用於關閉和開啟處理腔室的裝/卸開口的裝置的製作方法

2023-05-24 04:10:31 2

專利名稱：用於關閉和開啟處理腔室的裝/卸開口的裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種用於關閉和開啟至少一個用於基板處理的，特別是是用於半導體基板的處理的處理腔室的裝/卸口的裝置。
背景技術：
在半導體和光伏產業中，在不同的處理腔室中處理基板，特別是半導體基板，是眾所周知的。每一個這樣的處理腔室具有至少一個常常通過門部件而可關的裝/卸口。為了使該處理腔室與外部環境隔離，特別是為了以氣密的方式密封該處理腔室，這是必須的。對於處理腔室中的真空工藝，這是尤其必須的，但是，對於其它工藝也是有利的。這樣的門部件通常可軸樞地固定至處理腔室以使該門部件可從開啟(未封鎖)狀態活動到關閉(封鎖)狀態。在該開啟狀態，該門部件開啟用於向該處理腔室或從該處理腔室裝/卸基板裝/卸開口。在關閉狀態，該門部件封鎖該裝/卸口。通常，在該處理腔室的殼體和/或該門部件處提供密封部件，以在該關閉狀態密封該處理腔室。但是，這樣的可樞軸門部件需要足夠的樞軸空間，這可能導致空間問題。進一步，該樞軸機構的構造也是昂貴的，因為需要為該樞軸活動提供很低的容許偏差，以提供裝/卸口的氣密密封。這樣的門部件也可能在相鄰的處理腔室中造成問題，其中，相鄰的處理腔室包含彼此面對的裝/卸口，要移動的基板直接在這些處理腔室之間移動，且該基板不暴露的環境中。樞軸移動的門部件常常不適用於這樣的配置。

實用新型內容因此，本實用新型要解決的問題是提供一種裝置，其用於關閉和開啟至少一個處理腔室的裝/卸口，其容許處理腔室的簡單和經濟的氣密密封，同時只需要很小的空間。根據本實用新型，通過根據權利要求I的裝置解決該問題。該從屬權利要求指向本實用新型進一步的實施例。特別地，提供一種用於關閉和開啟用於基板處理的至少一個處理腔室的裝/卸口的裝置，該裝置包括至少一個管件和殼體，該殼體具有用於容納該管件的、在殼體中軸向延伸的腔室，以及一個橫向於軸向地與該腔室交叉的通道，其中該通道與處理腔室的裝/卸口對準且其中該腔室具有圓形的橫截面區域。進一步，提供至少一個固定單元，用於將該管件的一個部分在相對於該處理腔室的裝/卸口的預定位置定位和固定。該管件包括可連接至流體源和/或真空源的至少一個入口和/或出口，通過選擇性地施加流體和/或真空至該內部空間可以在展開狀態和收縮狀態之間活動該管件，在收縮狀態下，該管件向該固定部分收縮，其中在該展開狀態下，該管件阻塞該處理腔室的裝/卸口，且在收縮狀態下開啟該處理腔室的裝/卸口。這樣的一種裝置具有簡單的結構且可以可靠地阻塞和開啟該處理腔室。該殼體容許以一良好地限定的方式相對於該裝/卸口定位該管，且包含用於在展開狀態下的管的限定的鄰接區域，形成良好的密封特性。該腔室的圓形的橫截面區域可以一容易和經濟的方式甚至更大的長度地製作，且特別地適合通常的圓管。[0008]優選地，該管件具有一直徑，展開或膨脹狀態下其是用於裝載的該處理腔室的該裝/卸口的高度的至少兩倍大小，以提供該裝/卸口的可靠的關閉和開啟。在實用新型的一實施例中，該腔室的尺寸以這樣的方式確定管件在展開狀態下在半徑方向上接觸腔室的壁，以使得管件密封通過殼體的通道，從而密封該處理腔室的裝/卸口，以及使得該管件在其收縮狀態下開啟該通道。在本實用新型的一個實施例中，該固定單元包含在鄰近該管件的固定部分的該管 件的內部中延伸的棒或杆件，其中該杆件可防止該部分向該管的中心活動。特別地，該杆件可以在徑向方向上對管件的被固定的部分施壓抵靠至支撐件，特別地，抵壓在上述的殼體上。