靜態反應性射流混合機以及在胺-光氣混合工藝過程中混合的方法
2023-05-15 18:00:26 3
專利名稱：靜態反應性射流混合機以及在胺-光氣混合工藝過程中混合的方法
技術領域：
本申請涉及具有多個噴嘴的靜態混合機，更一般地涉及靜態反應性射流混合機以及其用於混合光氣和胺的方法，其中另外的一排或多排噴嘴造型用於局部增濃部分光氣流以限制在該光氣流中形成不期望的二級反應。
背景技術：
常規混合裝置的領域可以大致分為兩個主要範圍動態混合機和靜態混合機。動態或機械混合機依賴於一定類型的移動部件以確保產物的所需和/或徹底混合。靜態混合機通常沒有突出的移動部件，而是依賴於待混合的流體內的壓差以促進混合。本申請主要涉及靜態混合機但是也可以適用於動態混合機。異氰酸酯是特徵在於具有N=C=O官能團的分子。最廣泛使用的異氰酸酯是源自苯的芳族化合物。兩種多異氰酸酯在商業上廣泛製備，即，甲苯二異氰酸酯(TDI)和聚合的亞甲基二苯基二異氰酸酯(PMDI)。PMDI是聚亞甲基二異氰酸酯和單體亞甲基二苯基二異氰酸酯異構體的混合物。最後，這些異氰酸酯與多元醇反應形成聚氨酯。兩種主要的聚氨酯應用是用於器具絕緣件和汽車部件的硬質泡沫體和用於床墊和座椅的撓性泡沫體。胺和光氣之間的反應通常在下述條件下發生，其中同時存在傳質限制的反應或混合控制的反應以及動力學控制的反應。收率損失和產品品質受在生產工藝中形成的脲和脲衍生物的影響。光氣應該捲入胺流以最小化二級反應。混合在PMDI和TDI生產中是重要的。PMDI產品品質和TDI收率取決於多步化學反應網絡，包括第一步，其中將反應物的兩個連續物流引入到混合機，並且其中，由於在工藝的第一步產生的化合物的剩餘反應性，在主反應之後產生的二級作用或反應發生並最終降低產物組成的品質。例如，在光氣化化學反應的情況下，亞甲基二(苯基胺)(MDA或PMDA)(在本申請也稱為胺)，與COCl2 (光氣)混合以產生氫氯酸(HCl)和氨基甲醯氯的混合物。該化學反應可以如下描述胺+COCl2 — HCl+氨基甲醯氯氨基甲醯氯然後將分解成異氰酸酯。儘管產生異氰酸酯是期望的，但是二級反應可能導致產生不期望的副產物。認為這些二級反應中的一些產生下述產物,例如胺鹽酸鹽、脲、碳化二亞胺、和脲酮亞胺(uretonimines)。脲酮亞胺由碳化二亞胺與異氰酸酯的反應形成，因此通常稱為APA(加成產物A)。由於不希望形成副產物例如脲和/或脲酮亞胺，因此增加光氣與PMDA的比率、在溶劑中稀釋PMDA、或改善的混合能夠最小化不期望副產物的形成和淤塞(fouling)。很多已知和未知的因素控制主反應的品質。除了形成副產物之外，不適當的混合可能導致混合機淤塞。因此，具有不適當混合的混合機設計可能造成所需產物的總收率降低或者可能產生堵塞或淤塞反應器系統的產物，導致停機時間和/或增加的維修成本。與本申請的發明人至少部分相同的美國專利申請11/658，193涉及錐形孔的靜態混合機。在該申請中，多T型混合機(mult1-tee mixers)包括三通管接頭和具有噴嘴的直管部分和用於快速引發化學反應的蓋板(blind flange)。在這些現有技術的多T型混合機的接頭包括混合室，混合室具有用於至少兩種組分的單獨入口以及具有出口。組分之一的入口沿多T型混合機的縱軸限定，其它組分的入口作為多個噴嘴或噴射器形成，所述噴嘴或噴射器圍繞混合室的外周布置且方向垂直於多T型混合機的縱軸。在另一篇參考文獻中，即發明人也至少部分相同的2010年3月16日提交的美國專利申請12/725，262，最小化混合區域下遊的主要管道的長度，從而限制不適當的混合以及副產物的形成。再在另一篇參考文獻中，即發明人也至少部分相同的2010年3月16日提交的美國專利申請12/725，266，不適當的混合通過以下過程降低將導向元件引入到靜態混合機的主要管道，以使得引入的光氣均勻流入具有有限厚度的環，由此外周噴嘴可以用較大接觸面積的光氣散布胺。