顯示基板及其製造方法、液晶顯示裝置、以及oled顯示裝置製造方法
2023-05-13 23:05:46 3
顯示基板及其製造方法、液晶顯示裝置、以及oled顯示裝置製造方法
【專利摘要】本發明公開了一種顯示基板及其製造方法、液晶顯示裝置、以及OLED顯示裝置。所述顯示基板包括：襯底基板；以及形成在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中的金屬的多個觸摸電極；每個觸摸電極包括發射電極和接收電極。由於在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中形成金屬的多個觸摸電極，因此這種技術使用掩模板較少，電阻較小，無需高溫退火，且抗劃傷能力強，可以有效避免現有單層ITO觸控螢幕技術的諸多缺陷。
【專利說明】顯示基板及其製造方法、液晶顯示裝置、以及OLED顯示裝
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示領域，尤其涉及一種顯示基板及其製造方法、液晶顯示裝置、以及OLED (有機電致發光)顯示裝置。
【背景技術】
[0002]目前，觸控螢幕技術已經日益廣泛地應用在顯示技術中。現有的觸控螢幕技術主要有電阻式、電容式和紅外光學式。由於電容觸控螢幕比電阻觸控螢幕具有更高的反應速度，並且可實現多點觸控，在觸控螢幕領域很有市場前景；紅外光學觸控螢幕技術主要應用在大尺寸觸控螢幕方面。
[0003]對於電容式觸控螢幕，目前通常可以用以下三種技術來實現:一種是直接在顯示面板上貼合觸控螢幕的OGS技術；一種是在將觸摸面板嵌入到面板中的In cell技術；還有一種就是將觸控螢幕嵌入到顯示面板和偏光片之間的On cell技術。由於貼合技術需要額外購買觸控螢幕，成本較高而且會增加面板厚度，已經逐漸被淘汰。In cell技術由於觸摸電路在顯示面板內部，其噪聲對顯示面板內部的電場會有很大的幹擾，技術仍不成熟。因此，使用多層或單層ITO的On cell技術越來越引起人們的重視。
[0004]但多層技術多次曝光顯影，成本較高，技術推廣較困難。單層ITO技術由於較高的退火溫度易對顯示面板產生破壞、ITO電阻較大、製作過程容易劃傷等原因，存在很多缺點。
【發明內容】
[0005]因此，希望提供一種電容式觸控螢幕技術，其能夠在不影響顯示效果的基礎上有效避免現有單層ITO觸控螢幕技術的諸多缺陷。
[0006]為此，本發明實施例提供了一種顯示基板及其製造方法、液晶顯示裝置、以及OLED
顯示裝置。
[0007]根據本發明的一個方面，本發明實施例提供了一種顯示基板，所述顯示基板包括:襯底基板；以及形成在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中的金屬的多個觸摸電極；每個觸摸電極包括發射電極和接收電極。
[0008]由於在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中形成金屬的多個觸摸電極，因此這種技術使用掩模板較少，電阻較小，無需高溫退火，且抗劃傷能力強，可以有效避免現有單層ITO觸控螢幕技術的諸多缺陷。
[0009]優選地，每個觸摸電極具有矩形形狀，並且所述發射電極和接收電極具有基本相同且互補的形狀。
[0010]可選地，所述發射電極和接收電極具有階梯(stair)的形狀。
[0011]優選地，所述發射電極和接收電極的厚度在300_500nm的範圍內。
[0012]優選地，所述觸摸電極的材料為鑰或鑰鋁合金。
[0013]優選地，所述顯示基板還包括形成在所述襯底基板的第一側或第二側上的光學層；其中，所述多個觸摸電極形成在所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層面對所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層背離所述襯底基板的表面上。
[0014]優選地，所述顯示基板還包括黑矩陣；其中，在垂直於所述顯示基板的方向上，所述黑矩陣的投影覆蓋所述多個觸摸電極的投影。
[0015]根據本發明的另一方面，本發明實施例還提供了一種如上所述的顯示基板的製造方法，所述方法包括:提供襯底基板；以及在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中形成金屬的多個觸摸電極；每個觸摸電極包括發射電極和接收電極。
[0016]由於在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中形成金屬的多個觸摸電極，因此這種技術使用掩模板較少，電阻較小，無需高溫退火，且抗劃傷能力強，可以有效避免現有單層ITO觸控螢幕技術的諸多缺陷。
