用於檢查石墨烯板的設備和方法與流程
2023-05-23 14:18:01 2
用於檢查石墨烯板的設備和方法相關專利申請的交叉引用本申請要求於2012年4月9日提交到韓國知識產權局的第10-2012-0036800號韓國專利申請和於2012年8月8日提交到韓國知識產權局的第10-2012-0086942號韓國專利申請的優先權，其全部公開通過引用包含於此。技術領域與示例性實施例一致的設備和方法涉及儀器的測量，更具體地講，涉及檢查形成有石墨烯的石墨烯板。
背景技術：
隨著半導體技術的發展，正在積極執行關於新材料的開發。具體地講，正在進行對於包括碳的材料(例如，碳納米管、金剛石、石墨、石墨烯等)的研究。具體地講，作為包括碳的納米材料的石墨烯的導電率是銅的100倍或更高，並且可以以矽的100倍或者更高倍數的速度迅速轉移電子。因此，石墨烯已逐漸取代電子設備的導電材料，並且石墨烯板可以是一種導電材料。石墨烯板具有這樣的狀態：對由絕緣材料形成的基底上形成的石墨烯層進行圖案化。在第2010-175433號日本開放專利公布(laid-openPatentPublication)中公開了一種檢查石墨烯板的方法。詳細地講，該日本開放專利公布公開了一種通過在透明導電膜上照射紫外(UV)線來確定是否存在透明導電膜的方法。然而，需要更具體的方法來檢查石墨烯板。
技術實現要素：
一個或多個示例性實施例提供一種用於檢查石墨烯板的狀態的設備和方法。根據示例性實施例的一方面，提供一種用於檢查形成有至少一個石墨烯層的石墨烯板的石墨烯板檢查設備，所述石墨烯板檢查設備包括：光處理單元，將至少一束光照射到石墨烯板上，接收穿透石墨烯板的所述至少一束光，並將所接收的至少一束光轉換成輸出信號；透射率檢測單元，接收來自光處理單元的輸出信號以檢查穿透石墨烯板的所述至少一束光的透射率；和確定單元，連接到透射率檢測單元，並接收檢測的透射率以通過分析檢測的透射率來確定石墨烯板的狀態。所述至少一束光中的每束光可具有380nm到780nm的波長。可在外部光被阻擋的地方檢查石墨烯板。光處理單元可包括：室，具有密封的內部空間以阻擋外部光；基底支撐構件，布置在室中並具有安裝在它上面的石墨烯板；發光裝置，布置在基底支撐構件的上方，並將所述至少一束光照射到石墨烯板上；和光接收裝置，布置在基底支撐構件的下方，並接收穿透石墨烯板的所述至少一束光。發光裝置可布置在室的頂部。光接收裝置可布置在室的底部。從發光裝置發射的所述至少一束光可沿垂直方向穿透石墨烯板。基底支撐構件可沿水平方向移動石墨烯板。確定單元可包括：數據計算單元，通過分析檢測的透射率來計算所述至少一個石墨烯層的寬度和所述至少一個石墨烯層之間的間距；分類單元，通過分析檢測的透射率來將石墨烯板分類為好的石墨烯板和有缺陷的石墨烯板。用於對形成在石墨烯板中的所述至少一個石墨烯層進行圖案化的圖案化單元可布置在石墨烯板檢查設備的前端。石墨烯板可包括透明材料，從光處理單元發射的所述至少一束光穿透該透明材料。光處理單元可包括：發光裝置，發射光；光分割單元，將從發光裝置發射的光分割成包括多束光的所述至少一束光，並將分割的所述至少一束光照射到石墨烯板；和光接收裝置，接收穿透石墨烯板的所述至少一束光。根據另一示例性實施例的一方面，提供一種檢查石墨烯板的方法，所述方法包括：製備在基底上形成有至少一個石墨烯層的石墨烯板；將至少一束光照射到石墨烯板；檢測穿透石墨烯板的所述至少一束光的透射率；以及通過分析檢測的透射率來確定石墨烯板的狀態。所述至少一束光可具有380nm到780nm的波長。所述方法可還包括：通過分析所述至少一束光的透射率來測量形成在石墨烯板上的所述至少一個石墨烯層的寬度和所述至少一個石墨烯層之間的間距。