儘管這些參考文獻教導改善的混合併且通過參考完全併入本申請，但是期望其它的改進以增強組分物質的混合。圖1顯示第一圓柱形管道內的流體接收室內的光氣濃度，其中形成從圖的左邊到右邊的光氣流。將胺噴射進第一組分的引入流。當胺橫穿並與光氣反應時，發生主反應和二級反應。位於距離L的環形說明胺噴射流的下遊側上的區域，其中光氣濃度相對較低(接近於O)。圖2所示的相關溫度圖說明由於總體放熱化學反應，混合物內的溫度分布。再次，顯示位於噴嘴下遊距離L1處的環形比圖1的距離L遠，並且局部溫度增加，促進形成二級反應和有關的副產物。儘管在圖1-2中顯示了相對低光氣濃度的一個位置(L)和增加的局部溫度的一個位置(L1),但是本領域技術人員會知道，這些值僅表示一般的效果並且可以根據多種因素變化，所述因素包括但不限於流體粘度，流體速度，溫度，反應物濃度，壓力等。所需要的是靜態反應性射流混合機，其能夠限制在混合過程中光氣和胺的主要流內的濃度和溫度峰值，因此限制在靜態混合機生成脲或其它不期望的副產物。
發明內容
本申請涉及具有多個噴嘴的靜態反應性射流混合機，更一般地涉及混合機以及使用混合機混合光氣和胺的方法，其中有形狀的噴射器或第二排噴嘴、或兩者的組合用於增濃靜態反應性射流混合機內的光氣不足區域。增濃二級流的構造包括使用位於胺流的第一排噴嘴下遊的光氣的偏移或交錯排噴嘴，使用胺/光氣的同心、偏心、或偏移噴射器，使用具有不同和不規則幾何形狀的噴嘴以幫助將光氣增濃於主要胺流周圍的特定區域。
在附圖中顯示某些優選的實施方式。但是，應理解本申請不限於附圖所示的排列和構造。圖1說明第二組分分配到第一組分的流中，顯示第一組分的濃度不足區域。圖2說明圖1的溫度分布。圖3說明根據本發明實施方式的靜態混合機，其具有第一排噴嘴和偏離第一排噴嘴距離L2的第二排噴嘴。圖4是圖3的靜態混合機的等距離說明，其中根據本申請實施方式，第二排噴嘴偏離距離L2並且與第一排交錯。
圖5是圖3的靜態混合機的等距離說明，其中根據本申請實施方式，第二排噴嘴與第一排噴嘴偏離距離L。圖6是靜態反應性射流混合機的平面圖，其中根據本申請實施方式，第一排噴嘴和第二排噴嘴連接於外部圓周壁內的縱向管道。圖7是具有增濃系統的靜態反應性射流混合機的平面圖，其中根據本發明實施方式，第一排噴嘴和第二排噴嘴是同心的，並且其中第一排噴嘴連接於縱向管道，第二排噴嘴垂直於外部圓周壁。圖8是圖4的噴嘴部分的封閉圖。圖9說明圖8所示噴嘴的一系列可行形狀。圖10是說明圖7的噴嘴在噴嘴內偏移同心的混合機的圖。圖1lA是在圖10說明的不同表面的頂視圖，其中第二噴嘴包括圓柱形第一開口，
第二開口與第一開口同心。圖1lB是根據本申請另一種實施方式，偏心置於第二噴嘴的形狀不規則的開口中的圓柱形第一噴嘴的視圖。圖1lC是根據本申請另一種實施方式，菱形第二噴嘴開口和圓形同心的第一噴嘴開口的視圖。圖1lD是根據本申請另一種實施方式，菱形第二噴嘴開口在菱形同心的第一噴嘴開口中的視圖。圖12是根據本申請一種實施方式，圖7的具有增濃系統的靜態反應性射流混合機的切去透視圖(perpective cut away)。
具體實施例方式針對促進和理解本發明和本申請公開的原理的目的，現在參考附圖中說明的優選實施方式，專門的術語用於描述這些優選實施方式。但是應該理解的是，沒有因此限制本發明的範圍。在說明的裝置中這樣的改變和進一步的修正以及本申請公開的原理的進一步應用通常應該為本申請所屬領域技術人員所理解。某些
