顯示基板、其製造方法和具有其的顯示裝置的製作方法
2023-05-03 03:00:46 1
專利名稱：顯示基板、其製造方法和具有其的顯示裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種顯示基板，一種製造該顯示基板的方法和使用該顯示基板的顯示裝置。更具體而言，本發明涉及一種能夠減少由於數據線中的裂紋造成的驅動差錯，一種製造該顯示基板的方法和使用該顯示基板的顯示裝置。
背景技術：
許多比如行動電話、數字相機、筆記本計算機、監視器等的電子設備使用了顯示裝置。這樣的顯示裝置的實例包括液晶顯示(LCD)裝置和有機發光(OLED)裝置。
LCD和OLED均包括顯示基板，其中每個像素都可以被獨立驅動。顯示基板包括絕緣基板，信號布線和形成於絕緣基板上的比如薄膜電晶體(TFT)的驅動器件。
已經應用了玻璃基板作為常規的絕緣基板。但是，為了減少其重量和厚度，也可以應用柔性的塑料基板作為絕緣基板。
一般地，塑料基板包括基底基板，第一阻擋層和第二阻擋層。為了防止溼氣或氣體滲入基底基板和擴散入基底基板，第一和第二阻擋層基本上分別形成於基底基板的上和下表面上。
但是，當使用塑料基板作為絕緣基板時，在形成信號布線和薄膜電晶體(TFT)開關器件時可能形成細裂紋。由於基底基板的熱膨脹係數和阻擋層的熱膨脹係數之間的差異誘發了所述細裂紋。細裂紋可以具有從約30μm到約50μm的直徑。細裂紋誘發形成於顯示裝置上的數據線的斷開，使得顯示基板沒有被驅動。
發明內容
本發明提供了一種能夠減少由數據線的斷開導致的驅動差錯的顯示基板。
本發明還提供了一種製造以上顯示基板的方法。
本發明還提供了一種具有上述顯示基板的顯示裝置。
在本發明的一個方面中，顯示基板包括塑料基板、柵極布線、柵極絕緣層、有源層、數據布線和漏極布線。柵極布線沿第一方向形成於塑料基板上。柵極布線包括柵線和電連接於柵線的柵電極部分。柵極絕緣層形成於在其上形成有柵極布線的塑料基板上。有源層形成於部分的柵極絕緣層上，且所述絕緣層的部分相應於柵電極部分。數據布線包括數據線和備修線。數據線形成於柵極絕緣層上以沿不同於第一方向的第二方向橫跨柵線。備修線基本平行於數據線且電連接到數據線。漏極布線形成於數據線和備修線之間的部分上。數據布線可以包括將數據線和備修線彼此電連接的連接線。
在本發明的另一方面，提供有一種製造顯示基板的方法。在以上的方法中，在塑料基板上沿第一方向形成柵極布線。柵極布線包括柵線和柵電極部分。在其上形成有柵極布線的塑料基板上形成柵極絕緣層。在部分的柵極絕緣層上形成有源層。該絕緣層的部分相應於柵電極部分。在柵極絕緣層上沿不同於第一方向的第二方向形成數據布線。數據布線包括數據線、基本平行於數據線形成的備修線、和將數據線和備修線電連接的連接線。在數據線和備修線之間的部分上形成漏極布線。
在本發明的又一方面中，顯示裝置包括第一基板、面對第一基板的第二基板和設置於第一和第二基板之間的液晶層。第一基板包括塑料基板、柵極布線、柵極絕緣層、有源層、數據布線和漏極布線。柵極布線沿第一方向形成於塑料基板上。柵極布線包括柵線和電連接於柵線的柵電極部分。柵極絕緣層形成於在其上形成有柵極布線的塑料基板上。有源層形成於部分的柵極絕緣層上，且所述絕緣層的部分相應於柵電極部分。數據布線包括數據線和備修線。數據線形成於柵極絕緣層上以沿不同於第一方向的第二方向橫跨柵線。備修線基本平行於數據線且電連接到數據線。漏極布線形成於數據線和備修線之間的部分上。數據布線可以包括將數據線和備修線彼此電連接的連接線。
根據以上方案，可以解決在塑料基板中由於細裂紋誘發的斷開的問題。因此，防止了數據線的驅動差錯，使得改善了顯示裝置的顯示質量。
參考附圖，本發明的以上和其他特徵和優點將變得更加顯見，在附圖中圖1是示出根據本發明的實施例的部分的顯示基板的布局圖；圖2是沿圖1中的線1-1』所取的橫截面圖；圖3是示出根據示範性實施例的塑料基板的橫截面圖；圖4到圖7是示出圖1和2中的顯示基板的製造方法的橫截面圖；和圖8是示出根據本發明的實施例的顯示裝置的橫截面圖。