附圖說明通過參照附圖詳細描述示例性實施例，以上和其它方面將會變得更加明顯，其中：圖1是根據示例性實施例的安裝有石墨烯板的石墨烯板檢查設備的示意性框圖；圖2是根據示例性實施例的圖1中示出的確定單元的框圖；圖3是根據示例性實施例的由圖1的石墨烯板檢查設備檢查的石墨烯板的剖視圖；圖4是示出根據示例性實施例的穿透石墨烯板的光的透射率的曲線圖；圖5示出根據示例性實施例的圖1中示出的發光裝置的結構；圖6示出根據示例性實施例的圖1中示出的光接收裝置的結構；圖7A是根據示例性實施例的石墨烯層的一部分形成得相對較低的石墨烯板的剖視圖；圖7B是示出根據示例性實施例的穿透圖7A的石墨烯板的光的透射率的曲線圖；圖8A是根據示例性實施例的在未形成有石墨烯層的區域中包括石墨烯的廢料的石墨烯板的剖視圖；圖8B是示出根據示例性實施例的穿透圖8A的石墨烯板的光的透射率的曲線圖；圖9A是根據示例性實施例的石墨烯層未形成在應該形成有石墨烯層的區域中的石墨烯板的剖視圖；圖9B是示出根據示例性實施例的穿透圖9A的石墨烯板的光的透射率的曲線圖；圖10A是根據示例性實施例的石墨烯層形成在不應該形成有石墨烯層的區域中的石墨烯板的剖視圖；圖10B是示出根據示例性實施例的穿透圖10A的石墨烯板的光的透射率的曲線圖；圖11是根據另一示例性實施例的安裝有石墨烯板的石墨烯板檢查設備的框圖；圖12是根據另一示例性實施例的石墨烯板檢查設備的框圖；和圖13是顯示根據示例性實施例的檢查石墨烯板的方法的流程圖。具體實施方式現在將參照附圖詳細描述根據發明構思的示例性實施例。附圖中的相同標號可表示相同的元件。圖1是根據示例性實施例的安裝有石墨烯板301的石墨烯板檢查設備101的示意性框圖。參照圖1，石墨烯板檢查設備101包括：光處理單元110、透射率檢測單元121、確定單元131、存儲單元141和顯示單元151。石墨烯板檢查設備101檢查石墨烯板301的狀態。換句話說，石墨烯板檢查設備101通過利用光檢查石墨烯板301來確定石墨烯板301是處於好的狀態還是處於壞的狀態。圖3是石墨烯板301的剖視圖。參照圖3，石墨烯板301包括：基底311；和石墨烯層321，具有特定圖案並形成在基底311上。換句話說，基底311包括：區域331，石墨烯層321形成在區域331中；區域335，石墨烯層321不形成在區域335中。因此，如果光被發射到石墨烯板301上，則穿透形成有石墨烯層321的區域331的光的透射率和穿透未形成有石墨烯層321的區域335的光的透射率彼此不同。石墨烯板檢查設備101通過利用這個事實來檢查石墨烯板301。基底311可由這樣的材料形成：光可穿透該材料，但該材料不導電，例如，從由聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、乙二醇改性聚對苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalateglycol，PETG)和聚碳酸酯構成的組選擇的至少一種材料。光處理單元110將光照射到石墨烯板301上，接收穿透石墨烯板301的光，將接收的光轉換成電信號，並輸出電信號。照射到石墨烯板301的光可具有波長為380nm到780nm的光線。具體地講，當光線具有550nm的波長時，穿透石墨烯板301的光相對於石墨烯板301(例如，石墨烯層321和/或基底311)具有最高的透射率。因此，可優選地使用具有550nm的波長的可見光線來檢查石墨烯板301。然而，發明構思不限於此，可以使用能夠測量穿透石墨烯板301的光的透射率的光線(包括輻射線、UV光或雷射)。圖4是示出穿透石墨烯板301的光的透射率的曲線圖。參照圖4，穿透形成有石墨烯層321的區域331(參見圖3)的光的透射率421不同於穿透未形成有石墨烯層321的區域335(參見圖3)的光的透射率411。換句話說，穿透形成有石墨烯層321的區域331的光的透射率421低於穿透未形成有石墨烯層321的區域335的光的透射率411。此外，光的透射率根據光的波長而變化。例如，如果光的波長是550nm，則穿透石墨烯板301的光的透射率最高。詳細地講，當光具有550nm的波長時，穿透形成有石墨烯層321的區域331的光的透射率421是81％，並且穿透未形成有石墨烯層321的區域335的光的透射率411是89％。