該杆件可包含軸向延伸的腔室，其包含可連接至一流體源和/或真空源的第一開口，以及從該腔室延伸至杆件外側的至少一個通道。這此情況下，該杆件可在該支持功能之外提供用於在該管中散布流體和/或真空的散布功能。在一實施例中，該固定單元包含一位於該管件的外側的部件。該管件要固定的部分可以被固定至此部件，特別地，通過膠粘或者硬化。為了提供該管件的可靠固定以及，可能地，管件相對於開口位置處環境的密封，該管件的端部區域設置至少一個支撐套管，其中該支撐套管將該端部保持在預定形狀，不論該管件是在展開狀態還是收縮狀態。優選地，該支撐套管在徑向方向上將管件推靠在一支撐件，特別地，推靠在上面提到的殼體中的密封件。在一實施例中，提供至少一用於朝著該收縮位置或狀態偏置該管件的偏置元件。這樣的偏置元件只容許通過在該管件的內部中的正壓力來控制該管件的狀態。特別地，也在該管的收縮狀態下，流體可流經該管，以冷卻該管或為該管提供預定的溫度。在一簡單的構造中，該偏置元件可為位於該管件的內部的彈性帶，其中該帶可特別地形成為該管件的一體化的部分。在一可選實施例中，以這樣的方式提供了至少兩個管件，第一管件至少部分地包圍該第二管件，其中該第一管件包含至少一個用於施加真空至其內部的開口，且其中該第二管件包含至少一個用於施加增壓的流體至其內部的開口。以這樣的配置，該內部管件可通過施加真空至該外部管件而收縮，只要在該內部管件中的氣壓不是太高。特別地，這也同樣容許在該收縮狀態下的該內部管件中存在流體。優選地，該管件在其相對的端部包含開口，以容許引導流體穿過該管件。進一步，這樣的管件相比於在一端封閉的管件具有簡單的構造。用於處理基板的裝置包含至少一用於接收該基板的處理腔室、形成在該處理腔室的一壁上的用於基板的至少一個裝/卸口以及用於關閉和開啟該至少一個裝/卸口的上述提及的類型的至少一個關閉裝置。優選地，該裝置包含兩個處理腔室，每一該處理腔室包含至少一個面對另一處理腔室的裝/卸口，其中該處理腔室的該裝/卸口相互面對且相互對準，以容許基板在處理腔室之間傳輸。關閉裝置可以這樣的方式在安置在相對的裝/卸口之間，使該關閉裝置在展開狀態下阻塞和密封兩個裝/卸口，以及由此隔離處理腔室，且該關閉裝置在收縮狀態下開啟該處理腔室之間的連接。開啟該裝/卸口，如上所使用的，意味著該管件開啟該裝/卸口，由此，通過該開口裝/卸基板是可能的。優選地，開啟意味著該管件完全位於該開口的投影之外。
本實用新型將參考附圖更詳細地解釋。在附圖中圖I示出的是具有根據本實用新型在關閉狀態下的關閉裝置的用於處理基板的裝置的示意性截面視圖；圖2示出在圖I中所示的示意性截面視圖，其中該關閉裝置在開啟狀態；圖3是根據本實用新型的可選實施例的用於處理基板的裝置的示意性截面視圖，該裝置具有根據實用新型的在關閉狀態下的關閉裝置；圖4是類似於圖3的示意性截面視圖，其中該關閉裝置在開啟狀態；圖5示出根據本實用新型的關閉裝置的立體圖；圖6是根據圖5的關閉裝置的縱斷面視圖，其中該關閉裝置示出為在開啟狀態；圖7是類似於圖6的截面視圖，其中該關閉裝置示出為在關閉狀態；圖8是根據圖6的在開啟狀態的關閉裝置的放大的局部視圖；圖9是根據圖5的在關閉狀態的關閉裝置的立體截面視圖；圖10是根據圖5的在開啟狀態的關閉裝置的截面視圖；圖11是一可選的在關閉狀態的關閉裝置的放大的立體局部截面視圖；圖12是根據圖11的在開啟狀態的關閉裝置的放大的立體局部截面視圖。
具體實施方式