位於混合機壁上部的垂直流入口，該垂直流進入位於入口下的從左移動到右的水平流。在水平流之下可以是平直的壁或管線。儘管僅顯示了一個示意圖，但是本領域技術人員應該會理解，圖1、2、3、6、7、和10說明整個結構，其中入口可以圍繞混合機的整個外圍對稱分布，而在其它附圖中，例如圖3，在該流以下的水平結構可用於幫助限定流動空間並表不對稱的管線，其它結構等。在大多數靜態反應性射流混合機中，通常包含溶劑的胺流流動通過噴嘴進入光氣的主交叉流。該「交叉流」可以表示多個不同的構造和有關的幾何形狀，其中胺的射流以不同角度、方向、速度、和穿透性質進入光氣流。胺射流進一步產生湍流尾流，其在引入的下遊方向並且導致光氣不足區域和加熱區域，如圖1和2所示。顯示幾種新型的噴射器設計以改善光氣的交叉流內的胺分布。這些設計用光氣增濃光氣不足區域並降低胺-光氣界面的溫度。可以使用幾種構造，即，使用多排錐形或非錐形噴嘴用於引入胺流、或光氣；使用具有形狀的噴嘴已改變胺射流進入光氣流的分布；以及使用「噴射器中套噴射器(jet-1n-jet) 」混合噴嘴，其中噴嘴的主要流由來自同心、偏心或不規則形狀的二級噴嘴的流體包圍。
圖1和2說明用於混合的流體接收室中移動的第一組分內第二組分流的體積分布和溫度分布。顯示的是如何在固定距離(顯示為圖1中的L)，存在光氣不足，接近該區域的是可以添加第二排噴嘴以減輕該光氣不足。圖2表明，溫度沿在距離L1的胺射流下遊增力口。本申請的一個目的是在離第一噴嘴距離L2的點引入光氣的第二噴射流，以在光氣不足區域增濃光氣。圖3使用箭頭10 - 14和17分別說明在根據第一實施方式的靜態反應性射流混合機I內含有或不含有溶劑的第一組分和第二組分(例如光氣和胺)的流。在該實施方式中，第二排噴嘴16位於沿混合機I主體的第一排噴嘴15的偏離距離L2處。第一組分，例如光氣或帶有溶劑的光氣，流入混合機1，如箭頭10所說明。第二組分，例如胺11或帶有溶劑的胺，然後與第一組分混合，如在第一排噴嘴15處的箭頭13顯示。儘管顯示了 T-形噴嘴，預期的是使用任何噴嘴形狀和角度，包括但不限於錐形噴嘴，例如，在圖6中所示，或具有不同形狀的噴嘴，如圖8-9所示。在圖4和5的透視圖中所示的混合機I中，第二排噴嘴16位於第一排噴嘴15下遊距離L2處，或以圖4所示的交錯構造，或以圖5所示的簡單縱向偏移構造。在14在偏離第二組分的第一引入流距離L2處，經噴嘴16將第一組分的第二流12添加到混合物，從而在圖1和2中說明的混合流內濃度和溫度的具體區域稀釋和冷卻該流。在一種實施方式中，將光氣或由光氣和溶劑組成的組合物注入混合機I。在一種優選的實施方式中，在噴嘴11，注入胺的流，在噴嘴12將光氣的第二流添加到混合物以幫助補償任何不足。在圖4中所示的另一種實施方式中，在16或偏離第一引入流距離L2並且也在兩個噴嘴15之間中途交錯處將第一組分的第二流12添加到混合物。混合領域的技術人員知道，儘管顯示了固定距離L2，但是預見到的是偏離噴嘴16的布置，當與主要噴嘴組15比較時，與第一組噴嘴15偏離的固定或可變距離，基於組分的不同特性以增濃第一組分的不足區域或稀釋區域和產生局部增濃第一組分濃度並減少形成來自主反應的不期望副產物的流。例如，如果將溶劑或任何其它要素或添加劑，例如光氣添加到第一組分的主流，流體10的速度可能增加，由此導致不足區域的位置變化並增加距離L。如果在第二組分的入口噴嘴處第二組分的壓力增加，該流體可能會變化並且距離L也可能相應變化。因此，本領域技術人員將知道需要確定混合各構造的有效距離L2。圖4和5中說明的混合機I可以由圓柱體製得，其中光氣從所示長的圓柱形管道的一端4流到另一端5。作為第二組分的胺然後可以通過垂直噴嘴15、16注入，如圖4和5所示。其它實施方式包括使用縱向管道，該縱向管道在混合機I的外殼壁7中形成，如圖6、7、10、和12所示，其具有或不具有垂直或錐形的噴嘴。例如，圖7的混合機I同時包括縱向流動管道62和垂直流動管道60。