具體實施例方式
現將參考其中顯示本發明的實施例的附圖在其後更加全面地描述本發明。但是，本發明可以以許多不同的形式實現且不應解釋為限於這裡闡釋的實施例。而是，提供這些實施例使得本公開充分和完整，且向那些本領域的技術人員全面地傳達本發明的範圍。通篇相似的附圖標記指示相似的元件。
可以理解當元件被稱為在另一元件「上」時，它可以直接在其他元件上或可以存在中間的元件。相反，當元件被稱為「直接」在其他元件「上」時，則沒有中間元件存在。這裡所用的術語「和/或」包括相關列舉項目的一個或更多的任何和所有組合。
可以理解雖然術語第一、第二和第三可以用於此來描述各種元件，這些元件應不受這些術語限制。這些術語只用於區分一個元件與其他元件。例如，第一薄膜可以被稱為第二薄膜，且相似地，第二薄膜可以被稱為第一薄膜，而不背離本公開的教導。
這裡所使用的術語是只為了描述特別的實施例的目的，而不在於限制本發明。如這裡所用，單數形式「一」、「該」也旨在包括複數形式，除非內容清楚地指示另外的意思。可以進一步理解當在此說明書中使用時術語「包括」和/或「包含」說明所述特徵、區域、數字、步驟、操作、元件和/或組分的存在，但是不排出存在或添加一個或更多其他特徵、區域、數字、步驟、操作、元件、組分和/或其組。
另外，在這裡可以使用相對術語，諸如「下」、「底」、「上」、「頂」等，來描述一個元件和其他元件如圖中所示的關係。可以理解相對術語旨在包含除了在圖中所繪的方向之外的裝置的不同方向。例如，如果將一副圖中的裝置翻轉，那麼被描述為在其他元件的「下」側的元件則應取向在所述其他元件的「上」。因此，示範性術語「下」可以包含「下」和「上」兩個方向，依據圖的具體取向。相似地，如果將一副圖中的裝置翻轉，那麼被描述為在其他元件的「下方」或「下面」的元件則應取向在所述其他元件的「上方」。因此，示範性術語「下方」或「下面」可以包含上方和下方的取向。
除非另有界定，這裡使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有本發明屬於的領域的一般技術人員共同理解的相同的意思。還可以理解諸如那些在通常使用的字典中定義的術語應解釋為一種與在相關技術和本公開的背景中它們的涵義一致的涵義，而不應解釋為理想化或過度正式的意義，除非在這裡明確地如此界定。
參考橫截面(和/或平面圖)圖示在這裡描述了本發明的實施例，該圖示是本發明的理想實施例的示意圖。因此，可以預期由於例如製造技術和/或公差引起的圖示的形狀的變化。因此，本發明的實施例不應解釋為限於這裡所示的特別的區域形狀，而是包括由於例如由製造引起的形狀的偏離。例如，示出或描述為平的區域可以通常具有粗糙和/或非線性的特徵。另外，示出的尖角可以是倒圓的。因此，圖中示出的區域本質上是示意性的，且它們的形狀不旨在示出區域的精確的形狀和不旨在限制本發明的範圍。
這裡，將參考附圖詳細說明本發明。
圖1是示出根據本發明的實施例的部分的顯示基板的布局圖，且圖2是沿圖1中的線1-1』所取的橫截面圖。
參考圖1和2，顯示基板100包括塑料基板110、柵極布線120、柵極絕緣層130、有源層140、數據布線150和漏極布線160。
塑料基板110具有柔性薄膜形狀。塑料基板110包括光學透明的合成樹脂。
柵極布線120形成於塑料基板110上。柵極布線120包括柵線122和柵電極部分124。柵電極部分124電連接到柵線122。
柵極布線120沿第一方向延伸。柵電極部分124電連接到柵線122，且柵電極部分124是開關器件TFT的元件。
柵極絕緣層130形成於在其上形成有柵極布線120的塑料基板110上。柵極絕緣層130包括例如氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiOx)等。
有源層140形成於部分的柵極絕緣層130上，所述絕緣層130的部分相應於柵電極部分124。有源層140包括半導體層142和歐姆接觸層144。半導體層142包括非晶矽(a-Si)。歐姆接觸層144包括具有n型摻雜劑的非晶矽(n+a-Si)。