[0017]優選地，每個觸摸電極具有矩形形狀，並且所述發射電極和接收電極具有基本相同且互補的形狀。
[0018]可選地，所述發射電極和接收電極具有階梯的形狀。
[0019]優選地，所述發射電極和接收電極的厚度在300_500nm的範圍內。
[0020]優選地，所述觸摸電極的材料為鑰或鑰鋁合金。
[0021]優選地，所述方法還包括:在所述襯底基板的第一側或第二側上形成光學層；其中，所述多個觸摸電極形成在所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層面對所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層背離所述襯底基板的表面上。
[0022]優選地，所述方法還包括:在所述顯示基板上形成黑矩陣；其中，在垂直於所述顯示基板的方向上，所述黑矩陣的投影覆蓋所述多個觸摸電極的投影。
[0023]優選地，形成金屬的多個觸摸電極包括:形成金屬膜層，以及採用構圖工藝形成所述多個觸摸電極。
[0024]根據本發明的又一方面，本發明實施例還提供了一種液晶顯示裝置，所述液晶顯示裝置包括如上所述的顯示基板。
[0025]根據本發明的再一方面，本發明實施例還提供了一種有機電致發光顯示裝置，所述有機電致發光顯示裝置包括如上所述的顯示基板。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0026]圖1示出了根據本發明實施例的顯示基板的示意圖；
圖2示出了根據本發明實施例的顯示基板的俯視圖；
圖3示出了根據本發明實施例的液晶顯示裝置的示意圖；以及圖4示出了根據本發明實施例的有機電致發光顯示裝置的示意圖。
【具體實施方式】
[0027]下面結合附圖，對本發明實施例提供的顯示基板的【具體實施方式】進行詳細地說明。在本發明的上下文和附圖中，相同或相近的附圖標記指示相同或相近的元件或特徵。
[0028]在本發明的上下文中，「形成在同一層中」意味著以相互不交疊的形式形成在同一平面上。基板的「一側」指示的是這樣的一側，其位於與基板延伸的平面相垂直的方向上；基板的「表面」指示的是與基板延伸的平面相平行的兩個表面之一；並且，「垂直於顯示基板的方向」指示的是與基板延伸的平面相垂直的方向。
[0029]圖1示出了根據本發明實施例的顯示基板的示意圖；圖2示出了根據本發明實施例的顯示基板的俯視圖，其中，虛線框表示與顯示裝置的像素或子像素(例如，RGB子像素)對應的區域，所述顯示裝置中配置有根據本發明實施例的顯示基板。
[0030]根據本發明的一個方面，本發明實施例提供了一種顯示基板100，所述顯示基板100包括:襯底基板101 ;以及形成在所述襯底基板101的第一側或第二側上的同一層中的金屬的多個觸摸電極102 ;每個觸摸電極102包括發射電極103和接收電極104 (如圖2所示)。
[0031]由於在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中形成金屬的多個觸摸電極，因此這種技術使用掩模板較少，電阻較小，無需高溫退火，且抗劃傷能力強，可以有效避免現有單層ITO觸控螢幕技術的諸多缺陷。
[0032]優選地，每個觸摸電極具有矩形形狀，並且所述發射電極和接收電極具有基本相同且互補的形狀。
[0033]儘管在本發明的實施例中，觸摸電極被設置為矩形，然而本領域技術人員能夠理解，觸摸電極還可以被設置為其他形狀，例如但不限於:梯形、平行四邊形、三角形，等。將發射電極和接收電極設計為具有基本相同且互補的形狀，能夠有效增加發射電極和接收電極之間的電容，提高觸摸控制的靈敏度。
[0034]可選地，所述發射電極和接收電極具有階梯的形狀。
[0035]將發射電極和接收電極設計為具有階梯的形狀，能夠將發射電極和接收電極之間的電容最大化，從而提高觸摸控制的靈敏度。本領域技術人員能夠理解，發射電極和接收電極的形狀不必是階梯的形狀，並且，發射電極和接收電極的面積也不必分別覆蓋如圖2所示的6個子像素；即，只要發射電極和相應的接收電極之間的相鄰邊緣具有足夠長度，就能夠產生希望的電容。
[0036]優選地，所述發射電極和接收電極的厚度在300_500nm的範圍內，從而確保良好的導電性並避免在觸摸電極和其他層之間出現大的斷差(step)。
[0037]優選地，所述觸摸電極的材料為鑰或鑰鋁合金。
[0038]由於鑰和鑰鋁合金具有良好的導熱、導電性和低的膨脹係數，因此適於製作顯示基板的發射電極和接收電極。然而本領域技術人員能夠理解，能夠用於金屬沉積工藝的其他金屬或合金(例如但不限於:金、銀、鉬、銥，等)也都適用於本發明的實施例。
