掩模擋板及其製造方法
2023-05-02 15:49:41 1
掩模擋板及其製造方法
【專利摘要】本發明公開了一種掩模擋板及其製造方法，其中該掩模擋板的製造方法包括：步驟S1、在透明襯底上形成遮光層；步驟S2、通過預先形成的掩膜裝置對所述遮光層進行構圖工藝形成遮光圖案，所述掩膜裝置包括公用掩膜板和至少一塊遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光區域和非透光區域，所述至少一塊遮光板用於遮擋部分所述第一透光區域以形成第二透光區域，所述第二透光區域對應於所述遮光圖案。本發明的技術方案在不但實現了掩模板的共用化設計，而且由於在進行構圖工藝時僅需要進行一次曝光工藝，因此可有效的縮短生產工藝的時間，提升生產效率。
【專利說明】掩模擋板及其製造方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及顯示【技術領域】，特別涉及掩模擋板及其製造方法。
【背景技術】
[0002] 在液晶顯示面板生產中，需要在陣列基板或者彩膜基板上滴注液晶和封框膠，然 後將兩基板進行對盒，再將封框膠固化，其中，封框膠的作用是粘接陣列基板和彩膜基板， 並且保護中間的液晶不受外界空氣和水的影響。
[0003] 其中，在兩基板對盒後，需要對封框膠進行紫外固化，其中在進行紫外固化時，需 要用到於與待固化產品尺寸相對應的紫外固化用的掩模擋板，該掩模擋板包括透光區域和 非透光區域，其中掩模擋板板的透光區域對應待固化產品中的封框膠位置，從而使得紫外 光線能對封框膠進行紫外固化，掩模擋板的非透光區域對應待固化產品的顯示區域，從而 避免紫外光線對顯示區域內部件的損壞。
[0004] 該掩模擋板具體包括透明襯底和位於透明襯底上的遮光圖案，該遮光圖案即為 掩模擋板的非透光區域，現有技術中形成掩模擋板的方法大致如下，首先在透明襯底上沉 積一層遮光材料；然後在遮光材料上塗覆正性光刻膠，該正性光刻膠包括保留區域和非保 留區域；再然後選取相應尺寸的掩模板來對正性光刻膠的保留區域進行曝光；最後通過顯 影、刻蝕、正性光刻膠剝離等步驟得該遮光圖案。
[0005] 然而，由於待固化產品尺寸大小存在差異，因此在紫外固化過程中所使用的掩模 擋板也會不同（掩模擋板上遮光區域的大小和分布均變化），同時生產這些不同的掩模擋 板需要用到不同的掩模板（在曝光過程中）。而配置這些不同的掩模板會給整個產線帶來 較大的成本，使得經濟為效應降低。
[0006] 為解決上述問題，目前一些廠商採用共用化設計，僅利用在生產大尺寸待固化產 品對應的掩模擋板時所使用的大尺寸掩模板，來生產小尺寸待固化產品對應的掩模擋板。
[0007] 圖1為正性光刻膠對應的大尺寸掩模板的示意圖，圖2為正性光刻膠經過四次曝 光的示意圖，如圖1和圖2所示，其具體地生產過程如下：首先在透明襯底上形成遮光材 料，並在遮光材料上形成正性光刻膠，由於遮光材料上方的光刻膠為正性光刻膠，因此該大 尺寸掩模板的中間位置為非透光區域1，大尺寸掩模板的周邊位置為透光區域2 ;然後安裝 大尺寸掩模板，並將大尺寸掩模板與透明襯底進行對位；再然後調整四次透明襯底的位置 (上、下、左、右各一次），並每調整一次位置後均進行一次曝光處理，經過四次曝光後正性 光刻膠上僅有一個小塊區域沒有被曝光；再經過顯影步驟、刻蝕步驟後，該小塊區域的正性 光刻膠下方的遮光材料得到保留即為遮光圖案；最後進行光刻膠剝離步驟得到小尺寸待固 化產品對應的掩模擋板。
[0008] 然而，現有的這種利用大尺寸掩模板生產小尺寸待固化產品對應的掩模擋板的過 程中，需要在對位後移動四次透明襯底，並進行四次曝光過程，從而使得生產工藝的時間偏 長，生產效率較低。
【發明內容】
[0009] 本發明提供一種掩模擋板及其製造方法，在實現利用大尺寸掩模板生產小尺寸待 固化產品對應的掩模擋板的同時，能有效的縮短生產工藝的時間，提升生產效率。