在圖6所示的實施方式中，混合機I由在界面44嚙合(interlock)的相對的端部殼體(end shell)40、41形成,其中各端部殼體40、41分別包括二級管道64和三級管道63，用於將組分運輸至第一排噴嘴15或第二排噴嘴16。儘管在不同的說明的實施方式中顯示兩種類型管道(垂直噴嘴管道和縱向噴嘴管道)，但是以任何衝擊角度(attack angle)使用任何類型和幾何形狀的管道以向第一排噴嘴和第二排噴嘴提供第一組分和第二組分是可行的。圖8是從說明圓形噴嘴16出口開口形狀的圖4截取的細節說明圖。儘管顯示來自第二排噴嘴16的噴嘴，但是下文的描述同樣適用於來自第一排15的噴嘴。圖7中所不的開口可以是錐形的，其中，例如，入口開口的尺寸小於出口開口形狀。圖9說明可以用作第一排噴嘴或第二排噴嘴的入口或出口開口的多種不同形狀。圖9中所示的箭頭10說明不同噴嘴16相對於混合機I內第一組分的流體放置的方向。圖12說明混合機I的內和/或外表面，其中第一排噴嘴60在第二排噴嘴62中以噴射器中套噴射器的形式放置,如圖7描述，縱向流動管道62和垂直流動管道60。第一管道的內表面包括第一開口 101和第二開口 100,如圖10 - 11所不。表面還包括第一噴嘴102的末端表面。發明人已經確定，在特定點增濃第一組分例如光氣有助於減少副產物和/或形成脲。使用在第一排噴嘴15或第二排噴嘴16中具有不同幾何形狀的不同內部開口或外部開口允許以在噴射器中套噴射器構造中弓I入不同量的第一組分或第二組分。在可替換的實施方式中，單排噴嘴15用於混合組分，但是通過改變入口開口或出口開口的形狀，可以變換胺流，由此將胺遞送至光氣流內的優選區域。例如，如圖9所示置於光氣流方向的淚珠形開口產生的射流可以較深的深度穿透到光氣流。圖11A-11D顯示不同的可行構造，其中第一噴嘴15以噴射器中套噴射器的構造位於第二噴嘴16中，並且其中，如圖1lB所示，兩個噴嘴可以彼此偏移、同心、偏心、或交錯，從而產生容積較大的區域用於釋放比另一種組分多的一種組分。例如，圖10顯示圖1lA -1lD的不同可行構造的一種實施方式，即，圖1lB的實施方式，其中第二或內部噴嘴16偏離第一或外部噴嘴15放置，使得外部噴嘴15在內部噴嘴16的後側或下遊側上與內部噴嘴16的前側或上遊側上的開口 IOOa相比具有較大的開口 100b，並且內部噴嘴16具有通向開口 101的錐形壁102。在固定的壓力水平，將較大體積量的一種組分遞送至噴嘴中套噴嘴62的後偵牝如圖7所示。儘管在開口 100a、IOOb和101以下沒有顯示水平流，但是本領域技術人員將會知道，關於圖7描述的流動也可以用於圖10。本申請也描述靜態反應性射流混合機1，其具有流體接收室2，用於混合包含光氣的第一組分10和包含胺的第二組分11 ;延伸通過流體接收室I的第一管道3，用於將第一組分10從入口 4運輸至出口 5，並且沿第一管道3在入口 4和出口 5之間具有第一排噴嘴15 ;和增濃系統，例如第二排噴嘴16，用於補足在流體接收室I中混合點L2的第一組分10的不足。在一種實施方式中，流體接收室I是連續機筒，其部分顯示於圖6、7、和10，其被挖空並形成第一管道3，該第一管道3具有在所述室的外部區域7和所述室的內部區域8之間如圖12所示的外部圓周壁140。圖3說明第一排噴嘴15，該噴嘴在垂直構造中穿透所述外壁140，用於使所述第二組分11從外部區域7通過用於與所述第一組分10混合的內部區域8。如圖9所示，來自第一排噴嘴15的至少一個噴嘴的開口形狀選自圓形，橢圓形，三角形，矩形，菱形，和淚珠形。來自第一排15的噴嘴可以具有例如在圖1lC中所示的不同開口形狀，其中噴嘴102的末端表面是圓形的，第二開口 100的末端表面是菱形的。圖1lA-1lD中所示的不同構造說明可行的噴射器中套噴射器構造，如圖10所示。