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯、或聚苯乙烯任何一種化合物相容，再加入與本發明有關的特定化合物以製備塗料溶液，然後將其塗在電荷產生層上。電荷遷移層的厚度定為10—40μm。
層壓電荷產生層和電荷遷移層的順序可以顛倒。使用帶負電荷的具有層壓在電荷產生層上的電荷遷移層的光敏材料，而使用帶正電荷的具有層壓在電荷遷移層上的電荷產生層的光敏材料。
在本發明所用的A組化合物中，通式(A1)的氫化苯偶姻化合物包括例如下列化合物
通式(A2)的氫化苯偶姻化合物包括例如下列化合物
在B組化合物中，用通式(B1)表示的受阻酚包括例如具有酚結構單元的化合物，該化合物的酚羥基鄰位上存在著龐大的原子團，正如日本專利申請公開號118137/1989所詳細描述的。該龐大原子團是支鏈的烷基。上述化合物的實例如下
用通式(B2)表示的醌、二苯醌和茋醌的實例如下
由通式(B3)表示的氫醌實例如下
通過把一種含有至少一種選自上述特定A組化合物和上述特定B組化合物的混合物摻入含空穴電荷遷移劑的層中，可阻止該光敏層的損壞，並且可顯著地改善該光敏材料的穩定性。
摻入光敏層的A組化合物和B組化合物的混合物量優選範圍按各種化合物重量計為0.1％—20％。
本發明上述和其它目的、效果、特徵和優點根據下面對實施方案連同附圖的描述將會變得更明顯。
圖1是單層型光敏材料的截面結構圖。圖2是雙層層壓型光敏材料的截面結構圖。
下面將描述本發明的實施方案，但這些實施方案不是對本發明的限制。實例1—1將外徑為60mm、長348mm和厚1mm的鋁圓柱外表面用塗料溶液浸漬塗覆，該溶液是通過把10重量份的溶劑可溶性聚醯胺(CM—8000，Toray工業公司)溶於60重量份甲醇和40重量份的丁醇溶劑混合物中製備的。這樣可製成厚度為1μm的內塗層。
然後，把5重量份的聚乙烯醇縮丁醛(SLEK BM—2，Sekisui化學有限公司)，400重量份環己酮和5重量份下文指出的結構式(I)偶氮顏料與600重量份直徑1mm的玻璃珠一起在砂磨機中分散3小時，製備形成電荷產生層的塗料溶液。 將這種塗料溶液浸漬塗覆在內塗層上，形成幹基厚度為0.2μm的電荷產生層。
然後，再把10重量份下文指出的結構式(II)的電荷遷移劑、10重量份聚碳酸酯Z(Z—500，Teijin Kasei Kabushiki Kaisha)、0.5重量份通式(A1—1)的化合物和0.5重量份通式(B1—1)的化合物溶解於100重量份的二氯甲烷中，製備形成電荷遷移層的塗料溶液。 使這種塗料溶液浸漬塗覆在電荷產生層上，製成幹基厚度為20μm的電荷遷移層，於是，生產出圖2所示的層壓結構的光敏材料。對比例1—1按與例1—1相同方式生產光敏材料，只是在供形成電荷遷移層用的塗料溶液中既不加通式(A1—1)化合物也不加通式(B1—1)的化合物。實例1—2到1—10和對比例1—2到1—10按與例1—1相同方式生產實例1—2到1—10和對比例1—2到1—10的光敏材料，只是用表1所列各種混合物替換加到形成電荷遷移層用塗料溶液的A1組化合物和B1組化合物的混合物。
通過光敏材料評價儀來評價各種光敏材料的特性。在光敏材料旋轉的條件下，其表面用電暈管充電至-800V。然後使光敏材料在黑暗處靜置5秒鐘，再測量5秒鐘內黑暗衰減保留速率Vk5(％)。隨後，把能產生2勒照度但得不到波長650nm或更長的滷素燈光線投射到光敏材料上，測量充電電位衰減至-400V所需要的時間。根據達到該衰減值所需暴露時間，測量感光性，E1/2(勒·秒)。開始進行這種測量並使光敏材料在100ppm臭氧的氣氛中靜置12小時後，由此研究由於暴露於臭氧中特性方面的變化。結果列於表1中。
表1<
p>如表1所示，各實例的光敏材料(其中將A1組化合物的氫化苯偶姻化合物和B1組化合物的受阻酚混合併摻入電荷遷移層中)由於暴露於臭氧中，其特徵變化比對比例的光敏材料小。因此，很清楚，通過將這些化合物混合併摻入到電荷遷移層中可抑制光敏層的損壞。
實例2—1到2—6和對比例2—1到2—9按與實例1—1相同方式生產實例2—1到2—6和對比例2—1到2—9的光敏材料，只是按表2指示改變加入到電荷遷移層中的化合物。
按實例1—1等的光敏材料的相同方法評價各種光敏材料的特性。結果列於表2中。
表2
如表2所示，上述各實例的光敏材料(其中將A1組化合物的氫化苯偶姻化合物和B2組化合物的醌混合併摻入電荷遷移層中)由於暴露於臭氧中，如實例1的情況，其特徵變化比對比例的光敏材料小。因此，通過將這些化合物混合併摻入到電荷遷移層中可抑制光敏層的損壞。實例3—1到3—10和對比例3—1到3—10按與實例1—1相同方式生產實例3—1到3—10和對比例3—1到3—10的光敏材料，只是按表3指示改變加入到電荷遷移層中的化合物。
按與實施例1—1等光敏材料同樣的方式評價各光敏材料的特性。結果列於表3。
表3<<
如表3所示，上述各實例的光敏材料(其中將A1組化合物的氫化苯偶姻化合物和B3組化合物的氫醌混合併摻入電荷遷移層中)由於暴露於臭氧中，如實例1的情況，其特性變化比對比例的光敏材料小。因此，很清楚，通過將這些化合物混合併將混合物摻入到電荷遷移層中可抑制光敏層的損壞。實例4—1到4—6和對比例4—1到4—9按與實例1—1相同方式生產實例4—1到4—6和對比例4—1到4—9的光敏材料，只是按表4所示改變加入到電荷遷移層中的化合物。
通過按與實例1—1等的光敏材料情況相同方式評價各種光敏材料的特性。結果列於表4中。
表4