[0039]優選地，為了配合不同類型的顯示，所述顯示基板還包括形成在所述襯底基板的第一側或第二側上的光學層；其中，所述多個觸摸電極形成在所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層面對所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層背離所述襯底基板的表面上。
[0040]優選地，所述顯示基板還包括黑矩陣；其中，在垂直於所述顯示基板的方向上，所述黑矩陣的投影覆蓋所述多個觸摸電極的投影。
[0041]由於在垂直於所述顯示基板的方向上，黑矩陣的投影覆蓋所述多個觸摸電極的投影，因此觸摸電極不會影響任意像素或子像素的開口率(因為像素的開口率通常受限於黑矩陣的線寬)，從而不會影響顯示裝置的顯示效果。
[0042]根據本發明的另一方面，本發明實施例還提供了一種如上所述的顯示基板的製造方法，所述方法包括:提供襯底基板；以及在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中形成金屬的多個觸摸電極；每個觸摸電極包括發射電極和接收電極。
[0043]由於在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中形成金屬的多個觸摸電極，因此這種技術使用掩模板較少，電阻較小，無需高溫退火，且抗劃傷能力強，可以有效避免現有單層ITO觸控螢幕技術的諸多缺陷。
[0044]優選地，每個觸摸電極具有矩形形狀，並且所述發射電極和接收電極具有基本相同且互補的形狀。
[0045]儘管在本發明的實施例中，觸摸電極被設置為矩形，然而本領域技術人員能夠理解，觸摸電極還可以被設置為其他形狀，例如但不限於:梯形、平行四邊形、三角形，等。將發射電極和接收電極設計為具有基本相同且互補的形狀，能夠有效增加發射電極和接收電極之間的電容，提高觸摸控制的靈敏度。
[0046]可選地，所述發射電極和接收電極具有階梯的形狀。
[0047]將發射電極和接收電極設計為具有階梯的形狀，能夠將發射電極和接收電極之間的電容最大化，從而提高觸摸控制的靈敏度。本領域技術人員能夠理解，發射電極和接收電極的形狀不必是階梯的形狀，並且，發射電極和接收電極的面積也不必分別覆蓋如圖2所示的6個子像素；即，只要發射電極和相應的接收電極之間的相鄰邊緣具有足夠長度，就能夠產生希望的電容。
[0048]優選地，所述發射電極和接收電極的厚度在300_500nm的範圍內，從而確保良好的導電性並避免在觸摸電極和其他層之間出現大的斷差。
[0049]優選地，所述觸摸電極的材料為鑰或鑰鋁合金。
[0050]由於鑰和鑰鋁合金具有良好的導熱、導電性和低的膨脹係數，因此適於製作顯示基板的發射電極和接收電極。然而本領域技術人員能夠理解，能夠用於金屬沉積工藝的其他金屬或合金(例如但不限於:金、銀、鉬、銥，等)也都適用於本發明的實施例。
[0051]優選地，為了配合不同類型的顯示，所述方法還包括:在所述襯底基板的第一側或第二側上形成光學層；其中，所述多個觸摸電極形成在所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層面對所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層背離所述襯底基板的表面上。
[0052]優選地，所述方法還包括:在所述顯示基板上形成黑矩陣；其中，在垂直於所述顯示基板的方向上，所述黑矩陣的投影覆蓋所述多個觸摸電極的投影。
[0053]由於在垂直於所述顯示基板的方向上，黑矩陣的投影覆蓋所述多個觸摸電極的投影，因此觸摸電極不會影響任意像素或子像素的開口率(因為像素的開口率通常受限於黑矩陣的線寬)，從而不會影響顯示裝置的顯示效果。
[0054]優選地，形成金屬的多個觸摸電極包括:形成金屬膜層，以及採用構圖工藝形成所述多個觸摸電極。
[0055]根據本發明的又一方面，本發明實施例還提供了一種液晶顯示裝置，所述液晶顯示裝置包括如上所述的顯示基板。所述液晶顯示裝置可以為液晶顯示面板、液晶電視、以及包含液晶顯示面板的手機、筆記本、導航儀或者掌上電腦等裝置。
[0056]圖3示出了根據本發明實施例的液晶顯示裝置的示意圖。所述觸摸液晶顯示裝置200包括:相對設置的陣列基板201和彩膜基板202，所述彩膜基板202由如上所述的顯示基板構成；液晶層203，填充在所述陣列基板201和彩膜基板202之間；所述彩膜基板202具有面向所述陣列基板201的第一側和背離所述第一側的第二側；黑矩陣204，形成在所述第一側上；多個觸摸電極205，形成在所述第二側上的同一層中；每個觸摸電極205包括發射電極和接收電極；其中，在垂直於所述彩膜基板202 (B卩，顯示基板)的方向上，所述黑矩陣204的投影覆蓋所述多個觸摸電極205的投影；以及分別形成在所述觸摸液晶顯示裝置200兩側的例如為偏振片的光學層206、207。
