調節吸氣劑材料的方法

2023-05-15 11:14:31 2

專利名稱：調節吸氣劑材料的方法
調節吸氣劑材料的方法 交叉引用
所提供的是調節吸氣劑材料的方法，所述方法包括使吸氣 劑材料受到微波輻射。還提供採用所調節的吸氣劑材料的電子裝置 和這類電子裝置的製造方法。
在某些實施方案中，該方法還包括使吸氣劑材料在襯底上 成層。例如，吸氣劑材料可被沉積為薄膜。在一個實施方案中，吸 氣劑材料的厚度小於或等於10(Him。在另一個實施方案中，厚度小 於或等於lpm。在一個實施方案中，電子裝置包括襯底、陽極層、 陰極層和活性層。00191其它方法包括裝配電子裝置，包括提供包含吸氣劑材料層 的襯底；提供陽極層、陰極層和活性層；和使襯底和吸氣劑材料暴 露於孩"皮輻射。在一個實施方案中，加熱步驟發生於300°C或更低 的溫度。在一個實施方案中，襯底和吸氣劑材料暴露於^:波輻射5 分鐘或更少。在另一個實施方案中，使襯底和吸氣劑材料暴露於微 波輻射3分鐘或更少。示例性電子裝置包括襯底、活性層和吸氣劑材料；其中吸 氣劑材料已用微波輻射暴露於300。C或更低的溫度。在一個實例中， 吸氣劑材料被沉積於襯底上。在一個實施方案中，吸氣劑材料包含 佔吸氣劑材料重量的0.1%或更少的水。還合乎需要的是將吸氣劑材 料封裝在電子裝置內之前對其進行冷卻。吸氣劑材料
適用作用於製備緊固於表面的吸氣劑材料層的水分散體中 的無機粘合劑的粘土的非限制性實例包括綠坡縷石、高嶺土、海泡 石、坡縷石、高嶺石、塑性球土(plastic ball clays)、綠坡縷石或高嶺 土類粘土、膨潤土、蒙脫土、伊利石、綠泥石、膨潤土類粘土、也 吸收溼氣的那些和它們的混合物。目前優選矽鋁酸4美粘土。畫4,4'-二胺(TPD)、 l,l-二[(二 -4-甲苯基氨基)苯基]環己烷(TAPC)、 N,N'-二(1曱基苯基)-N,N'-二(4-乙基苯基HU'-(3,3'-二曱基)聯苯基]-4,4'-二胺(ETPD)、四(3-曱基苯 基)-N,N,N',N'-2,5-苯二胺(PDA)、 a-苯基-4-N,N-二苯基氨基苯乙烯 (TPS)、對(二乙基氨基)苯曱醛二苯基腙(DEH)、三苯胺(TPA)、 二[4-(N，N-二乙基氨基)-2-甲基苯基](4-曱基苯基)曱烷(MPMP)、 1-苯基-3-[對-(二乙基氨基)苯乙烯基]-5-[對-(二乙基氨基)苯基]吡唑啉(PPR或 DEASP)、 1,2反式-二(9H-呼唑-9-基)環丁烷(DCZB)、 N,N,N',N'-四(4畫 曱基苯基)-(l,l'-聯苯基)-4,4'-二胺(TTB)和卟啉類(porphyrinic)化合 物，例如銅酞菁。有用的空穴傳輸聚合物包括但不限於聚乙烯基啼
唑、(苯基曱基)聚矽烷和聚苯胺。導電聚合物用作一類。通過將空穴傳專lr部分(例如上述那些)摻雜到聚合物例如聚苯乙烯和聚碳酸酯中，也可能得到空穴傳輸聚合物。
操作中，來自適當電源(未描述)的電壓被施加到裝置100。因此，電流穿過裝置100的層。電子進入有機聚合物層，釋放光子。 在一些被稱為主動式矩陣OLED顯示器的OLED中，光敏有機膜的 各個沉積可被電流的通過獨立激發，導致光發射的各個像素。在一 些被稱為無源矩陣OLED顯示器的OLED中，光敏有機膜的沉積可 被電接觸層的行和列激發。
將工業級孩"皮爐置於氮氣控制環境中(例如手套箱)。00641將罩置於工業級;徵波爐中。位於罩上的沸石隨後通過暴露 於特定功率的微波輻射特定時間而進行調節。預期沸石溫度會為 300。C或更低，襯底溫度會比沸石低。
00651在不同功率和時間條件下，測試具有相同和不同厚度和類 型的沸石的幾種罩。
0066在已經在不同功率和持續時間下暴露於微波輻射並任選被 冷卻後，罩上的經調節的沸石沉積物會被封裝到電子裝置中，例如 採用有機發光裝置的裝置，其中裝置各自包含顯示襯底和罩。然後 將裝置置於85°C和85%相對溼度或60°C和90%相對溼度條件下的 加速貯存環境中。通過像素大小的減少測出的裝置的故障時間是各 裝置的量度。
