一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃的製作方法
2023-05-08 15:22:26 1
一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃的製作方法
【專利摘要】本實用新型是有關於一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其具有玻璃基片，在所述玻璃基片表面從底層向上依次設置有第一氮化矽膜層、第一鎳鉻膜層，銀膜層，第二鎳鉻膜層及第二氮化矽膜層；其中所述的第一氮化矽膜層的厚度為39-40納米；所述的第一鎳鉻膜層的厚度為1-1.1納米；所述的銀膜層的厚度為9-10納米；所述的第二鎳鉻膜層的厚度為1-1.1納米；所述的第二氮化矽膜層的厚度為42-57納米。本實用新型提供的技術方案具有高透光率、耐高溫和輻射率低的優點。
【專利說明】一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種鍍膜玻璃，特別是涉及一種含有五層膜結構的高透光率、耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術】
[0002]低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層，對太陽光中的近紅外線和生活環境中的遠紅外線起反射作用，從而降低玻璃對紅外線的吸收和輻射率，所以稱之為低輻射鍍膜玻璃。此種玻璃既可用於家庭窗戶，也可用於商店、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕牆及其它需要的場所。
[0003]高透光率低輻射鍍膜玻璃較一般的低輻射鍍膜玻璃具有較高的可見光透光率，外觀效果通透性好，室內採光自然，而且具有很高的隔熱性能。在寒冷地區，冬季時間長，氣溫低，室內的熱量向室外更低的氣溫環境失散。冬天太陽熱輻射透過玻璃進入室內，以此來增加室內的熱能，而室內的暖氣、家電、人體等發出的遠紅外被阻隔反射回室內，有效降低了暖氣的能耗。製作成中空玻璃的高透光率低輻射鍍膜玻璃具有更優良的節能效果，是目前公認的最佳節能建築用玻璃，具有廣闊的市場發展空間。
[0004]現在市場上已經有很多高透光率低輻射鍍膜玻璃，有單銀低輻射鍍膜玻璃，也有雙銀和三銀低輻射鍍膜玻璃。但是一般的低輻射鍍膜玻璃生產出來後，不能再進行鋼化或熱彎處理，否則銀層會被氧化或侵蝕，從而限制了鍍膜玻璃的使用範圍，尤其是在某些有造型設計的工程訂單中。而現在可鋼化的低輻射鍍膜玻璃通過工藝的改進，能夠做到鍍膜後可再進行切、磨、洗、鋼化或熱彎、中空等工序，這樣就能得到更大的發揮，從根本上解決了異地加工的難題，給客戶降低了成本也為公司創造了更多的利潤。因此，目前市場上缺乏一種高透光率、耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃產品。
[0005]有鑑於上述現有的鍍膜玻璃存在的缺陷，本實用新型人基於從事此類產品設計製造多年豐富的實務經驗及專業知識，並配合學理的運用，積極加以研究創新，以期創設一種新型的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃，能夠改進一般現有的低輻射鍍膜玻璃，使其更具有實用性。經過不斷的研究、設計，並經過反覆試作樣品及改進後，終於創設出確具實用價值的本實用新型。
【發明內容】
[0006]本實用新型目的在於，克服現有的高透光率低輻射鍍膜玻璃存在的缺陷，而提供一種含有五層薄膜結構的高透光率、耐高溫的單銀低輻射鍍膜玻璃，所要解決的技術問題是在現有設備基礎上，控制膜層的厚度，既有效保護受熱過程中的銀層不受氧化，又要有效調節最終產品的透光率高於70%，能耐630°C左右高溫，且能阻擋外界氧氣、玻璃內的鈉離子等對銀層侵蝕的膜層組合，從而更加適於實用。
[0007]本實用新型首先採購新鮮的浮法玻璃基片，玻璃基片在工廠鍍膜機上依次鍍上第一氮化娃膜層、第一鎳鉻膜層、銀膜層、第二鎳鉻膜層、第二氮化娃膜層，構成一種由五層膜結構組成的單銀低輻射鍍膜玻璃。
[0008]精準控制銀膜層的厚度，合理控制第一鎳鉻膜層和第二鎳鉻膜層的厚度，保證成品耐聞溫的同時有效提聞可見光的透光率。
[0009]本實用新型的目的及解決其技術問題是採用以下技術方案來實現的。依據本實用新型提出的一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其具有玻璃基片，在所述玻璃基片表面從底層向上依次設置有第一氮化矽膜層、第一鎳鉻膜層，銀膜層，第二鎳鉻膜層及第二氮化娃膜層。
[0010]本實用新型的目的及解決其技術問題還可採用以下技術措施進一步實現。
[0011]前述的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其中所述的第一氮化矽膜層的厚度為39-40納米；所述的第一鎳鉻膜層的厚度為1-1.1納米；所述的銀膜層的厚度為9-10納米；所述的第二鎳鉻膜層的厚度為1-1.1納米；所述的第二氮化矽膜層的厚度為42-57納米。
[0012]藉由上述技術方案，本實用新型一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃至少具有高透光率、耐高溫和輻射率低的優點。