如圖6所示，外部圓周壁包括在與第二排噴嘴16相通的壁40中的三級或第三管道63。該第三管道63可以在壁40的不同部分放置，其中第二排噴嘴16是第二組分的第二來源通過第三管道63的通道或者用於第一組分的第二流稀釋第一組分。混合機I可以包括二級管道64和三級或第三管道63，其在界面44的各相對側上顯示的相對的端部殼體中。還在另一種實施方式中，以上描述的混合機I用於進行在胺-光氣混合過程中混合的方法，該方法包括下述步驟使第一組分10穿過延伸通過流體接收室2的第一管道3，使第二組分11穿過第一排噴嘴15和使第一組分12穿過第二排噴嘴16以在第一管道3的流體接收室2內迅速混合第一組分和第二組分10、11、和/或12。在另一種預期的方法中，該步驟包括使第一組分10穿過延伸通過靜態反應性射流混合機I的流體接收室2的第一管道3，使第一組分例如光氣穿過如圖3 - 7所示的第二排噴嘴16，使第二組分11穿過第一排噴嘴15，和使第一組分和第二組分10、U、或12在第一管道3的流體接收室2中迅速混合。實施例組合交錯式、噴射器中套噴射器構造。進行一系列中試實驗以測試本申請描述的噴射器中套噴射器和交錯噴射器構造實施方式的組合。中試混合機合併了圖12中說明的噴射器中套噴射器構造和圖4中說明的交錯式噴射器構造。噴射器內徑為2. 1_。各外部噴射器與內部噴射器具有相同的排放面積，但是朝著下遊方向偏離內部噴射器中心軸0. 2mm,如圖7和10所示。噴射器在中心線分開IOmm的兩排中交錯。管道直徑為11mm。測試三個流動條件。在測試I中，在104° C的總光氣流速為3.6kg/s，在165° C的胺/溶劑流速為2. 4kg/s。光氣流分流成2個進料流主光氣流，80%的總光氣流，將其引流通過IImm直徑的管道；側光氣流，20%的總光氣流，將其引流通過環形噴射器。對於其它2個測試，進料流和光氣進料分流(80:20)的溫度保持不變。在測試2中，進料流速加倍。在測試3中，測試2中的流速保持不變，但是胺/溶劑進料流中的胺％從34%增加至68% (在測試I和2中)。針對比較的目的,針對中試規模的基線式混合機重複相同的3個測試，該基線式混合機(baseline mixer)與交錯式噴射器中套噴射器的混合機相同，所不同的是胺噴射器由在單排中均有分布的錐形噴射器替代。內膛直徑，錐形角和噴射器的總數對於這兩種混合機都是相同的。表I總結測試結果，這些結果相對於測試I的基線式混合機標準化，從而說明相對變化。在最小化副產物濃度方面，交錯式噴射器中套噴射器的混合機的優點在全部3個測試中一致。副產物濃度比測試I中基線式混合機低29%，但是其在測試2中降低得甚至更低，但是這樣的代價是壓降顯著增加。測試3中的副產物濃度高於測試I中的副產物濃度，但是這是可以預料的，因為顯著較高的胺百分比。在相同的測試條件下對於兩種混合機壓降幾乎相同。在測試2中，壓降因流速增加而增加。表1.基線式混合機和交錯式噴射器內套噴射器的混合機的比較(中試規模)
權利要求
1.靜態反應性射流混合機，包括流體接收室，用於混合包含光氣的第一組分和包含胺的第二組分；延伸通過所述流體接收室的第一管道，用於將所述第一組分從入口運輸至出口並且沿所述第一管道在所述入口和所述出口之間具有第一排噴嘴；和增濃系統，用於補救所述流體接收室中混合點處第一組分的不足。
2.權利要求1的靜態反應性射流混合機，其中所述流體接收室是被所述第一管道挖空的連續機筒，具有在所述室的外部區域和所述室的內部區域之間的外部圓周壁，其中所述第一排噴嘴穿透所述外壁，用於使所述第二組分從外部區域進入內部區域，以便與所述第一組分混合。
3.權利要求2的靜態反應性射流混合機，其中所述增濃系統是第二排噴嘴，所述第二排噴嘴沿所述第一管道在所述入口和所述出口之間並且通過所述外部圓周壁。
