改進的氧化溝曝氣轉盤的製作方法

2023-05-07 20:33:41

專利名稱：改進的氧化溝曝氣轉盤的製作方法
技術領域：
實用新型是關於對汙水處理氧化溝用曝氣轉盤的改進，尤其涉及轉盤表面凸塊構造及排列的改進。
汙水氧化溝處理工藝，由於具有處理工藝流程簡單，淨化效率高且穩定，剩餘活性汙泥少，抗衝擊負荷能力強，能承受水質及水量衝擊負荷，而且兼具除磷脫氮功能，管理維護方便，運行費用低，因而被廣泛用於汙水生化處理。現有的氧化溝工藝中使用的曝氣轉盤，如中國專利90224217、92206155和96229046公開的曝氣用轉盤，其圓形碟片由兩片或多片扇面拼裝而成，碟片兩表面凸塊呈放射狀規則直線排列，凸塊行間相間分布有眾多凹圓，碟片表面的凸塊有呈楔形的三角形、梯形構造，凸塊底面為平面結構。這種轉盤雖具有有較好的充氧效果，但充氧能力仍不夠高，還有值得改進的地方，如轉盤表面凸塊構造、形狀及排列方式。
實用新型的目的在於提供一種改進的，具有更高充氧能力和動力效率的氧化溝曝氣轉盤。
實用新型目的實現，其主要改進是將轉盤表面凸塊底面由平面改為內凹曲面，從而增大凸塊與水的接觸面積和拋水效果，提高轉盤運轉的充氧能力。具體說，實用新型氧化溝曝氣轉盤，由兩片以上扇面拼裝成圓形碟片，所說碟片表面排列有凸塊行，凸塊行間分布有凹坑，其特徵在於所說凸塊行凸塊底面呈內凹曲面。大家知道，曝氣轉盤作用，主要依靠轉盤旋轉時表面凸塊攪動水層推動水流向前，並在混合汙水同時將水拋出水面形成液膜，拋出的水珠與大氣接觸將空氣中的氧攜入水中達到充氧目的。本實用新型曝氣轉盤由於碟片表面眾多的凸塊底面呈內凹曲面，所以它有比平的底面有更大的表面積，由此與水接觸面積就大，對水的推力也大，拋起水量多且拋水高，形成的水珠也更細小，與空氣接觸就多，水珠的攜氧也就多，從而提高了充氧能力。另外由於內凹的曲面在拍入水面時，與水面的接觸首先是兩個弧形邊角，然後才逐漸是曲面，這樣反而減少了碟片凸塊底面轉入水面時的阻力，對提高轉盤動力效率是有利的。
實用新型所說凸塊，可以是通常的三角形凸塊、梯形凸塊、梯形斜稜柱、四稜錐形等多種幾何體，其中尤以四稜錐形為優。所說凸塊底面內凹曲面，可以是各種幾何曲面，一種較好的方式採用圓弧面。所說盤體上凹坑，一種較好方式可採用圓形凹坑。
為進一步提高轉盤的充氧能力，實用新型還可將轉盤表面呈放射狀直線排列的凸塊行和相間的凹圓行改為曲線排列，這樣一可增加凸塊和凹圓的數量，二對水流推動及拋水也有積極作用。所說凸塊行的曲線彎曲，一種較好的方式為向轉盤通常旋轉方向(凸塊長邊亦稱底邊方向)彎曲，所說曲線可以採用圓弧形曲線，其較好的曲率半徑為大於轉盤半徑，小於轉盤直徑，曲線還可以是其他類型的如雙曲線型、漸開線型等，視曝氣充氧要求而定。
除此，實用新型還採取加大凸塊，以及加大凹圓直徑和深度，以及在轉盤兩側的凸塊外側面加工有凹坑，以更進一步提高轉盤的充氧能力。實用新型碟片可以採用塑料模壓、也可以是玻璃鋼的。
以下結合二個非限定性實施例的描述，進一步說明實用新型構思及優點，實施例不應理解為對實用新型的限定。