如下面描述中提及的位置和/或方位，其與附圖的視角有關，不應理解為限制本申請。但是，這些位置和/或方位可與優選的實施例相關聯。圖I和2示出用於處理基板，特別地用於處理半導體基板的裝置I的示意性截面視圖。裝置I 一般由處理腔室3和關閉裝置6組成。該處理腔室3具有一殼體8,其中該殼體8的內部限定一個處理腔室10。在該殼體8的橫向壁中形成一裝/卸口 12，該裝/卸口的尺寸確定為用於傳輸基板。基板支持件14位於該處理腔室中，用於支持和支撐一基板(未不出)。可通過旋轉軸16在處理腔室10中可旋轉地支持該基板支持件14，如圖I和2中所示。這樣的處理腔室3在本領域是公知的且可包含各種用於處理該基板的處理單元，如加熱單元、等離子單元、進氣單元和/或排氣單元，以在該處理腔室中獲得限定的氣體環境，等等。只要提供該裝/卸口，該處理腔室3也可不同於所示的構造。該關閉裝置6將在下面更具體地描述，特別地參考圖5-12。該關閉裝置6具有一個殼體20，其中一通道22橫向地延伸穿過該殼體20，且與該處理腔室3的裝/卸口 12對應。該殼體20以密封的方式連接至該處理腔室3，並且以使該通道22與處理腔室3的裝/卸口 12對準的方式連接。這樣，通過該關閉裝置6的通道22和處理腔室3的裝/卸口 12可將基板裝/卸進或出該處理腔室3。圖3和4示出一種用於處理基板的裝置的可選的構造，在示出的實施例中其包含兩個基板腔室3，該兩個處理腔室一般具有同樣的構造，如上所述。該兩個處理腔室3相鄰地配置以使第一處理腔室3的裝/卸口 12面對第二處理腔室3的裝/卸口 12。該關閉裝、置6及其殼體20配置在兩個處理腔室3之間以使該殼體20以密封的方式安裝在兩個處理腔室3之間。在這樣的配置中，該通道22配置為使該通道連接兩個處理腔室3的裝/卸口12。通過這種方式，只要該關閉裝置6是開啟狀態，如圖4中所示，從一個處理腔室到另一處理腔室直接傳輸基板是便利的。至少一個處理腔室3，特別地右邊的處理腔室3，如圖3和4中所示，包含一附加的裝/卸口 12，其可通過另一關閉裝置6打開(開啟)和關閉(閉合)。該關閉裝置6將在下面更具體地描述，也參考圖5-12。這些圖中，圖5-10示出位於兩個處理腔室3之間的關閉裝置6，其中只示出處理腔室的一小部分。應注意，該關閉裝置6也可鄰近單個的處理腔室3配置，如圖I和2所示。在圖11和12中，示出該關閉裝置的可選實施例，圖中省略了處理腔室。圖5示出該關閉裝置6的立體圖。圖6和7示出該關閉裝置6的示意性縱向斷面視圖，其中圖6示出該關閉裝置6的開啟狀態，而圖7示出關閉狀態。圖8是在開啟狀態的關閉裝置6端部的局部放大視圖，以及圖9和10是關閉裝置6的截面視圖，其中圖9示出一關閉狀態且圖10示出一開啟狀態。該關閉裝置6包含上面提及的殼體20，其中該殼體形成為矩形主體24，以及端部蓋體26。在該主體24中，形成有如上提及的橫向延伸的通道22和軸向延伸的通道27。該橫向延伸的通道22 —般根據該處理腔室3的裝/卸口而構形和確定大小，且因此適合用於傳輸基板從而裝載和卸載該處理腔室。該通道22與通道27交叉以使基板通過該通道22傳輸時也經過通道27的一部分。該通道22在通道22的中心以上但在通道22的最高點以下與通道27交叉，最好地如圖9和10所示。軸向延伸的通道27具有圓形的橫截區域，明顯地，其在通道22的區域中被截斷。該矩形主體24合適地以密封的方式安裝在兩個處理腔室3之間或在一個處理腔室3的一端，以使通道22與處理腔室3的對應的裝/卸口 12對準。該端部蓋體26可拆卸地安裝至該主體24的軸向相對的端部，例如，通過螺釘。在上下文中，可拆卸地安裝的含義是所有容許端部蓋體非破壞性地相對該主體24拆卸的安裝類型。該端部蓋體相同地構造且在下文中只描述一個端部蓋體。該端部蓋體26具有矩形的基體30和安裝凸緣32。