數據布線150形成於柵極絕緣層130上。數據布線150包括數據線152和備修線154。數據線152和備修線154沿不同於第一方向的第二方向延伸。例如，第一方向基本垂直於第二方向，使得數據線152和備修線154基本垂直於沿第一方向延伸的柵極布線120。
數據線包括形成於有源層140上的源電極部分153。源電極部分153是開關器件TFT的元件。
數據布線150還包括連接線156。連接線156電連接數據線152和備修線154。連接線156形成基本平行於柵極布線120。例如，連接線156形成於與柵極布線120相鄰的部分上來防止減小顯示基板100的開口率。
漏極布線160形成於柵極絕緣層130上。漏極布線160設置於數據線152和備修線154之間。漏極布線160包括設置於有源層140上的漏電極部分162。漏電極部分162是開關器件TFT的元件。
源電極部分153和漏電極部分162在有源層140上方從彼此分開。有源層140相應於開關器件TFT的溝道。
漏極布線160還包括與像素電極180電連接的接觸部分164。數據布線150和漏極布線160包括基本相同的材料。數據布線150和漏極布線160通過相同的工藝來形成。
顯示基板100可以還包括保護層170和像素電極180。保護層170形成於其上形成有數據布線150和漏極布線160的柵極絕緣層130上。通過保護層170形成接觸孔172。接觸孔172暴露漏極布線160的接觸部分164。
像素電極180形成於保護層170上，使得當從顯示基板的平面圖觀察時，像素電極180至少部分地與漏極布線160的接觸部分164重疊。
像素電極180包括光學透明和導電材料。例如，像素電極180包括氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)等。
像素電極180通過接觸孔172電連接到漏極布線160的接觸部分164。
雖然未顯示，顯示基板100可選地包括設置於保護層170和像素電極180之間的有機層，以平坦化顯示基板100的表面。
根據本發明的顯示基板100使用具有阻擋層的塑料基板110，使得在形成顯示基板100的工藝期間在塑料基板110中可能產生細裂紋。細裂紋可能導致數據線152的斷開。
為了解決該問題，根據本發明的顯示基板100還包括備修線154，備修線154形成到數據線152的可替換的電路徑。
在常規的顯示器中，當在數據線152中形成裂紋CRK時，數據線152不能將來自驅動器(未顯示)的電信號傳送到TFT的源電極153。然而，根據本發明，可以將來自驅動器的電信號經由備修線154傳輸到連接線156，傳輸回數據線152，再到源電極153，由此繞過裂紋CRK。於是本發明在裂紋CRK斷路路徑之一的情形使用了並行電路徑來維持對於TFT電極的電連接。
在圖1和2中，顯示基板100包括電連接到數據線152來繞過數據線152中的裂紋的備修線。相同的技術可以應用於解決柵線122中的裂紋。具體而言，顯示基板100可以還包括電連接到柵線的備修線，來解決柵線122的斷開問題。另外，顯示基板100可以均包括用於解決數據線152的斷開問題的第一備修線和用於解決柵線122的斷開問題的第二備修線。
圖3是示出根據示範性實施例的塑料基板的橫截面圖。
參考圖3，塑料基板110包括基底基板112、第一阻擋層114和第二阻擋層116。第一阻擋層114形成於基底基板112的上表面。第二阻擋層116形成於基底基板112的下表面上。
基底基板112包括光學透明的合成樹脂。基底基板112包括例如樹脂，比如聚醚碸(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚醯亞胺(PI)、聚萘二酸乙二酯(PEN)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等。