如此，可利用具有550nm的波長的光檢查石墨烯板301的狀態。光處理單元110包括：室113、基底支撐構件114、發光調節單元111、發光裝置112和光接收裝置115。室113具有密封的內部空間，以使得光不能從外面進入室113。待檢查的石墨烯板301被安裝在室113裡面。通過防止光從外面進入室113，當將光照射到石墨烯板301時，可精確地測量光的透射率。石墨烯板301進入的入口(未示出)和石墨烯板301離開的出口(未示出)形成在室113中。室113可被形成為具有各種形狀中的任何形狀，例如四邊形的桶形狀或圓柱形形狀。基底支撐構件114可布置在室113的裡面的中間。石墨烯板301安裝在基底支撐構件114上。石墨烯板301可在檢查期間保持在水平位置。因此，基底支撐構件114被水平地支撐以使石墨烯板301保持在水平位置。石墨烯板檢查設備101可對石墨烯板301的各種區域執行檢查。因此，基底支撐構件114可具有這樣的結構：石墨烯板301可容易地沿水平方向移動。基底支撐構件114可被構造為輸送機或卷對卷類型構件以容易地移動石墨烯板301。如果基底支撐構件114被構造為卷對卷類型構件，則基底支撐構件114包括用於傳送的輥(未示出)、供應捲筒(未示出)和接收捲筒(未示出)。用於傳送的輥從室113的入口朝著室113的出口傳送纏繞在供應捲筒上的石墨烯板301。基底支撐構件114可按照恆定速度傳送石墨烯板301，或者可臨時停止石墨烯板301。換句話說，當石墨烯板檢查設備101檢查許多石墨烯板301時，基底支撐構件114按照恆定速度傳送安裝的石墨烯板301，但當石墨烯板檢查設備101更準確地檢查石墨烯板301時，需要將石墨烯板301停止預定時間段。為此，基底支撐構件114可按照恆定速度移動安裝的石墨烯板301，或者可臨時停止石墨烯板301。基底支撐構件114可被構造為不僅沿水平方向移動，還沿垂直方向移動，以檢查石墨烯板301的各個區域。此時，發光裝置112和光接收裝置115固定到一個地方。根據示例性實施例，光處理單元110可包括兩個或更多的發光裝置112和/或兩個或更多的光接收裝置115。除了石墨烯板301之外，將要測量透射率的各種其它構件也可被安裝在基底支撐構件114上。發光調節單元111控制發光裝置112的操作。發光調節單元111設置從發光裝置112發出的光的類型、強度、波長等。在最初設置之後，可由用戶在使用發光裝置112期間改變光的類型、強度、波長等。發光裝置112布置在基底支撐構件114的上方，也就是說，布置在室113的頂部。如果石墨烯板301安裝在基底支撐構件114上，則發光裝置112將光照射到石墨烯板301。從發光裝置112發射的光需要穿透形成有石墨烯層321的區域331和未形成有石墨烯層321的區域335(即，石墨烯層321之間的區域)(參見圖3)。因此，從發光裝置112發射的光的寬度被形成為小於石墨烯層321之間的間距P1或者石墨烯層321的寬度。參照圖5，發光裝置112可包括：光源511、聚光透鏡521、選擇濾光器531和平整透鏡(planarizinglens)541。光源511、聚光透鏡521、選擇濾光器531和平整透鏡541沿垂直方向排列。光源511產生光並將產生的光照射到聚光透鏡521。聚光透鏡521使入射光變為平行光並輸出平行光。選擇濾光器531僅透射穿透聚光透鏡521的不同波長光之中的特定波長光，例如具有550nm的波長的可見光線。平整透鏡541接收穿透聚光透鏡521的光，使光平整，並將光傳遞到基底支撐構件114。換句話說，穿透平整透鏡541的光的強度在其光斑空間範圍內變得均勻。平整透鏡541可由複眼透鏡的柱狀透鏡形成。發光裝置112可發射雷射。此時，發光裝置112可在光源511和基底支撐構件114之間順序地包括：掃描光學系統(未示出)、傳播光學系統(未示出)和物鏡(未示出)。