帶氣圈可調式淬火裝置的製作方法

2023-05-15 17:31:56

專利名稱：帶氣圈可調式淬火裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型是用於連續加熱電爐處理長軸類零件噴淋淬火的一種裝置。
背景技術：
經過電爐連續加熱處理的長軸類零件需要進行淬火，淬火的均勻程度直接影響到產 品的質量。原使用的淬火器主要是有:支架7、錐筒8 、進水管9、圓筒IO和噴水圈ll 組成,如圖3所示,噴水圈在壁厚上開有2排與X軸成30度角的水孔，其存在的不足是加 工難度大，噴淋工件面積小，噴水量不足，淬火不均勻使產品產生彎曲，而且水柱易反衝濺 入爐口而消耗熱能。發明內容本實用新型所要解決的技術問題是提供一種帶氣圈可調式淬火裝置，能夠提高細長 軸類零件淬火均勻性減少其彎曲。本實用新型帶氣圈可調式淬火裝置，包括支架，其特徵在於在長條支架上沿工件進 入方向依次安裝一個環形噴氣圈和多個環形噴水圈，噴氣圈內壁上開有噴氣孔，噴水圈 的內壁上開有噴水孔。本實用新型是在長條支架的一端安裝環形噴氣圈，其它位置間隔安裝環形噴水圈。 優選噴氣圈內壁上開有單排環形噴氣孔且與Y軸成30度角，噴水圈的內壁上開有兩排環 形噴水孔。工件從電爐輸出進入該淬火裝置，依次經過噴氣圈、噴水圈，在噴淋淬火時，氣體 從噴氣圈上的噴氣孔噴出，阻止了水柱反衝濺入爐口，避免影響爐溫。噴水圈內壁上的 噴水孔將水流噴射到環形中心，使工件在旋轉前行時噴淋淬火均勻，由於噴氣圈和噴水 圈單獨固定，可在支架上按一定的間距調節，多個噴水圈水量充足,增大了工件的噴水 量，，實現了工件淬火均勻減少彎曲的目的。本實用新型的優點-結構簡單，技術性能可靠，實用性強，是提高細長軸類零件淬火均勻性減少其彎曲 的有效裝置。


圖l為本實用新型的結構示意圖；圖2為噴氣圈或噴水圈的安裝結構示意圖；圖3原淬火器結構示意圖。圖中l支架2噴氣圈3噴水圈4噴氣孔5噴水孔6進氣管或進水管7支 架8錐筒9進水管10圓筒11噴水圈具體實施方式
如圖所示，本實用新型帶氣圈可調式淬火裝置，包括長條支架1，在支架1上沿工 件進入方向依次安裝一個環形噴氣圈2和多個環形噴水圈3。噴氣圈2內壁均布了單排 環形小噴氣孔4，噴氣孔4與Y軸成30度角。氣體從兩進氣管6進入，沿噴氣孔4噴出。 噴水圈3的內壁(內圈)均布排列了兩排環形小噴水孔5，充足的水流從兩進水管6進 入，'沿兩排環形的小孔噴射到環形噴水圈中心。工件從電爐輸出進入該淬火裝置，依次經過噴氣圈2、噴水圈3，在噴淋淬火時，氣 體從噴氣圈2上的噴氣孔4噴出，阻止了水柱反衝濺入爐口，避免影響爐溫。噴水圈3 內壁上的噴水孔5將水流噴射到環形噴水圈中心，使工件在旋轉前行時噴淋淬火均勻， 由於噴氣圈2和噴水圈3單獨固定，可在支架上按一定的間距調節(公知技術結構)，多 個噴水圈水量充足，增大了工件的噴水量，實現了工件淬火均勻減少彎曲的目的。
權利要求1、一種帶氣圈可調式淬火裝置，包括支架(1)，其特徵在於在長條支架(1)上沿工件進入方向依次安裝一個環形噴氣圈(2)和多個環形噴水圈(3)，噴氣圈內壁上開有噴氣孔(4)，噴水圈的內壁上噴水孔(5)。
2、 根據權利要求l所述的帶氣圈可調式淬火裝置，其特徵在於噴氣圈內壁上開有單 排環形噴氣孔(4)且與Y軸成30度角，噴水圈的內壁上開有兩排環形噴水孔(5)。
專利摘要本實用新型帶氣圈可調式淬火裝置，包括支架，其特徵在於在長條支架上沿工件進入方向依次安裝一個環形噴氣圈和多個環形噴水圈。工件從電爐輸出進入該淬火裝置，依次經過噴氣圈、噴水圈，在噴淋淬火時，氣體從噴氣圈上的噴氣孔噴出，阻止了水柱反衝濺入爐口，避免影響爐溫。噴水圈內壁上的噴水孔將水流噴射到環形中心，使工件在旋轉前行時噴淋淬火均勻，由於噴氣圈和噴水圈單獨固定，可在支架上按一定的間距調節，多個噴水圈水量充足，增大了工件的噴水量，實現了工件淬火均勻減少彎曲的目的。
文檔編號C21D9/28GK201292394SQ20082022413
公開日2009年8月19日 申請日期2008年11月20日 優先權日2008年11月20日
發明者張志福, 芳 趙, 高佃生 申請人:淄博弘揚石油設備有限公司