一種分散式擴散爐進氣裝置及含有此進氣裝置的擴散爐的製作方法
2023-04-28 11:00:51
一種分散式擴散爐進氣裝置及含有此進氣裝置的擴散爐的製作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種分散式擴散爐進氣裝置及含有此進氣裝置的擴散爐。該分散式擴散爐進氣裝置包括進氣管和石英直管，進氣管的出氣端與石英直管的一端相連接，石英直管的管壁開設有第一小孔，第一小孔為內窄外寬的圓錐形。本實用新型的分散式擴散爐進氣裝置通過石英直管的第一小孔使工藝化學氣體均勻的噴淋在矽片上，並提高了氣流的均勻性，保證了矽片方塊電阻的均勻性，減小了廢片的產生，提高了產品的合格率。
【專利說明】一種分散式擴散爐進氣裝置及含有此進氣裝置的擴散爐
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及擴散爐【技術領域】，尤其涉及一種分散式擴散爐進氣裝置及含有此 進氣裝置的擴散爐。
【背景技術】
[0002] 擴散爐是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一，用於大規模集成電路、分立 器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
[0003] 現有使用的擴散爐，擴散氣體進入爐體後垂直於矽片表面流動，難以在矽片背面 及矽片間隙內均勻分布，嚴重影響矽片方塊電阻均勻性。 實用新型內容
[0004] 針對現有技術的不足，本實用新型一方面提供了一種分散式擴散爐進氣裝置，該 分散式擴散爐進氣裝置通過石英直管使工藝化學氣體均勻的噴淋在矽片上，並提高了氣流 的均勻性，保證了矽片方塊電阻的均勻性，減小了廢片的產生，提高了產品的合格率。
[0005] -種分散式擴散爐進氣裝置，包括進氣管和石英直管，進氣管的出氣端與石英直 管的一端相連接，石英直管的管壁開設有第一小孔，第一小孔為內窄外寬的圓錐形。
[0006] 優選的，第一小孔在石英直管的管壁上均布設置。
[0007] 本實用新型另一方面提供了含有上述分散式擴散爐進氣裝置的擴散爐，該擴散爐 提高了氣流的均勻性，保證了矽片方塊電阻的均勻性，減小了廢片的產生，提高了產品的合 格率。
[0008] -種含有上述分散式擴散爐進氣裝置的擴散爐，包括爐體，爐體內設有石英舟，石 英舟上放置有矽片，石英直管位於矽片的上方。
[0009] 優選的，石英舟中部開設有盲孔，石英舟上部開設有第二小孔，第二小孔與盲孔相 通，盲孔的開口處連接有出氣管。
[0010] 優選的，爐體內設有連接裝置，連接裝置與石英直管相連接。
[0011] 優選的，爐體內設有氣壓傳感器，進氣管上設有進氣閥，進氣閥上連接有根據氣壓 傳感器的信號來調節進氣閥開度的控制裝置。
[0012] 優選的，該擴散爐還包括轉動裝置，石英直管的另一端穿過所述連接裝置與轉動 裝置相連接，石英直管在轉動裝置帶動下沿中心軸轉動。
[0013] 與現有技術相比，本實用新型具有如下有益效果：本實用新型提供的一種分散式 擴散爐進氣裝置包括進氣管和石英直管，進氣管的出氣端與石英直管的一端相連接，石英 直管的管壁開設有第一小孔，第一小孔為內窄外寬的圓錐形。本實用新型的分散式擴散爐 進氣裝置通過石英直管使工藝化學氣體充分分散並均勻的噴淋在矽片上，並提高了氣流的 均勻性，保證了矽片方塊電阻的均勻性，減小了廢片的產生，提高了產品的合格率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014] 圖1為現有擴散爐的結構示意圖；
[0015] 圖2為本實用新型的結構示意圖。
[0016] 附圖標示如下：1_進氣管、2-石英直管、3-矽片、4-連接裝置、5-轉動裝置、6-石 英舟、7-出氣管。
【具體實施方式】
[0017] 以下結合附圖對本實用新型進行詳細的描述。
[0018] 參見圖1，本實施例一方面提供的一種分散式擴散爐進氣裝置，包括進氣管1和石 英直管2,進氣管1的出氣端與石英直管2的一端相連接，石英直管2的管壁開設有第一小 孔，第一小孔為內窄外寬的圓錐形，第一小孔在石英直管2的管壁上均布設置。