如表4所示，上述各實例的光敏材料(其中將A2組化合物的氫化苯偶姻化合物和B1組化合物的受阻酚混合併摻入電荷遷移層中)由於暴露於臭氧中，如實例1的情況，其特性變化比對比例的光敏材料小。因此，很清楚，通過將這些化合物混合併將混合物摻入到電荷遷移層中可抑制光敏層的損壞。實例5—1到5—6和對比例5—1到5—9按與實例1—1相同方式生產實例5—1到5—6和對比例5—1到5—9的光敏材料，只是按表5所示改變加入到電荷遷移層中的化合物。
按與實例1—1等光敏材料情況相同方式評價各光敏材料的特性。結果列於表5中。
表5
如表5所示，上述各實例的光敏材料(其中將A2組化合物的氫化苯偶姻化合物和B2組化合物的醌混合併摻入電荷遷移層中)由於暴露於臭氧中，如實例1的情況，其特性變化比對比例的光敏材料小。因此，很清楚，通過將這些化合物混合併摻入到電荷層中可抑制光敏層的損壞。實例6—1到6—6和對比例6—1到6—9按與例1—1相同方式生產實例6—1到6—6和對比例6—1到6—9的光敏材料，只是按表6所示改變加入到電荷遷移層中的化合物。
按與實例1—1等的光敏材料情況相同方式評價各光敏材料的特性。結果列於表6中。
表6
如表6所示，上述各實例的光敏材料(其中將A2組化合物氫化苯偶姻化合物和B3組化合物的氫醌混合併摻入電荷遷移層中)由於暴露於臭氧中，如實例1的情況，其特性變化比對比例的光敏材料小。因此，很清楚，通過將這些化合物混合併摻入到電荷遷移層中可抑制光敏層的損壞。
上述實施方案描述的光敏材料具有在電導性基體上按此順序層壓的電荷產生層和電荷遷移層。然而，層壓的順序可以顛倒。既然是這樣，通過往電荷遷移層中加入上述化合物可獲得相同的效果。本發明的實施方案中也包括單層光敏材料。既然如此，只要把上述化合物摻入整個單層光敏層中就可以了。
按照本發明，通過向光敏材料中含空穴電荷遷移劑的層(在導電基體上至少有該層)中摻入一種混合物，能獲得具有優良電學特性和甚至在長期的重複使用中顯著改善穩定特性的光敏材料，所述混合物含有至少一種選自上述A組化合物的物質和至少一種選自上述B組化合物的物質。
根據優選的實施方案詳細地描述了本發明，現在將會清楚在不偏離本發明的情況下可在更寬範圍內進行各種變更和改進，因此，在附加的權利要求中覆蓋落入本文發明真實精神範圍內的所有這些變更和改進方案都是我們的目的。
權利要求
1.一種電子照像光敏材料，它在電導性基體上至少有一含空穴電荷遷移劑的層，所述層含有至少一種選自通式(A1)的氫化苯偶姻化合物 和至少一種選自通式(B1)的受阻酚， 所述通式(A1)化合物中的R和R′彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、氰基、硝基、任選地具有取代基的烷基、任選地具有取代基的烷氧基、任選地具有取代基的芳基、或任選地具有取代基的芳烷基，所述通式(B1)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、取代或未取代的鏈烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的環烷基、取代或未取代的烷氧基、或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氨基、芳氨基、醯基、烷基醯氨基、芳基醯氨基、烷基氨基甲醯基、芳基氨基甲醯基、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基磺醯、芳基磺醯、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基醯氧基、芳基醯氧基、甲矽烷基、或雜環基團。
2.一種電子照像光敏材料，它在電導性基體上至少有一含空穴電荷遷移劑的層，所述層含有至少一種選自通式(A1)的氫化苯偶姻化合物 和至少一種選自通式(B2)的一組醌的物質， 所述通式(A1)化合物中的R和R′彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、氰基、硝基、任選地具有取代基的烷基、任選地具有取代基的烷氧基、任選地具有取代基的芳基、或任選地具有取代基的芳烷基，所述通式(B2)化合物中R1—R29彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、取代或未取代的鏈烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的環烷基、取代或未取代的烷氧基、或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、醯基、烷基醯氨基、芳基醯氨基、烷基氨基甲醯基、芳基氨基甲醯基、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基磺醯、芳基磺醯、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基醯氧基、芳基醯氧基、甲矽烷基、或雜環基團。