為了防止溼氣或氣體滲入和擴散入基底基板112，第一和第二阻擋層114和116分別形成於基底基板112的上和下表面上。
第一和第二阻擋層114和116的每層包括具有熱膨脹係數小於基底基板116的材料。第一和第二阻擋層114和116包括例如丙稀基樹脂。
其後，將參考圖4到7說明根據本發明的顯示基板的製造方法。
圖4到圖7是示出圖1和2中的顯示基板的製造方法的橫截面圖。
參考圖1和4，在塑料基板110上形成第一金屬層(未顯示)，且然後通過光刻工藝構圖第一金屬層來形成柵極布線120，其包括柵線122和柵電極部分124。
將柵極布線120沿第一方向(或水平方向)延伸。柵電極部分124電連接到柵線122。柵電極部分124是開關器件TFT的元件。柵極布線120具有例如三層結構，所述結構包括鉬/鋁/鉬層。
在其上形成有柵極布線120的塑料基板110上形成柵極絕緣層130。柵極絕緣層130包括例如氮化矽(SiNx)或氧化矽(SiOx)。
參考圖1和5，在柵極絕緣層130上形成用於形成半導體層的a-Si層，且在a-Si層上形成用於形成歐姆接觸層的n+a-Si層。通過例如光刻工藝來構圖a-Si層和n+a-Si層，由此形成設置於柵電極部分124上方的有源層140。
有源層140包括半導體層142和歐姆接觸層144。半導體層142包括a-Si。歐姆接觸層144包括n+a-Si，其用n型雜質重摻雜。
參考圖1和6，當在柵極絕緣層130和有源層140上形成第二金屬層(未顯示)時，通過例如光刻工藝構圖第二金屬層來形成數據布線150和漏極布線160。
數據布線150包括數據線152、形成基本平行於數據線152的備修線154和將數據線152電連接到備修線154的連接線156。數據線152包括至少部分重疊有源層140的源電極部分153。
數據線152和備修線154沿基本垂直於第一方向的第二方向(或垂直方向)延伸。連接線156形成基本平行於柵極布線120，以將數據線152連接到備修線154。為了防止顯示器100的開口率的減小，在相鄰於柵極布線120的部分上形成連接線156。
在數據線152和備修線154之間設置漏極布線160。漏極布線160包括設置於有源層140上的漏電極部分162、以及設置於柵極絕緣層130上的接觸部分164。
數據布線150的源電極部分153是開關器件TFT的元件。漏極布線160的漏電極部分162是開關器件TFT的元件。源電極部分153和漏電極部分162從彼此分開。在有源層140上方設置源電極部分153和漏電極部分162，使得電流可以在源電極部分153和漏電極部分162之間通過有源層140流動。有源層140相應於開關器件TFT的溝道。
數據布線150和漏極布線160包括相同的材料。數據布線150和漏極布線160通過相同的工藝同時形成。數據布線150和漏極布線160具有例如三層結構，該結構包括鉬/鋁/鉬層。
其後，去除設置於源電極部分153和漏電極部分162之間的歐姆接觸層144來暴露半導體層142。
參考圖1和7，在其上形成有數據布線150和漏極布線160的柵極絕緣層130上形成保護層170，且然後去除部分的保護層170來形成接觸孔172，該接觸孔172暴露漏極布線160的部分的接觸部分164。
再次參考圖1和2，在保護層170上形成透明導電層(未顯示)，且構圖所述透明導電層來形成像素電極180。像素電極180包括光學透明和導電的材料。像素電極180包括例如氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)等。
像素電極180通過形成於保護層170的接觸孔172電連接到漏極布線160的接觸部分164。
另外，根據本發明的顯示基板100的製造可以還包括形成設置於保護層170和像素電極180之間的有機層(未顯示)的步驟來平坦化顯示基板110的表面。
圖8是示出根據本發明的實施例的顯示裝置的橫截面圖。本實施例的顯示基板具有與圖2所示的相同的結構。於是，相同的附圖標記用於指示與圖2中所描述的相同或相似的部分，且將省略與以上元件相關的任何進一步的說明。