[0019] 化學工藝氣體通過石英直管2的第一小孔充分分散進入爐體內並均勻噴淋在矽 片3上，有效提高爐體內氣場的均勻性，第一小孔為內窄外寬的圓錐形，有利於化學工藝氣 體充分到達矽片3的每個角落，實現對矽片3全面的噴淋，從而保證了矽片3方塊電阻的均 勻性，從而減小了廢片的產生，提高了產品的合格率，本實用新型只需將開設有第一小孔的 石英直管2與現有擴散爐的進氣管1的出氣端相連，充分利用了現有擴散爐，結構簡單、節 約成本。
[0020] 本實施例另一方面提供的一種含有上述分散式擴散爐進氣裝置的擴散爐，包括爐 體，爐體內設有石英舟6,石英舟6上放置有矽片3,石英直管2位於矽片3的上方，石英舟6 中部開設有盲孔，石英舟6上部開設有第二小孔，第二小孔與盲孔相通，盲孔的開口處連接 有出氣管7,爐體內設有連接裝置4,連接裝置4與石英直管2相連接。
[0021] 化學工藝氣體通過石英管的第一小孔噴淋位於下面的矽片3上，再通過石英舟6 上的第二小孔，進入盲孔和出氣管7,化學工藝氣體從上至下充分、均勻的對矽片3進行噴 淋，從而更好的保證了矽片3方塊電阻的均勻性，連接裝置4與石英直管2相連接，可以增 強石英直管2的穩定性。
[0022] 優選的，爐體內設有氣壓傳感器，進氣管1上設有進氣閥，進氣閥上連接有根據氣 壓傳感器的信號來調節進氣閥開度的控制裝置。本實施例可通過氣壓傳感器實現對爐體 內的氣壓實時監控，並可以通過控制裝置對爐體內氣壓進行及時調節，使其氣壓保持穩定， 是化學氣體均勻穩定的噴淋在矽片3上，保證了矽片3方塊電阻的均勻性，減小了廢片的產 生，提商了廣品的合格率。
[0023] 優選的，該擴散爐還包括轉動裝置5,石英直管2的另一端穿過所述連接裝置4與 轉動裝置5相連接，石英直管2在轉動裝置5帶動下沿中心軸轉動。
[0024] 石英直管2在轉動裝置5帶動下沿中心軸轉動，使化學工藝氣體通過第一小孔達 到充分分散，進一步實現氣場的優化分布，使化學工藝氣體更加均勻噴淋在矽片3上。
[0025] 申請人:聲明，本實用新型通過上述實施例來說明本實用新型的詳細結構和工藝， 但本實用新型並不局限於上述詳細結構和工藝，即不意味著本實用新型必須依賴上述詳細 結構和工藝才能實施。所屬【技術領域】的技術人員應該明白，對本實用新型的任何改進，對本 實用新型產品各原料的等效替換及輔助成分的添加、具體方式的選擇等，均落在本實用新 型的保護範圍和公開範圍之內。
【權利要求】
1. 一種分散式擴散爐進氣裝置，其特徵在於，包括進氣管（1)和石英直管（2)，所述進 氣管（1)的出氣端與所述石英直管（2)的一端相連接，所述石英直管（2)的管壁開設有第 一小孔，所述第一小孔為內窄外寬的圓錐形。
2. 根據權利要求1所述的分散式擴散爐進氣裝置，其特徵在於，所述第一小孔在所述 石英直管（2)的管壁上均布設置。
3. -種含有權利要求1所述的分散式擴散爐進氣裝置的擴散爐，其特徵在於，包括爐 體，所述爐體內設有石英舟（6)，所述石英舟（6)上放置有矽片（3)，所述石英直管（2)位於 所述矽片（3)的上方。
4. 根據權利要求3所述的擴散爐，其特徵在於，所述石英舟（6)中部開設有盲孔，所述 石英舟（6)上部開設有第二小孔，所述第二小孔與所述盲孔相通，所述盲孔的開口處連接 有出氣管（7)。
5. 根據權利要求3所述的擴散爐，其特徵在於，所述爐體內設有連接裝置（4)，所述連 接裝置（4)與所述石英直管（2)相連接。
6. 根據權利要求3所述的擴散爐，其特徵在於，所述爐體內設有氣壓傳感器，所述進氣 管（1)上設有進氣閥，所述進氣閥上連接有根據氣壓傳感器的信號來調節進氣閥開度的控 制裝置。
7. 根據權利要求5所述的擴散爐，其特徵在於，還包括轉動裝置（5)，所述石英直管（2) 的另一端穿過所述連接裝置（4)與轉動裝置（5)相連接，所述石英直管（2)在所述轉動裝 置（5)帶動下沿中心軸轉動。
【文檔編號】C30B31/16GK204023004SQ201420381048
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年7月10日 優先權日:2014年7月10日
【發明者】沈少傑 申請人:蘇州矽美仕綠色新能源有限公司