掃描光學系統通過包括聲光裝置、電流鏡和多面鏡之一來使從光源511照射的雷射變為雷射束並照射雷射束。傳播光學系統通過包括合成石英透鏡來傳播雷射束。物鏡將從傳播光學系統照射的雷射束轉換成更小的雷射束。光接收裝置115布置在基底支撐構件114的下方，也就是說，布置在室113的底部。光接收裝置115和發光裝置112布置在同一垂直線上，以使得光接收裝置115可接收從發光裝置112發射並穿透石墨烯板301的光。光接收裝置115將接收的光轉換成電信號並輸出電信號。參照圖6，光接收裝置115可包括：聚光透鏡611、濾光器621和光電轉換裝置631。聚光透鏡611、濾光器621和光電轉換裝置631沿豎直方向布置在基底支撐構件114的下方。聚光透鏡611聚集穿透石墨烯板301的光，並將聚集的光傳輸到濾光器621。濾光器621僅透射具有與從發光裝置112發射的光的波長相同的波長的光，並阻擋具有與從發光裝置112發射的光的波長不同的波長的其它光。光電轉換裝置631將穿透濾光器621的光轉換成電信號並輸出所述電信號。光電轉換裝置631可包括光電二極體。光電轉換裝置631可具有檢測微弱的光的能力和快的響應速度。發光裝置112和光接收裝置115可被形成為沿水平方向移動以檢查石墨烯板301的各個區域。此時，基底支撐構件114被固定到一個位置。透射率檢測單元121接收從光接收裝置115輸出的信號，並檢測穿透石墨烯板301的光的透射率。確定單元131接收從透射率檢測單元121輸出的透射率檢測信號，並確定石墨烯板301的狀態。換句話說，確定單元131確定石墨烯層321(參見圖3)的狀態和石墨烯層321之間的基底的狀態是好的還是壞的。參照圖2，確定單元131包括數據計算單元133和分類單元135。數據計算單元133接收由透射率檢測單元121檢測的光，並計算石墨烯層321(參見圖3)的寬度和石墨烯層321之間的間距P1(參見圖3)。在本實施例中使用的間距指的是圖3的間距P1，還指的是未形成有石墨烯層321的區域335的一個線寬度和石墨烯層321的一個線寬度之和。當在移動石墨烯板301的同時檢查石墨烯板301時，光照射到石墨烯層321的一端和另一端，以測量石墨烯板301的移動距離，並且通過使用測量的石墨烯板301的移動距離可計算石墨烯層321的寬度。通過使用相同的方法可測量石墨烯層321之間的間距P1。此外，分類單元135接收由透射率檢測單元121檢測的光的透射率，並確定石墨烯板301的狀態。換句話說，如果石墨烯板301的狀態是好的，則穿透形成有石墨烯層321的區域331的光的透射率是81％，並且穿透未形成有石墨烯層321的區域335的光的透射率是89％。然而，如果石墨烯板301包括異常部分，則穿透形成有石墨烯層321的區域331的光的透射率可高於81％，穿透未形成有石墨烯層321的區域335的光的透射率可低於89％。參照圖7A和7B，當石墨烯板301包括低於規範而形成的石墨烯層321a時，穿透石墨烯層321a的光721的透射率721a可高於穿透處於正常狀態的石墨烯層321的光711的透射率711a，例如大約84％的透射率。參照圖8A和8B，如果未形成有石墨烯層321的區域包括石墨烯的廢料341，則穿透廢料341的光821的透射率821a可低於穿透未形成有石墨烯層321的區域的光811的透射率811a，例如大約86％的透射率。如果石墨烯的廢料341是外來雜質而非石墨烯，則光的透射率可低於84％。參照圖9A和9B，當石墨烯層321未形成在應該形成有石墨烯層的區域331中時，穿透石墨烯層321的光921的透射率921a進一步高於穿透石墨烯層321的光911的透射率911a，例如大約89％的透射率。參照圖10A和10B，當石墨烯層332部分地形成在不應該形成有石墨烯層321的區域335中時，穿透部分石墨烯層332的光1021的透射率1021a可進一步低於穿透未形成有石墨烯層321的區域335的光1011的透射率1011a，例如，大約81％的透射率。