[0010] 為實現上述目的，本發明提供一種掩膜擋板的製造方法，包括：
[0011] 步驟S1、在透明襯底上形成遮光層；
[0012] 步驟S2、通過預先形成的掩膜裝置對所述遮光層進行構圖工藝形成遮光圖案，所 述掩膜裝置包括公用掩膜板和至少一塊遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光區域和非透 光區域，所述至少一塊遮光板用於遮擋部分所述第一透光區域以形成第二透光區域，所述 第二透光區域對應於所述遮光圖案。
[0013] 可選地，在步驟S1之前還包括：
[0014] 步驟S0、調整所述至少一塊遮光板的位置，所述遮光板遮擋共用掩模板的部分所 述第一透光區域以形成所述第二透光區域。
[0015] 可選地，所述步驟S0位於所述步驟S1之後。
[0016] 可選地，所述步驟S2包括：
[0017] 步驟S21、在所述遮光層上形成負性光刻膠，所述負性光刻膠包括：保留區域和非 保留區域，所述保留區域對應所述第二透光區域；
[0018] 步驟S22、曝光光線通過所述第二透光區域對所述負性光刻膠的保留區域進行曝 光；
[0019] 步驟S23、對曝光後的所述負性光刻膠進行顯影；
[0020] 步驟S24、對所述遮光層進行刻蝕形成所述遮光圖案；
[0021] 步驟S25、對所述遮光圖案上的負性光刻膠進行剝離。
[0022] 可選地，所述遮光板的數量為四塊，其中兩塊所述遮光板在第一平面內平行設置 且在所述第一平面內沿第一方向運動，另外兩塊所述遮光板在第二平面內平行設置且在所 述第二平面內沿第二方向運動，所述第一方向與所述第二方向垂直。
[0023] 可選地，所述遮光層的材料為金屬材料。
[0024] 為實現上述目的，本發明還提供一種掩膜擋板，所述掩膜擋板採用上述的掩膜擋 板的製造方法製成。
[0025] 本發明具有以下有益效果：
[0026] 本發明提供了一種掩模擋板及其製造方法，通過在遮光層上塗布負性光刻膠，且 利用至少一塊遮光板遮擋共用掩模板的第一透光區域以形成第二透光區域，該第二透光區 域對應遮光圖案，從而實現了掩模板的共用化設計。同時，在進行構圖工藝時僅需要進行一 次曝光工藝，因此可有效的縮短生產工藝的時間，提升生產效率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0027] 圖1為正性光刻膠對應的大尺寸掩模板的示意圖；
[0028] 圖2為正性光刻膠經過四次曝光的示意圖；
[0029] 圖3為本發明實施例提供的掩膜擋板的製造方法的流程圖；
[0030] 圖4為本發明中共用掩模板的示意圖；
[0031] 圖5為本發明實施例提供的掩膜擋板的又一製造方法的流程圖；
[0032] 圖6為本發明實施例提供的掩膜擋板的另一製造方法的流程圖；
[0033] 圖7為本發明中掩模裝置的俯視圖；
[0034] 圖8為圖7的右視圖。
【具體實施方式】
[0035] 為使本領域的技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖對本發明提 供的掩模擋板及其製造方法進行詳細描述。
[0036] 圖3為本發明實施例提供的掩膜擋板的製造方法的流程圖，如圖3所示，其中該掩 膜擋板為紫外固化用的掩模擋板，該製造方法包括：
[0037] 步驟S1、在透明襯底上形成遮光層。
[0038] 具體地，通過氣相沉積工藝在透明襯底上沉積一層遮光材料，該層遮光材料即為 遮光層。
[0039] 可選地，該遮光材料為金屬材料。
[0040] 步驟S2、通過預先形成的掩膜裝置對遮光層進行構圖工藝形成遮光圖案，掩膜裝 置包括公用掩膜板和至少一塊遮光板，公用掩膜板包括第一透光區域和非透光區域，至少 一塊遮光板用於遮擋部分第一透光區域以形成第二透光區域，第二透光區域對應於遮光圖 案。