0067在前述說明中，已經參考具體實施方案描述概念。然而， 本領域的普通4支術人員理解可進行各種修改和變化而不偏離如下4又 利要求所限定的本發明的範圍。因此，說明書和附圖
被認為是說明 性的而不是限制性的，所有這類修改打算包括在本發明範圍內。[00681許多方面和實施方案已經在上面描述且只是示例並非限制。閱讀本說明書後，熟練的技術人員會意識到其它方面和實施方案是可能的而不偏離本發明範圍。
100691益處、其它優點和問題解決方法已參考具體實施方案進行描述。然而，益處、優點、問題解決方法和可使任何益處、優點或 解決方法產生或變得更顯著的任何特徵不應被解釋為任何或所有權 利要求的關鍵的、必需的或基本的特徵。
0070應該理解，為清楚起見在分立的實施方案的上下文中描述 的某些特徵也可以在單一實施方案中組合提供。相反，為簡明起見 在單一實施方案的上下文中所述的不同特徵也可分開或以任何子組 合方式提供。此外，各範圍內所述的參考值包括此範圍內的各個和 每個值。
權利要求
1.一種調節吸氣劑材料的方法，所述方法包括用微波輻射加熱吸氣劑材料。
2. 權利要求1的方法，其中吸氣劑材料暴露於300°C或更低的溫度。
3. 權利要求l的方法，其中吸氣劑材料包括分子篩。
4. 權利要求3的方法，其中分子篩包括沸石。
5. 權利要求1的方法，其中吸氣劑材料暴露於微波輻射5分鐘 或更少。
6. 權利要求5的方法，其中吸氣劑材料暴露於微波輻射3分鐘 或更少。
7. —種製造電子裝置的方法，所述方法包括用孩"皮輻射加熱吸氣劑材料；和將吸氣劑材料封裝到電子裝置內。
8. 權利要求7的方法，其中加熱步驟期間的溫度為300°C或更低。
9. 權利要求7的方法，所述方法還包括在封裝吸氣劑材料之前 冷卻吸氣劑材料。
10. 權利要求7的方法，其中吸氣劑材料包括分子篩。
11. 權利要求10的方法，其中分子篩包括沸石。
12. 權利要求7的方法，其中吸氣劑材料暴露於艱t波輻射5分鐘 或更少。
13. 權利要求12的方法，其中吸氣劑材料暴露於^l波輻射3分 鍾或更少。
14. 權利要求7的方法，所述方法還包括使吸氣劑材料在襯底上 成層。
15. 權利要求14的方法，其中吸氣劑材料的厚度小於或等於 100拜。
16. 權利要求15的方法，其中厚度小於或等於lpm。
17. ^又利要求7的方法，其中電子裝置包括襯底、陽極層、陰極 層和活性層。
18. —種裝配電子裝置的方法，所述方法包括提供包含吸氣劑材 料層的襯底；提供陽極層、陰極層和活性層；和使襯底和吸氣劑材 料暴露於孩t波輻射。
19. 權利要求18的方法，其中襯底和吸氣劑材料暴露於^:波輻 射5分鐘或更少。
20. 權利要求17的方法，其中襯底和吸氣劑材料暴露於微波輻 射3分鐘或更少。
21. 權利要求18的方法，所述方法還包括使吸氣劑材料在襯底上成層o
22. 權利要求18的方法，其中吸氣劑材料的厚度小於或等於 100拜。
23. 權利要求22的方法，其中厚度小於或等於lMm。
24. 權利要求18的方法，所述方法還包括使吸氣劑材料暴露於 300。C或更低的溫度。
25. —種電子裝置，所述電子裝置包括襯底、活性層和吸氣劑材 料；其中吸氣劑材料已通過微波輻射暴露於300°C或更低的溫度。
26. 權利要求25的電子裝置，其中吸氣劑材料包括分子篩。
27. 權利要求26的電子裝置，其中吸氣劑材料包括沸石。
28. 權利要求25的電子裝置，其中吸氣劑材料沉積於襯底上。
29. 權利要求25的電子裝置，其中吸氣劑材料含有佔吸氣劑材 料重量的0.1%或更少的水。
全文摘要
本發明提供調節吸氣劑材料的方法，所述方法包括使吸氣劑材料受到微波輻射。本發明還提供採用經調節的吸氣劑材料的電子裝置和這類電子裝置的製造方法。
文檔編號F04B37/02GK101128906SQ200580048622
公開日2008年2月20日 申請日期2005年12月16日 優先權日2004年12月30日
發明者J·D·特雷梅爾 申請人:納幕爾杜邦公司