參考圖8，根據本發明的實例的顯示裝置200包括顯示基板100、面對顯示基板100的彩色濾光基板300和設置於顯示基板100和彩色濾光基板300之間的液晶層400。
彩色濾光基板300包括塑料基板310、彩色濾光層320和公共電極330。
塑料基板310具有柔性薄膜形狀。塑料基板310包括光學透明樹脂。塑料基板310包括例如聚醚碸(PES)。
彩色濾光層320形成於塑料基板310的表面上，其面對顯示基板100。彩色濾光層320包括紅色濾光器、綠色濾光器和藍色濾光器。彩色濾光層320可以形成於顯示基板100上。
公共電極330形成於彩色濾光層320上，使得公共電極330面對顯示基板100。公共電極330包括光學透明和導電的材料。公共電極330包括例如氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)等。
液晶層400包括規則排列的液晶分子。液晶層400具有折射率和介電係數的各向異性。當將電場施加到液晶層400時，改變了液晶層400的排列來控制透光率。
當將柵信號通過柵線122施加到柵電極部分124時，導通開關器件TFT。將數據線152的數據信號通過源電極部分153和漏電極部分162施加到像素電極180。另外，將公共電壓施加到彩色濾光基板300的公共電極330。
因此，在像素電極180和公共電極330之間產生電場。當將該電場施加到設置於像素電極180和公共電極330之間的液晶層時，重新排列液晶層400的液晶分子來改變透光率來顯示預定的圖像。
根據顯示基板、該顯示基板的製造方法以及具有該顯示基板的顯示裝置，為了解決數據線的斷開問題，在每個像素區上形成電連接到數據線的備修線。
因此，由塑料基板的細裂紋誘發的數據線的斷開問題可以通過備修線解決，而不需要用於解決數據線的斷開問題的額外的工藝。
已經描述了本發明的示範性實施例和其優點，應注意，在不脫離由權利要求所界定的本發明的精神和範圍的情況下可以在這裡做出各種改變、替換和變化。
權利要求
1.一種顯示基板，包括；塑料基板；柵極布線，沿第一方向形成於所述塑料基板上，所述柵極布線包括柵線和電連接於所述柵線的柵電極部分；柵極絕緣層，形成於在其上形成有所述柵極布線的塑料基板上；有源層，形成於相應於所述柵電極部分的部分所述柵極絕緣層上；數據布線，包括數據線和備修線，所述數據線形成於柵極絕緣層上以沿不同於所述第一方向的第二方向橫跨所述柵線，所述備修線基本平行於所述數據線且電連接到所述數據線；和漏極布線，形成於所述數據線和所述備修線之間的部分上。
2.如權利要求1所述的顯示基板，其中，所述數據布線還包括將所述數據線和所述備修線彼此電連接的連接線。
3.如權利要求2所述的顯示基板，其中，所述連接線形成基本平行於所述柵線。
4.如權利要求1所述的顯示基板，其中，所述數據線包括至少部分重疊所述有源層的源電極部分，和所述漏極布線包括至少部分重疊所述有源層的漏電極部分。
5.如權利要求1所述的顯示基板，還包括保護層，形成於其上形成有所述柵極布線和漏極布線的柵極絕緣層上；和像素電極，形成於所述保護層上。
6.如權利要求5所述的顯示基板，其中，所述漏極布線還包括電連接到所述像素電極的接觸部分。
7.如權利要求6所述的顯示基板，其中，所述像素電極通過形成於所述保護層的接觸孔電連接到所述接觸部分。
8.如權利要求1所述的顯示基板，其中，所述塑料基板包括基底基板；和阻擋層，形成於所述基底基板的上表面和下表面上。
9.如權利要求8所述的顯示基板，其中，所述基底基板包括選自聚醚碸、聚碳酸酯、聚醯亞胺、聚萘二酸乙二酯、聚對苯二甲酸乙二酯的材料。
10.如權利要求8所述的顯示基板，其中，所述阻擋層包括丙稀基樹脂。
11.一種製造顯示基板的方法，所述方法包括在塑料基板上沿第一方向形成柵極布線，所述柵極布線包括柵線和柵電極部分；在其上形成有所述柵極布線的塑料基板上形成柵極絕緣層；在相應於柵電極部分的部分所述柵極絕緣層上形成有源層；在所述柵極絕緣層上沿不同於所述第一方向的第二方向形成數據布線，所述數據布線包括數據線、基本平行於所述數據線形成的備修線、和將所述數據線和所述備修線電連接的連接線；和在所述數據線和所述備修線之間的部分上形成漏極布線。