[0041] 需要說明的是，本發明中所稱的構圖工藝包括光刻膠塗布、掩模、曝光、顯影、刻 蝕、光刻膠剝離等部分或全部工藝。其中，在本實施例中所用的光刻膠為負性光刻膠。
[0042] 圖4為本發明中共用掩模板的示意圖，如圖4所示，本實施例中所稱的共用掩模板 為生產大尺寸待固化產品對應的掩模擋板時所使用的大尺寸掩模板，由於在構圖工藝中所 使用的光刻膠為負性光刻膠，因此該共用掩模板的中間位置為第一透光區域3,該共用掩模 板的周邊位置為非透光區域4。在對遮光層上方的負性光刻膠進行曝光之前，需要利用遮光 板遮擋第一透光區域3以形成第二透光區域，此時第二透光區域的面積要小於第一透光區 域的面積，因此負性光刻膠上被光照射到的區域面積（曝光面積）相應的減小。
[0043] 在進行顯影、刻蝕以及光刻膠剝離等工藝後，在遮光層上形成遮光圖案，該遮光圖 案與第二透光區域對應。
[0044] 其中，第二透光區域的形狀和面積可以根據實際的生產需要來進行相應的調整。 圖5為本發明實施例提供的掩膜擋板的又一製造方法的流程圖，如圖5所示，在步驟S1之 前還包括：
[0045] 步驟S0、調整至少一塊遮光板的位置，遮光板遮擋共用掩模板的部分第一透光區 域以形成第二透光區域。
[0046] 可選地，步驟S0還可以位於步驟S1之後（此情況未給出相應的流程圖）。在本實 施例中，僅需保證步驟S0先於步驟S2執行即可。
[0047] 在本實施例中，假定該大尺寸待固化產品的尺寸大小為第一尺寸，且生產第一尺 寸待固化產品對應的掩模擋板時使用的掩模板為共用掩模板，則利用該共用掩模板可以生 產出滿足尺寸大小小於第一尺寸的待固化產品其所對應的掩模擋板，即實現了掩模板的共 用化設計。此外，在進行構圖工藝時僅需要進行一次曝光工藝，因此可有效的縮短生產工藝 的時間，提升生產效率。
[0048] 圖6為本發明實施例提供的掩膜擋板的另一製造方法的流程圖，如圖6所示，該制 造方法包括：
[0049] 步驟S0、調整至少一塊遮光板的位置，遮光板遮擋共用掩模板的部分第一透光區 域以形成第二透光區域。
[0050] 圖7為本發明中掩模裝置的俯視圖，圖8為圖7的右視圖，如圖7和圖8所示，該 掩模裝置包括共用掩模板6和四塊遮光板7(8)，其中兩塊遮光板7在第一平面內平行設置 且在第一平面內沿第一方向運動，另外兩塊遮光板8在第二平面內平行設置且在第二平面 內沿第二方向運動，第一方向與第二方向垂直。在步驟S0中，通過調整四塊遮光板7(8)的 位置，可實現利用至少一塊遮光板7(8)配合共用掩模板以圍成第二透光區域5,或者利用 四塊遮光板7(8)圍成第二透光區域5。需要說明的是，圖7中所示的共用掩模板6和遮光 板7 (8)的形狀大小並不對本申請的技術方案產生限制，共用掩模板6的圖形與遮光板7 (8) 的圖形僅起到示意性作用。
[0051] 此外，本發明中的遮光板具體可以為曝光機上的遮光板（shutter)。
[0052] 步驟S1、在透明襯底上形成遮光層。
[0053] 在步驟S1中，通過氣相沉積工藝在透明襯底上沉積一層遮光材料，該層遮光材料 即為遮光層。
[0054] 步驟S21、在遮光層上形成負性光刻膠，負性光刻膠包括：保留區域和非保留區 域，非保留區域對應第二透光區域。
[0055] 在步驟S21中，利用塗膠機在遮光層上塗布一層負性光刻膠。
[0056] 步驟S22、曝光光線通過第二透光區域對負性光刻膠的非保留區域進行曝光。
[0057] 在步驟S22中，曝光機產生的曝光光線透過第二透光區域，從而照射至負性光刻 膠的保留區域，從而使得負性光刻膠的保留區域變性而具備抗蝕能力。
[0058] 步驟S23、對曝光後的負性光刻膠進行顯影。
[0059] 在步驟S23中，利用顯影液對負性光刻膠進行顯影，保留區域的負性光刻膠因為 變性而得到保留，非保留區域的負性光刻膠溶解於顯影液中。