4.權利要求3的靜態反應沿所述第一管道性射流混合機，其中所述第二排噴嘴允許所述第一組分的第二來源或冷卻流體流動通過所述外部圓周壁。
5.權利要求4的靜態反應性射流混合機，其中所述第二排噴嘴偏離所述第一排噴嘴。
6.權利要求4的靜態反應性射流混合機，其中來自所述第二排噴嘴的各噴嘴均位於所述第一排噴嘴的噴嘴內部。
7.權利要求6的靜態反應性射流混合機，其中所述第二排噴嘴偏離所述第一排噴嘴。
8.權利要求6的靜態反應性射流混合機，其中來自所述第一排噴嘴的至少一個噴嘴具有選自以下的開口形狀圓形，橢圓形，三角形，矩形，菱形，和淚珠形，並且在所述第一排噴嘴周圍相關的噴嘴具有不同的開口形狀。
9.權利要求8的靜態反應性射流混合機，其中所述第二排噴嘴偏離所述第一排噴嘴。
10.權利要求2的靜態反應性射流混合機，其中所述外部圓周壁包括在與第二排噴嘴相通的壁中的第三管道。
11.權利要求1的靜態反應性射流混合機，其中所述流體接收室是被所述第一管道挖空的連續機筒，具有在所述室的外部區域和所述室的內部區域之間的外部圓周壁，所述外部圓周壁至少包括所述第一排噴嘴和第二排噴嘴，兩者都與所述室的內部區域相通，並且其中所述外部圓周壁包括第二管道和第三管道，用於使至少所述第二組分通過所述第一排噴嘴。
12.權利要求10的靜態反應性射流混合機，其中所述第二排噴嘴允許所述第一組分的第二來源流動。
13.權利要求10的靜態反應性射流混合機，其中所述第二排噴嘴與所述第一排噴嘴偏離固定的距離。
14.權利要求10的靜態反應性射流混合機，其中來自所述第一排噴嘴的至少一個噴嘴具有選自以下的開口形狀圓形，橢圓形，三角形，矩形，菱形和淚珠形，且在所述第一排噴嘴周圍相關的噴嘴具有不同的開口形狀。
15.在胺-光氣混合工藝過程中混合的方法，所述方法包括以下步驟使第一組分穿過在靜態混合機的流體接收室內部的第一管道，其中所述第一管道包括第一排噴嘴和第二排噴嘴，並且其中所述第二排噴嘴沿所述第一管道縱向偏離所述第一排噴嘴；使第二組分穿過所述第一排噴嘴；和使所述第一組分穿過所述第二排噴嘴從而在所述第一管道中迅速混合所述第一組分和第二組分。
16.在胺-光氣混合工藝過程中混合的方法，所述方法包括以下步驟使第一組分穿過在靜態混合機的流體接收室內部的第一管道，其中所述第一管道包括第一排噴嘴和第二排噴嘴，使所述第一組分穿過所述第二排噴嘴；使第二組分穿過所述第一排噴嘴；和在所述第一管道中迅速混合所述第一組分和第二組分。
17.權利要求15的方法，其中所述第二排噴嘴偏離所述第一排噴嘴。
18.權利要求15的方法，其中第二排噴嘴的每一個均位於第一排噴嘴內。
19.權利要求15的方法，其中至少一個噴嘴具有選自以下的開口形狀圓形，橢圓形， 三角形，矩形，菱形，和淚珠形。
20.權利要求15的方法，其中來自所述第一排噴嘴的至少一個噴嘴具有選自以下的開口形狀圓形，橢圓形，三角形，矩形，菱形，和淚珠形，並且在所述第一排噴嘴周圍相關的噴嘴具有不同的開口形狀。
全文摘要
本申請涉及具有多個噴嘴的靜態混合機(1)，更一般地涉及混合機和使用其的方法，用於用具有形狀的噴射器或至少兩排噴嘴(15,16)混合光氣和胺，其中第二排噴嘴(16)用於在靜態反應性射流混合機(1)內增濃光氣流的不足區域。增濃二級流的配置包括使用胺/光氣的同心、偏心、或偏移噴射器，並且使用具有不同和不規則幾何形狀的噴嘴以幫助將胺/光氣集中於主要光氣流的特定位置。
文檔編號B01F3/02GK103052438SQ201180038509
公開日2013年4月17日 申請日期2011年5月10日 優先權日2010年6月14日
發明者P.A.吉利斯, 柏樺, J.穆克傑, S.K.達斯沙瑪, J.格爾克 申請人:陶氏環球技術有限責任公司