[0057]根據本發明的再一方面，本發明實施例還提供了一種有機電致發光顯示裝置，所述有機電致發光顯示裝置包括如上所述的顯示基板。所述有機電致發光顯示裝置可以為OLED顯示面板、OLED電視、以及包含OLED顯示面板的手機、筆記本、導航儀或者掌上電腦等
>j-U ρ?α裝直。
[0058]圖4示出了根據本發明實施例的有機電致發光顯示裝置的示意圖。所述有機電致發光顯示裝置300包括:載板301 ;形成在載板301上的有機電致發光單元302 (即，像素或子像素)；以及如上所述的顯示基板303 ;其中，顯示基板303布置在所述有機電致發光顯示裝置300的出光側。
[0059]儘管已經結合一些實施例描述了本發明，但是本發明並不預期限於本文闡述的特定形式。相反地，本發明的範圍僅由所附權利要求所限制。此外，雖然特徵可能看起來結合特定實施例而被描述，但是本領域技術人員應當認識到，依照本發明可以組合所描述的實施例的各種不同的特徵。在權利要求書中，措詞包括/包含並沒有排除其他元件或步驟的存在。對於「一」、「一個」、「第一」、「第二」等等的使用並沒有排除複數。權利要求中的附圖標記僅僅作為澄清的實例而被提供，不應當以任何方式被視為限制了權利要求的範圍。
【權利要求】
1.一種顯示基板，其特徵在於，所述顯示基板包括: 襯底基板；以及 形成在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中的金屬的多個觸摸電極；每個觸摸電極包括發射電極和接收電極。
2.如權利要求1所述的顯示基板，其特徵在於，每個觸摸電極具有矩形形狀，並且所述發射電極和接收電極具有基本相同且互補的形狀。
3.如權利要求2所述的顯示基板，其特徵在於，所述發射電極和接收電極具有階梯的形狀。
4.如權利要求1所述的顯示基板，其特徵在於，所述發射電極和接收電極的厚度在300-500nm的範圍內。
5.如權利要求1所述的顯示基板，其特徵在於，所述觸摸電極的材料為鑰或鑰鋁合金。
6.如權利要求1-5之一所述的顯示基板，其特徵在於，所述顯示基板還包括形成在所述襯底基板的第一側或第二側上的光學層；其中，所述多個觸摸電極形成在所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層面對所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層背離所述襯底基板的表面上。
7.如權利要求1-5之一所述的顯示基板，其特徵在於，所述顯示基板還包括黑矩陣；其中，在垂直於所述顯示基板的方向上，所述黑矩陣的投影覆蓋所述多個觸摸電極的投影。
8.—種如權利要求1所述的顯示基板的製造方法，其特徵在於，所述方法包括: 提供襯底基板；以及 在所述襯底基板的第一側或第二側上的同一層中形成金屬的多個觸摸電極；每個觸摸電極包括發射電極和接收電極。
9.如權利要求8所述的顯示基板的製造方法，其特徵在於，每個觸摸電極具有矩形形狀，並且所述發射電極和接收電極具有基本相同且互補的形狀。
10.如權利要求9所述的顯示基板的製造方法，其特徵在於，所述發射電極和接收電極具有階梯的形狀。
11.如權利要求8所述的顯示基板的製造方法，其特徵在於，所述發射電極和接收電極的厚度在300-500nm的範圍內。
12.如權利要求8所述的顯示基板的製造方法，其特徵在於，所述觸摸電極的材料為鑰或鑰鋁合金。
13.如權利要求8-12之一所述的顯示基板的製造方法，其特徵在於，所述方法還包括:在所述襯底基板的第一側或第二側上形成光學層；其中，所述多個觸摸電極形成在所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層面對所述襯底基板的表面上，或者，所述多個觸摸電極形成在所述光學層背離所述襯底基板的表面上。
14.如權利要求8-12之一所述的顯示基板的製造方法，其特徵在於，所述方法還包括:在所述顯示基板上形成黑矩陣；其中，在垂直於所述顯示基板的方向上，所述黑矩陣的投影覆蓋所述多個觸摸電極的投影。
15.如權利要求8-12之一所述的顯示基板的製造方法，其特徵在於，形成金屬的多個觸摸電極包括:形成金屬膜層，以及採用構圖工藝形成所述多個觸摸電極。
16.一種液晶顯示裝置，其特徵在於，所述液晶顯示裝置包括如權利要求1-7之一所述的顯不基板。
17.一種有機電致發光顯示裝置，其特徵在於，所述有機電致發光顯示裝置包括如權利要求1-7之一所述的顯示基板。
【文檔編號】G06F3/041GK104461150SQ201410800933
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年12月22日 優先權日:2014年12月22日
【發明者】李紀, 章禎 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司