該矩形基體30具有對應該矩形主體24的周邊形狀的周邊形狀。該基體30具有圓形凹部34，其具有和在主體24中的該通道27大體相同的直徑，且該凹部34和通道27對準。在主體24中的該通道27向該凹部34打開。該凹部34具有臺階以在其自由端(面對該主體24)容納0形環36，最好地如圖8中所示。該凹部34在底部具有環形凸部38。該安裝凸緣32 —般為管型，具有穿過該凸部38延伸至凹槽34的通道40。該安裝凸緣32如此設置大小以使該安裝凸緣32可連接至流體源和/或真空源(兩者均未示出)，比如通過連接到管。如果該端部蓋體26連接至該主體24，通道27在其端部被覆蓋。該關閉裝置6進一步包含關閉機構50，其容納在該主體24的通道27中且部分地容納在該端部蓋體26的該凹部34中。該關閉機構50 —般包含管52、支撐環54和固定元件56。該管52可以是由合適的材料如氟化橡膠、橡膠、矽或其它合適的材料形成的直管。該材料必須有足夠的柔韌性以能夠在例如在圖6中所示的收縮狀態以及例如在圖7中所示的凸出或展開狀態之間運動或變形。進一步，該材料必須能與通道27相配且特別地必須能為通道22提供密封功能。[0051]管52 —般具有與在主體24中的通道27相應的圓形橫截面區域。在未裝載狀態下，管52具有比主體24中的通道27的內周邊略小的外周邊。該管52具有比通道27更長的長度，以使該管能完全地延伸通過通道27且從通道27的兩側均能延伸。但是，該長度如此配置，使得該管的延伸部分可被在端部蓋體26中的凹部34容納，如圖6-7中所示。每一支撐套管54是環形的。每一支撐套管54容納在該管52的對應的一端部中，且將該管保持在一預定的敞開的構造中，如下面將更詳細地描述。該支撐套管54由合適的、具有足夠的穩定性材料構成，以使得該管52的端部保持預定的開口形狀。該支撐套管54的尺寸如此配置，即該支撐套管偏置該管52的相應的端部使其稍微敞開，且朝著該0形環38擠壓該端部。該固定元件56包含一細長杆件，其具有比在主體24中的通道27更長的長度。但是，該杆件的長度如此配置，以使得當關閉裝置6處於裝配狀態時，該杆件可接收在端部蓋體26之間。該固定兀件如此配置以使其延伸通過該管52。該固定兀件56的頂表面和底表面分別是圓形的。該底表面的圓形基本上與在主體24中的通道27的圓形一致，且該頂表面的圓形與在凹槽34中的凸部38的圓形基本上一致，如圖8中所示。該固定元件56具有中間區域58和端部區域59。該中間區域58具有比該端部區域59更大的厚度。特別地，該中間區域的厚度比該端部區域59的厚度大，它們的厚度差是支撐套管54的厚度值。因此，該固定元件56通過該端部蓋體26可夾持在預定的位置，其中該固定元件向在該主體24中的通道27推動該管52進入到所述的預定位置，最好如圖8中所示。通過此方法，管52的一部分，在此情況下是指下部，固定到限定的位置。通過此方法，防止了管52移動而離開該在這部分中的通道27。此方法可達到的一個特別的效果就是一旦例如真空施加至管52，該管向這樣固定安裝的部分收縮，下面將更具體地解釋。實際關閉元件即管的替換/維護可以簡單的方式執行，通過拆卸至少一個端部蓋體以及通過從通道27軸向移除該管，其中該管很可能為摺疊的或收縮的狀態。相反，該主體24可仍保持在其密封的狀態，這特別地有利於在兩個處理腔室之間的布置。該關閉裝置6的操作將參考附圖更詳細地解釋。起始點是指該關閉裝置6位於如圖7中所示位置的情況。壓縮流體，例如水，經過連接凸緣32而引導流過該管52。通過此方法，管略微向外延伸且牢固地抵壓該主體24中的通道27。