[0013]上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，並且為了讓本實用新型的上述和其他目的、特徵和優點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，並配合附圖，詳細說明如下。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖。
[0015]【主要元件符號說明】
[0016]1:玻璃基片 2:第一氮化娃膜層
[0017]3:第一鎳鉻膜層4:銀膜層
[0018]5:第二鎳鉻膜層6:第二氮化矽膜層
【具體實施方式】
[0019]為更進一步闡述本實用新型為達成預定實用新型目的所採取的技術手段及功效，以下結合附圖及較佳實施例，對依據本實用新型提出的一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃其【具體實施方式】、結構、特徵及其功效，詳細說明如後。
[0020]如圖1所示:本實用新型高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃具有玻璃基片1，在玻璃基片表面從底層向上依次鍍制第一氮化矽膜層2，第一鎳鉻膜層3，銀膜層4，第二鎳鉻膜
5,第二氮化娃膜層6,從而構成五層膜結構的單銀低福射鍍膜玻璃。
[0021]在一實施例中，本實用新型是在高真空環境下，用磁控濺射鍍膜機在浮法玻璃表面上鍍制五層納米材料膜的方法，生產一種具有高透光率、耐高溫、包含有一個銀層的低輻射鍍膜玻璃。
[0022]在一實施例中，本實用新型所述的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃是在工廠鍍膜機設備上按如下方法完成:首先鍍膜室抽真空至本底真空度5X10 _ 4Pa以下，充入工藝氣體(氬氣、氮氣、氧氣)，使鍍膜室內工藝氣體壓力穩定在2.5X10 ' 1Pa左右,接通濺射電源,靶材開始濺射,玻璃經清洗機清洗合格後進入真空室,經過靶材時,靶材原子或其化合物就會沉積到玻璃表面。[0023]第一個祀祀材為非金屬娃,工藝氣體為氮氣，將氮化娃薄膜沉積到玻璃表面為第一氮化矽膜層2，厚度39至40納米；第二個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻薄膜沉積到氮化矽表面為第一鎳鉻膜層3，厚度I至1.1納米；第三個靶靶材為金屬銀，工藝氣體為氬氣，將銀薄膜沉積到鎳鉻表面為銀膜層4，厚度9至10納米；第四個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻薄膜沉積到銀表面為第二鎳鉻膜5，厚度I至1.1納米；第五個靶靶材為矽，工藝氣體為氮氣，將氮化矽薄膜沉積到鎳鉻表面為第二氮化矽膜6，厚度42至57納米。第一鎳鉻層2和第二鎳鉻層5的總厚度對整個膜系的透光率和顏色會產生影響，第一鎳鉻層2、第二鎳鉻層5和銀膜層4的膜厚的埃米級變化會引起膜系透光率的變化。增厚I納米銀膜層4的厚度對透光率的影響基本可通過減薄0.25納米鎳鉻層厚度來補償。調整銀膜層4上下的鎳鉻層膜厚，可以保持透光率和顏色基本不變。
[0024]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，並非對本實用新型做任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而並非用以限定本實用新型，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本實用新型技術方案範圍內，當可利用上述揭示的技術內容做出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術方案的內容，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬於本實用新型技術方案的範圍內。
【權利要求】
1.一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於其具有玻璃基片(I)，在所述玻璃基片(I)表面從底層向上依次設置有第一氮化矽膜層(2)、第一鎳鉻膜層(3)，銀膜層(4),第二鎳鉻膜層(5)及第二氮化矽膜層(6)。
2.根據權利要求1所述的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特徵在於: 所述的第一氮化矽膜層(2)的厚度為39-40納米； 所述的第一鎳鉻膜層(3)的厚度為1-1.1納米； 所述的銀膜層(4)的厚度為9-10納米； 所述的第二鎳鉻膜層(5)的厚度為1-1.1納米； 所述的第二氮化矽膜層(6)的厚度為42-57納米。
【文檔編號】B32B9/04GK203472221SQ201320565106
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年9月11日 優先權日:2013年9月11日
【發明者】董明, 孟怡敏, 白留森, 孫震, 潘其真 申請人:洛陽新晶潤工程玻璃有限公司