12.如權利要求11所述的方法，其中，所述數據線和備修線沿所述第二方向形成，且所述連接線形成基本平行於所述柵線。
13.如權利要求11所述的方法，其中，形成所述數據線包括形成至少部分重疊所述有源層的源電極部分，且形成所述漏極布線包括形成至少部分重疊所述有源層的漏電極部分。
14.如權利要求11所述的方法，還包括在其上形成有所述柵極布線和漏極布線的柵極絕緣層上形成保護層；和在所述保護層上形成像素電極。
15.如權利要求14所述的方法，其中，所述漏極布線還包括電連接到所述像素電極層的接觸部分。
16.如權利要求11所述的方法，其中，同時從相同的金屬層形成所述數據布線和所述漏極布線。
17.如權利要求11所述的方法，其中，所述塑料基板包括基底基板；和阻擋層，形成於所述基底基板上。
18.一種顯示裝置，包括第一基板；第二基板，面對所述第一基板；和液晶層，設置於所述第一基板和第二基板之間，其中，所述第一基板包括塑料基板；柵極布線，沿第一方向形成於所述塑料基板上，所述柵極布線包括柵線和電連接於所述柵線的柵電極部分；柵極絕緣層，形成於在其上形成有所述柵極布線的塑料基板上；有源層，形成於相應於所述柵電極部分的部分所述柵極絕緣層上；數據布線，包括數據線和備修線，所述數據線形成於柵極絕緣層上以沿不同於所述第一方向的第二方向橫跨所述柵線，所述備修線基本平行於所述數據線且電連接到所述數據線；和漏極布線，形成於所述數據線和所述備修線之間的部分上。
19.如權利要求18所述的顯示裝置，其中，所述數據布線還包括連接線，所述連接線將所述數據線和所述備修線彼此電連接。
20.如權利要求18所述的顯示裝置，其中，所述第一基板包括基底基板；和阻擋層，形成於所述基底基板的上表面和下表面。
21.如權利要求20所述的顯示裝置，其中，所述第二基板包括第二塑料基板；和公共電極層，形成於所述第二塑料基板上，使得所述公共電極層面對所述像素電極層。
22.如權利要求18所述的顯示基板，其中，所述第一基板還包括保護層，形成於其上形成有所述柵極布線和漏極布線的柵極絕緣層上；和像素電極，形成於所述保護層上。
23.一種顯示基板，包括塑料基板；第一布線，沿第一方向形成於所述塑料基板上，所述第一布線包括第一部分和第二部分；和第二布線，形成於所述塑料基板上，所述第二布線在所述第一部分和所述第二部分電連接到所述第一布線。
24.如權利要求23所述的顯示基板，還包括第三布線，沿第二方向形成於所述塑料基板上。
25.如權利要求24所述的顯示基板，其中所述第一布線是數據線；所述第二布線是備修線；所述第三布線是柵極布線；所述數據線基本平行於所述備修線的至少一部分；所述第一方向基本垂直於所述第二方向。
26.如權利要求25所述的顯示基板，還包括柵極絕緣層，形成於其上形成有所述柵極布線的塑料基板上；所述柵極布線的柵電極部分；和有源層，形成於所述柵電極部分上。
27.如權利要求24所述的顯示基板，其中所述第一布線是柵極布線；所述第二布線是備修線；所述第三布線是數據線；所述柵極布線基本平行於所述備修線的至少一部分；所述第一方向基本垂直於所述第二方向。
全文摘要
本發明公開了一種顯示基板、其製造方法和使用其的顯示裝置。所述顯示基板包括塑料基板、柵極布線、柵極絕緣層、有源層、數據布線和漏極布線。柵極布線包括包括柵線和電連接於所述柵線的柵電極部分。有源層形成於部分的柵極絕緣層上。數據布線包括數據線和電連接到數據線的備修線。漏極布線，形成於所述數據線和所述備修線之間的部分上。因此，可以解決由塑料基板的細裂紋誘發的斷開問題。
文檔編號H01L23/522GK1893090SQ20051012976
公開日2007年1月10日 申請日期2005年12月5日 優先權日2005年7月5日
發明者徐宗鉉 申請人:三星電子株式會社