在此狀態下，管52完全地阻塞橫向延伸的通道22且該管甚至可略微延伸進入該通道22，如本領域技術人員明顯可知的那樣。通過此方法，通道22在由交叉的通道27限定的兩個截面的區域被阻塞，且是密封的。相應地，處理腔室的該裝/卸口 12此時與外界環境密封。為了將該關閉裝置6的通道22和處理腔室3中的裝/卸口 12被打開，通過至少一個連接凸緣32在該管的區域中產生真空。如圖6中所示，該管收縮，且開啟該主體24中的通道22。在此情況下，支撐套管54的功能是保持該管52末端區域在設定的、密封的位置且與該0形環38接觸。該固定元件56使該管大體只向下地、朝向該管的由固定元件固定的那部分收縮。沒有該固定元件56，管將對稱地向中心收縮，可能將不會完全地開啟該通道22。因此，固定元件56的效果是增大該管在關閉位置和開啟位置之間的提升或移動距離。在圖6中所示的管52的狀態下，基板可通過該通道22和處理腔室3中的裝/卸口 12傳輸。例如，基板可從該處理腔室移除，且新的基板可裝載入該處理腔室以進行處理。其後，可釋放真空，其中釋放真空後，該管52將移動至展開或延伸狀態。通過施加壓縮流體，例如水，另一合適的流體或合適的氣體，該管52可延伸或展開至與該通道27再次接觸。在上面的描述中，提供了一種杆件形式的固定元件56，固定元件延伸穿過管52且迫使該管從通道27的內部抵壓通道27。可選地，還可在管52外側提供一固定元件，其中該固定元件在需被固定的部分牢固地連接至該管，例如通過膠粘至管或通過安裝固定元件如通環連接至該管。進一步，該固定元件56可形成為直杆，其中當施加真空至該管時，管52也可從該通道27的底部稍微提升直至該管接觸該固定元件且由該固定元件保持。在上面的描述中，提到該管52連接至增壓流體或真空以提供該管52的關閉和開啟位置。也可提供偏置裝置，其偏置該管52至開啟位置，例如內部彈性帶，其在該52的中間區域將管52向收縮狀態偏置。也可想到外部偏置元件，該外部偏置元件在中間區域向收縮狀態偏置該管。這樣的偏置元件的優勢是該管即使收縮時也可充填流體，其目的是，例如， 冷卻該管。雖然該主體24示出為具有由端部蓋體覆蓋每一端部的通道27，應指出，也可在主體24中提供盲孔。在此情況下，只有盲孔的一端將被相應的端部蓋體覆蓋。在此情況下該端部蓋體可包括兩個連接凸緣以為流體提供入口和出口。這樣，將可能只提供一個端部蓋體，其中流體可通過此端部蓋體灌入該管或可通過此端部蓋體在管中產生真空。這將是提供用於在該管中分配流體的分配元件的一種選擇，其中該分配元件可連接至流體/真空源。為此，固定元件56可適用，其中這樣的固定元件可包含軸向延伸的腔室或通道，且其中腔室或通道可包含交叉的水平開口。流體/真空可通過該固定元件均勻地分布在管中。特別地，將可能從該管的一端提供流體流至另一端。在另一通道兩端均敞開的實施例中使用分配元件也是有利的。圖11和12示出該關閉裝置6的替換實施例，其不同於上述的實施例，特別是對於該端部蓋體26以及對於該關閉機構50的構造。該主體24可如上述地構造。該端部蓋體26也可類似地構造，即，具有矩形基體30和連接凸緣32。同樣，設置凹部34，如前述的實施例，其中在此實施例中的該凹槽更深。此外，橫向孔60提供在該基體30中，其中該橫向孔60與該凹部34交叉。該關閉機構50包含管52、支撐套管54和固定元件，為了簡化，固定元件未在圖中示出。關閉元件50進一步包含第二管62。該管62大體上可以與上述的管52同樣的方式構造。該管62也可由與管52相同的材料形成；但是，該管62在未裝載狀態下具有比在未增壓狀態下的管52的內徑更小的外徑。進一步，管62比管52更長。