如此，當由透射率檢測單元121檢測的光的透射率為82％到88％時，分類單元135可將石墨烯板301歸類為有缺陷的石墨烯板。在這個方面，考慮到透射率的偏差，分類單元135可將缺陷的範圍設置為83％到87％。發光調節單元111、透射率檢測單元121和確定單元131可被單獨地包括，或者可被包括在一個設備(即，控制器120)中。存儲單元141可存儲由確定單元131處理的數據。存儲單元141可被包括在確定單元131或控制器120中。顯示單元151可在屏幕上顯示由確定單元131處理的數據。顯示單元151可被構造為發光二極體(LED)顯示器或液晶顯示器(LCD)。圖11是根據另一示例性實施例的安裝有石墨烯板301的石墨烯板檢查設備1101的框圖。參照圖11，石墨烯板檢查設備1101包括：光處理單元110a、透射率檢測單元121、確定單元131、存儲單元141和顯示單元151。除了光處理單元110a之外，圖11中示出的石墨烯板檢查設備1101具有與圖1的石墨烯板檢查設備101相同的結構，因此，將會僅描述光處理單元110a，以避免重複的描述。光處理單元110a將多條光線照射到石墨烯板301的前表面，接收穿透石墨烯板301的光，將光轉換成電信號，並輸出電信號。照射到石墨烯板301的光可以是具有380到780nm(例如，550nm)的波長的光線。然而，本實施例不限於此，並且可使用輻射線、UV光或雷射。已參照圖4描述了光的波長，因此，在這裡省略重複的描述。光處理單元110a包括：室113、基底支撐構件114、發光調節單元111、發光裝置112、光分割單元161和光接收裝置115a。已參照圖1詳細地描述了室113、基底支撐構件114、發光調節單元111和發光裝置112，因此，在這裡省略重複的描述。光分割單元可由分束器實現，分束器將從發光裝置112發射的光分割成多條光線並將所述多條光線照射到石墨烯板301。換句話說，分束器將光照射到石墨烯板301的前表面。所述多條光線中的每條光線的寬度小於所述至少一個石墨烯層之間的間距和所述至少一個石墨烯層中的每個石墨烯層的寬度。如此，通過經由包括分束器將所述多條光線照射到石墨烯板301的前表面，可一次檢查石墨烯板301。因此，減少用於檢查石墨烯板301的時間。具體地講，顯著減少用於檢查具有大面積石墨烯的石墨烯板301的時間。光接收裝置115a布置在基底支撐構件114的下方，也就是說，布置在室113的底部。光接收裝置115a和發光裝置112布置在同一豎直線上，以使得光接收裝置115a可接收從發光裝置112發射並穿透石墨烯板301的光。光接收裝置115a同時接收穿透石墨烯板301的多條光線。光接收裝置115a將接收的光轉換成電信號並輸出所述電信號。參照圖6，光接收裝置115a可包括：聚光透鏡611、濾光器621和光電轉換裝置631。在這個方面，聚光透鏡611、濾光器621和光電轉換裝置631的數量可對應於穿透石墨烯板301的光線的數量。例如，如果二十條光線穿透石墨烯板301，則可包括二十個聚光透鏡611、二十個濾光器621和二十個光電轉換裝置631。聚光透鏡611聚集穿透石墨烯板301的光，並使聚集的光透射到濾光器621。濾光器621僅透射具有與從發光裝置112發射的光的波長相同的波長的光，並阻擋具有與從發光裝置112發射的光的波長不同的波長的其它光。光電轉換裝置631將穿透濾光器621的光轉換成電信號並輸出電信號。光電轉換裝置631可包括光電二極體。光電轉換裝置631可具有檢測微量的光的能力和快的響應速度。光分割單元161(即，分束器)和光接收裝置115a可被形成為沿水平方向移動，以檢查石墨烯板301的各個區域。此時，基底支撐構件114固定到一個位置。圖12是根據另一示例性實施例的石墨烯板檢查設備1201的框圖。參照圖12，石墨烯板檢查設備1201包括圖案化單元1211、多個檢查單元101和1101。圖案化單元1211對形成在基底311(參見圖3)上的石墨烯層321(參見圖3)進行圖案化。