[0060] 步驟S24、對遮光層進行刻蝕形成遮光圖案。
[0061] 在步驟S24中，通過刻蝕工藝對遮光層進行刻蝕，覆蓋有負性光刻膠的遮光材料 得到保留，即為所需要的遮光圖案。
[0062] 步驟S25、對遮光圖案上的負性光刻膠進行剝離。
[0063] 在步驟S25中，通過剝離工藝使得遮光圖案上的負性光刻剝離，從而得到掩膜擋 板，流程結束。
[0064] 本發明實施例提供了一種掩模擋板的製造方法，通過在遮光層上塗布負性光刻 膠，且利用至少一塊遮光板遮擋共用掩模板的第一透光區域以形成第二透光區域，該第二 透光區域對應遮光圖案，從而實現了掩模板的共用化設計。同時，在進行構圖工藝時僅需要 進行一次曝光工藝，因此可有效的縮短生產工藝的時間，提升生產效率。
[0065] 本發明實施例還提供了一種掩膜擋板，該掩膜擋板採用本發明中任一實施例提供 的掩膜擋板的製造方法製成。
[〇〇66] 可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發明的原理而採用的示例性實施 方式，然而本發明並不局限於此。對於本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發明的精 神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發明的保護範圍。
【權利要求】
1. 一種掩膜擋板的製造方法，其特徵在於，包括： 步驟S1、在透明襯底上形成遮光層； 步驟S2、通過預先形成的掩膜裝置對所述遮光層進行構圖工藝形成遮光圖案，所述掩 膜裝置包括公用掩膜板和至少一塊遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光區域和非透光區 域，所述至少一塊遮光板用於遮擋部分所述第一透光區域以形成第二透光區域，所述第二 透光區域對應於所述遮光圖案。
2. 根據權利要求1所述的掩膜擋板的製造方法，其特徵在於，在步驟S1之前還包括： 步驟SO、調整所述至少一塊遮光板的位置，所述遮光板遮擋共用掩模板的部分所述第 一透光區域以形成所述第二透光區域。
3. 根據權利要求2所述的掩膜擋板的製造方法，其特徵在於，所述步驟SO位於所述步 驟S1之後。
4. 根據權利要求1所述的掩膜擋板的製造方法，其特徵在於，所述步驟S2包括： 步驟S21、在所述遮光層上形成負性光刻膠，所述負性光刻膠包括：保留區域和非保留 區域，所述保留區域對應所述第二透光區域； 步驟S22、曝光光線通過所述第二透光區域對所述負性光刻膠的保留區域進行曝光； 步驟S23、對曝光後的所述負性光刻膠進行顯影； 步驟S24、對所述遮光層進行刻蝕形成所述遮光圖案； 步驟S25、對所述遮光圖案上的負性光刻膠進行剝離。
5. 根據權利要求1-4中任一所述的掩膜擋板的製造方法，其特徵在於，所述遮光板的 數量為四塊，其中兩塊所述遮光板在第一平面內平行設置且在所述第一平面內沿第一方向 運動，另外兩塊所述遮光板在第二平面內平行設置且在所述第二平面內沿第二方向運動， 所述第一方向與所述第二方向垂直。
6. 根據權利要求1-4中任一所述的掩膜擋板的製造方法，其特徵在於，所述遮光層的 材料為金屬材料。
7. -種掩膜擋板，其特徵在於，所述掩膜擋板採用上述權利要求1至6中任一所述的掩 膜擋板的製造方法製成。
【文檔編號】G03F1/00GK104102094SQ201410303046
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年6月27日 優先權日:2014年6月27日
【發明者】高玉傑, 樸相鎮 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術有限公司