特別地，該管62的尺寸如此設置以使該管62可延伸穿過該管52且可從管52的兩端突出，如圖11和12中的從一側所示。在管52和62之間形成一小的環形間隙。特別地，該管62的長度如此設置以使該管62也可在該凹部34中的橫向孔60上方延伸進入對應的凹部34，如可在圖11和12中所見。該支撐套管54具有環狀體，然而，在附圖11和12的實施例中，該環狀體比在前的實施例長。該支撐套管或支撐環54的尺寸設置使該支撐套管54裝入到管62內，並且在一端部區域稍微擴寬該管62。進一步地，該支撐環54的尺寸設置使得該支撐環部分地延伸進入該管52的端部區域，該端部區域在管62上方延伸，可參見附圖11和12。該支撐環54的尺寸設置使得該支撐環54可迫使該管62抵壓容納在凹部34中的O形環68，而同時，該支撐環54迫使該管52抵壓在該端部蓋體26和該主體24之間的過渡區域中的O形環38。[0068]因此，環間隙形成在介於該0形環38和該管52的一端之間的該凹部34中，其中該環間隙可通過該橫向孔60連接至真空，如下面將更具體地描述的那樣。根據圖11和12的該關閉機構50的操作將在下面更具體地描述。作為初始點，該關閉機構50處於圖11所示的位置。通過該連接凸緣32引導增壓流體穿過該管62以使得該管62膨脹且迫使該管62向外抵壓該管52。通過此方法，該管52被迫使抵壓在該主體24中的該通道27，以密封該橫向地延伸的通道22。為了打開該通道22，該管62中的壓強減小，且真空通過該橫向孔60施加在兩管62、52之間。由於該真空，該管52收縮並導致管52和62共同收縮且開啟通道22，如圖12中所示。可通過相應的固定元件如固定元件56控制該收縮。這種配置的優點在於真空施加在兩管52、62之間以提供開啟動作。通過此方法，可不間斷地甚至在該開啟機構在開啟狀態下引導降低壓強的流體穿過該內管62，從而例如保持預定的溫度，尤其是用於冷卻。除了簡單且低成本的構造，根據本實用新型的關閉裝置可提供如下好處-關閉元件本身，即該管，可填充一流體且可由此直接冷卻或控制為一預定的溫度，這防止了或至少減小了例如氣相的氣體的冷凝或其它微粒的沉積。-關閉元件本身，即該管，可簡單地維護/替換，無需從該處理腔室斷開與該主體的連接。-由於該管是柔韌性的，所以在該關閉和開啟位置之間的活動可以使得實際的關閉元件，即該管能夠自清潔；-該關閉裝置適用於真空。本實用新型參考優選實施例進行了描述，但是，本實用新型不限於直接示出的實施例。進一步，可結合和/或交換不同實施例的特徵，只要這些特徵是兼容的。
權利要求1.一種用於關閉和開啟用於處理基板的至少一個處理腔室的裝/卸口的裝置，該裝置包括 具有可連接至流體源和/或真空源的至少一個進口和/或出口開口的至少一個管件， 殼體，其具有用於容納該管件的腔室，該腔室在該殼體中軸向延伸，以及在橫向於軸向與該腔室交叉的通道，其中該通道與處理腔室的裝/卸口對準且其中該腔室具有圓形的橫截面區域；以及 至少一個固定元件，用於將該管件的一部分定位和固定在相對於該處理腔室的裝/卸口的一個預定的位置， 其中通過選擇性地施加流體和/或真空進入該管件，該管件能在展開狀態和向所述固定部分方向收縮的收縮狀態之間活動，其中該管件在展開狀態下阻塞該處理腔室的該裝/卸口，而在收縮狀態下開啟該處理腔室的該裝/卸口。
2.根據權利要求I的裝置，其特徵在於，該管件在展開狀態下的直徑至少是的被密封的處理腔室的裝/卸口的高度的兩倍大。
3.根據權利要求I或2的裝置，其特徵在於，腔室的尺寸設置使得該管件在展開狀態下在徑向方向上接觸該腔室的壁，且密封在殼體中的該通道從而密封該處理腔室的該裝/卸口，以及使得該管件在收縮狀態下開啟該通道。