化學氣相沉積(CVD)方法可用於在基底311上形成石墨烯層321。換句話說，形成有金屬催化劑層(諸如，銅)的基底構件被放入到室(未示出)中，並且包括碳和熱量的氣體被應用於該室，因此，金屬催化劑層吸收碳。然後，通過迅速冷卻基底構件，從金屬催化劑層分離碳，然後，使碳結晶。然後，結晶的碳被轉移到基底，並且金屬催化劑層被去除，以由此完成石墨烯板301的製造。圖案化單元1211將光致抗蝕劑塗覆在石墨烯層321(參見圖3)上，對光致抗蝕劑執行掩蔽、曝光和顯影處理，石墨烯板301被蝕刻，並且石墨烯板301中剩餘的光致抗蝕劑被去除，由此完成石墨烯層321的圖案化。然而，發明構思不限於此，並且圖案化單元1211可通過使用等離子體的幹蝕刻或拋光來對石墨烯層321進行圖案化。檢查單元101和檢查單元1101分別具有與圖1中示出的石墨烯板檢查設備101和圖11中示出的石墨烯板檢查設備1101相同的結構，因此，在這裡省略重複的描述。如此，由於圖案化單元1211可位於檢查單元101和1101的前端以立即檢查圖案化的石墨烯板301。因此，當檢查單元101和1101檢測到對石墨烯板301進行圖案化的錯誤時，錯誤可被立即校正。因此，石墨烯板301的製造時間和製造成本可顯著降低。圖13是示出根據示例性實施例的檢查石墨烯板的方法的流程圖。參照圖13，該方法可包括操作1311至1341。將參照圖1至3描述檢查石墨烯板的方法。在操作1311中，製備在基底311上對石墨烯層321進行了圖案化的石墨烯板301(參見圖3)。為了製備石墨烯板301，在基底311上形成石墨烯層321並對石墨烯層321進行圖案化的處理是必需的。在操作1321中，光117被照射到石墨烯板301。照射到石墨烯板301的光117(參見圖1)可被沿垂直方向或者水平方向照射。光117具有特定波長，並且具有不同波長的光可被阻擋。為此，待檢查的石墨烯板301可被布置在阻擋外部光的密封空間中。然而，當光具有高直進性質時，可在開放空間中檢查石墨烯板301。在操作1331中，檢查穿透石墨烯板301的光117(參見圖1)的透射率。在穿透石墨烯板301的光117之中，穿透形成有石墨烯層321的區域331(參見圖3)的光的透射率不同於穿透未形成有石墨烯層321的區域335的光的透射率，因此，需要檢查精確的透射率。在操作1341中，通過分析檢測到的光的透射率來確定石墨烯板301的狀態。換句話說，計算石墨烯層321(參見圖3)的寬度和石墨烯層321之間的間距P1(參見圖3)，並且確定石墨烯層321的形狀和基底311的形狀。通過使用確定的數據來確定石墨烯板301是否具有缺陷。詳細地講，通過計算石墨烯層321的寬度和石墨烯層321之間的間距P1或者通過確定石墨烯層321的形狀和基底311的形狀，可確定石墨烯板301是否具有缺陷。如上所述，通過在石墨烯板301上使用能夠測量穿透石墨烯板301的光的透射率的可見光線和波長以及檢測穿透石墨烯板301的光117的透射率，可檢查石墨烯板301的狀態。具體地講，通過允許光穿透石墨烯板301，可測量石墨烯層321的寬度和石墨烯層321之間的間距P1。如此，通過使用能夠測量穿透石墨烯板301的光的透射率的可見光線和波長檢查石墨烯板301，可顯著減少用於檢查石墨烯板301的時間。具體地講，可大大減少用於檢查形成有大面積石墨烯層321的石墨烯板301的時間。通過將可見光線照射在石墨烯板上並檢測穿透石墨烯板的光的透射率，可檢查石墨烯板的狀態。具體地講，通過檢測穿透石墨烯板的光的透射率，可測量石墨烯層的寬度和石墨烯層之間的間距。如此，通過使用能夠測量穿透石墨烯板301的光的透射率的可見光線和波長檢查石墨烯板，可顯著減少用於檢查石墨烯板的時間。具體地講，可大大減少用於檢查形成有大面積石墨烯層的石墨烯板的時間。儘管已參照發明構思的示例性實施例具體地示出和描述了發明構思，但本領域普通技術人員將會理解，在不脫離由權利要求限定的發明構思的精神和範圍的情況下，可對其做出各種形式和細節上的修改。