圖1為凸塊與凹圓呈射線排列半圓轉盤結構示意圖。
圖2為凸塊立體示意圖。
圖3為凸塊剖視結構示意圖。
圖4為凸塊與凹圓呈圓弧形曲線排列半圓碟片結構示意圖。
實施例1參見
圖1、2、3，圓形曝氣轉盤由對稱的兩個半圓碟片1對接而成，轉盤直徑為1380mm，碟片表面放射狀排列有凸塊行2和凹圓3。凸塊構造呈四稜錐形，寬25mm，底邊厚度h為18mm，底邊側面(厚度方向)倒角有一小平面7，可有效防止凸塊在運轉中因衝擊造成錐角破損，凸塊底面有直徑為14mm，深6mm，內凹圓弧面8，側面有凹圓9。碟片上凹圓直徑12mm，深5mm。前後行凸塊及凹圓互相錯位，軸孔4內有與轉軸固定定位的螺紋，為減輕碟片重量又保證碟片有足夠的強度，在碟片近軸心處設有若干條加強筋6，靠軸孔處開有若干減輕自重的窗口5，碟片軸心區域加厚自圓心向外減薄呈過渡狀。碟片採用玻璃鋼或塑料(例如BMC塑料)經高溫高壓壓製成型。
實施例2參見圖4，如實施例1所述，轉盤兩側的凸塊行和凹圓呈圓弧曲線向凸塊底邊方向彎曲，凸塊行的曲率半徑為900～1100mm，同一圓弧曲線行兩端凸塊夾角α為6-8度。碟片表面共有凸塊1050個，凹圓4868個，凸塊和凹圓分別較相近似規格碟片增加8-10％和50-100％。
實用新型由於將轉盤表面凸塊底面由平面改為內凹曲面，僅此可使碟片凸塊與水接觸面積提高約10％以上，輔以凸塊曲線排列，及在凸塊側面增加凹坑，加大凸塊體積和加大凹坑體積，不僅對水流顯著提高了推力和拋出水量，而且使相同規格碟片的凸塊和凹圓數分別較原來增加8-10％和50-100％以上，轉盤工作拋起的狹氣水珠比一般碟片多又高，形成較寬的水幕環，增加了拋起水珠與空氣接觸時間和接觸面積，使水珠能裹狹吸收更多的空氣，從而顯著增加了帶進水中的氧氣量，其次轉盤上凹圓數量增加，也顯著提高凹坑(圓)帶入空氣量，因而顯著提高了轉盤充氧效率。凸塊底面呈內凹曲面，使轉盤旋轉壓水阻力下降，明顯提高了動力效率。實用新型曝氣轉盤，單盤充氧能力可較常規轉盤提高30％以上，動力效率可提高20％以上。由於轉盤對水的推力提高，可使轉盤更適合深氧化溝工藝，氧化溝水深可提高到5M以上，提高水深又節約了佔地和工程造價，同時還擴大了氧化溝的使用範圍。實用新型曝氣轉盤採用高溫高壓成型工藝，使碟片密實度也顯著提高，表面微細氣孔少，耐高溫、抗衝擊、耐老化、不變形，提高了轉盤的使用壽命。
權利要求1．一種氧化溝曝氣轉盤，由兩片以上扇面拼裝成圓形碟片，所說碟片表面排列有凸塊行，凸塊行間分布有凹坑，其特徵在於所說凸塊底面呈內凹曲面。
2．根據權利要求1所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說凸塊行和凹圓呈曲線排列。
3．根據權利要求2所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說曲線向凸塊底邊方向彎曲。
4．根據權利要求3所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說曲線為圓弧曲線。
5．根據權利要求4所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說圓弧曲線的曲率半徑大於轉盤半徑，小於轉盤直徑。
6．根據權利要求1所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說凸塊呈四稜錐形。
7．根據權利要求6所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說凸塊寬25mm，底邊厚18mm。
8．根據權利要求1所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說凸塊底面內凹曲面為圓弧曲面。
9．根據權利要求8所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說圓弧曲面直徑為14mm，深6mm。
10．根據權利要求1或2所述氧化溝曝氣轉盤，其特徵在於所說凸塊外側面有凹坑。
專利摘要實用新型是關於對氧化溝曝氣轉盤的改進,尤其是對轉盤表面凸塊構造及排列的改進,其特徵是將轉盤表面凸塊底面由平面改為內凹曲面,並且使凸塊行及凹坑呈曲線排列。不僅增加了碟片表面凸塊與水的接觸面積,而且凸塊和凹圓數也有大增加。實用新型曝氣轉盤對水流推力大、拋水多,顯著提高了轉盤的充氧能力和動力效率,更適用於水深較深的氧化溝曝氣。
文檔編號C02FGK2425085SQ0022029
公開日2001年3月28日 申請日期2000年5月16日 優先權日2000年5月16日
發明者李伯平, 王介平 申請人:宜興市振宇水處理環保廠, 無錫振宇電力輔機有限公司