3.一種電子照像光敏材料，它在電導性基體上至少有一含空穴電荷遷移劑的層，所述層含有至少一種選自通式(A1)的氫化苯偶姻化合物， 和至少一種選自通式(B3)的氫醌， 所述通式(A1)化合物中的R和R′彼此不同或相同，而且各表示一個氫原子、滷素原子、氰基、硝基、任選地具有取代基的烷基、任選地具有取代基的烷氧基、任選地具有取代基的芳基、或任選地具有取代基的芳烷基，所述通式(B3)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、取代或未取代的鏈烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的環烷基、取代或未取代的烷氧基，或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、醯基、烷基醯氨基、芳基醯氨基、烷基氨基甲醯基、芳基氨基甲醯基、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基磺醯、芳基磺醯、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基醯氧基、芳基醯氧基、甲矽烷基、或雜環基團。
4.一種電子照像光敏材料，它在電導性基體上至少有一含空穴電荷遷移劑的層，所述層含有至少一種選自通式(A2)的氫化苯偶姻化合物， 和至少一種選自通式(B1)的受阻酚， 所述通式(A2)化合物中的R和R′彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、氰基、硝基、任選地具有取代基的烷基、任選地具有取代基的烷氧基、任選地具有取代基的芳基、或任選地具有取代基的芳烷基，所述通式(B1)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、取代或未取代的鏈烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的環烷基、取代或未取代的烷氧基，或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、醯基、烷基醯氨基、芳基醯氨基、烷基氨基甲醯基、芳基氨基甲醯基、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基磺醯、芳基磺醯、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基醯氧基、芳基醯氧基、甲矽烷基、或雜環基團。
5.一種電子照像光敏材料，它在電導性基體上至少有一含空穴電荷遷移劑的層，所述層含有至少一種選自通式(A2)的氫化苯偶姻化合物， 和至少一種選自通式(B2)的一組醌的物質， 所述通式(A2)化合物中的R和R′彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、氰基、硝基、任選地具有取代基的烷基、任選地具有取代基的烷氧基、任選地具有取代基的芳基、或任選地具有取代基的芳烷基，所述通式(B2)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、取代或未取代的鏈烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的環烷基、取代或未取代的烷氧基，或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、醯基、烷基醯氨基、芳基醯氨基、烷基氨基甲醯基、芳基氨基甲醯基、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基磺醯、芳基磺醯、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基醯氧基、芳基醯氧基、甲矽烷基、或雜環基團。
6.一種電子照像光敏材料，它在電導性基體上至少有一含空穴電荷遷移劑的層，該層含有至少一種選自通式(A2)的氫化苯偶姻化合物 和至少一種選自通式(B3)的氫醌， 所述通式(A2)化合物中的R和R′彼此不同或相同，並且各代表一個氫原子、滷素原子、氰基、硝基、任選地具有取代基的烷基、任選地具有取代基的烷氧基、任選地具有取代基的芳基、或任選地具有取代基的芳烷基，所述通式(B3)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，並且各表示一個氫原子、滷素原子、取代或未取代的鏈烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的環烷基、取代或未取代的烷氧基，或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、醯基、烷基醯氨基、芳基醯氨基、烷基氨基甲醯基、芳基氨基甲醯基、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基氨磺醯、芳基氨磺醯、烷基磺醯、芳基磺醯、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基醯氧基、芳基醯氧基、甲矽烷基、或雜環基團。
全文摘要
一種混合物被摻到至少提供在電導性基體上的含空穴電荷遷移劑的層中，所述混合物含有至少一種選自特定氫化苯偶姻化合物的物質，和至少另一種選自特定的受阻酚或特定醌或特定氫醌的物質。由此獲得了優良電特性和甚至在長期使用中顯著改進穩定特性的有機電子照像光敏材料。
文檔編號G03G5/06GK1132863SQ9511714
公開日1996年10月9日 申請日期1995年8月31日 優先權日1994年9月1日
發明者野上純孝, 北澤通宏 申請人:富士電機株式會社