4.根據權利要求I的裝置，其特徵在於，該固定元件是杆件，其相鄰於在該管件內的要被固定的部分延伸。
5.根據權利要求4的裝置，其特徵在於，該杆件迫使該管件要被固定的部分徑向地抵壓支撐件。
6.根據權利要求4的裝置，其特徵在於，該杆件迫使該管件要被固定的部分徑向地抵壓該殼體。
7.根據權利要求4-6中任一項的裝置，其特徵在於，該杆件包括軸向延伸的腔室，該腔室包括可連接至流體源和/或真空源的第一開口，以及至少一從該腔室延伸至該杆件的外側的通道。
8.根據權利要求I的裝置，其特徵在於，該固定元件是位於該管件外側的元件，且其中要被固定至該固定元件的部分連接到該固定元件，且其中該要被固定的部分特別是被膠粘或被硬化至其上。
9.根據權利要求I的裝置，其特徵在於，至少一個支撐套管設置在該管件的端部區域，該支撐套管保持該端部區域在預定的形狀，不論該管件在展開狀態或收縮狀態。
10.根據權利要求9的裝置，其特徵在於，該支撐套管迫使該管件在徑向方向抵壓支撐件，特別地抵壓在該殼體中的密封件。
11.根據權利要求I的裝置，其特徵在於，設置至少一個用於向該收縮位置偏置該管件的偏置元件。
12.根據權利要求11的裝置，其特徵在於，該偏置元件是位於該管件內側的彈性帶，特別地是和該管件一體形成的帶。
13.根據權利要求I的裝置，其特徵在於，以這樣的方式提供至少兩個管件第一管件至少部分地徑向環繞第二管件，其中該第一管件包含至少一個用於施加真空至第一管件內部的開口，且其中該第二管件包含至少一用於引導壓縮的流體至第二管件內部的開口。
14.根據權利要求I的裝置，其特徵在於，該管件分別在其每一相對的端部包含開口，以容許流體穿過該管件。
15.根據權利要求I的裝置，其特徵在於，所述基板為半導體基板。
16.用於處理基板的裝置，該裝置包括 至少一用於容納該基板的處理腔室； 至少一形成在該處理腔室的壁上的用於該基板的裝/卸口；以及 至少一根據權利要求I至15中的一項的裝置。
17.根據權利要求16的裝置，其特徵在於，設置兩個處理腔室，每一處理腔室包括面對相應的另一處理腔室的至少一個裝/卸口，其中處理腔室的相對的裝/卸口彼此互相對準以便於基板在處理腔室之間傳輸，以及其中根據權利要求1-13的一項的裝置位於相對的裝/卸口之間使得該裝置在展開狀態密封兩個裝/卸口，並因此互相隔離處理腔室，以及其中該裝置在收縮狀態開啟處理腔室之間的連接。
專利摘要描述了一種用於關閉和開啟至少一個用於處理基板的處理腔室的裝/卸口的裝置，以及一種用於處理基板的包括相應的關閉裝置的裝置。該關閉裝置包括至少一個管件，該管件具有至少一個可連接至流體源和/或真空源的進口和/或出口開口，和殼體，該殼體具有用於容納該管件的腔室，該腔室在該殼體中軸向延伸，以及橫向於軸方向與該腔室交叉的通道，其中該通道與處理腔室的裝/卸口對準且在其中該腔室具有圓形的橫截面區域。進一步，提供至少一個固定元件，用於將該管件的一部分定位和固定在相對於該處理腔室的裝/卸口的一個預定的位置。通過選擇性地施加流體和/或真空進入該管件的內部空間，在膨脹或展開狀態和向所述固定部分方向收縮的收縮狀態之間活動，其中該管件在展開狀態下阻塞該處理腔室的該裝/卸口且在收縮狀態下開啟該處理腔室的該裝/卸口。該用於處理基板的裝置包括至少一個具有裝/卸口和如上述類型關閉裝置的處理腔室。
文檔編號H01L21/67GK202384306SQ201120370430
公開日2012年8月15日 申請日期2011年8月4日 優先權日2010年8月4日
發明者P·沃克 申請人:森託塞姆熱解決方案兩合有限公司