樹脂和包含其的光刻膠組合物的製作方法

2023-05-02 23:33:41 1

專利名稱：樹脂和包含其的光刻膠組合物的製作方法
技術領域：
本發明涉及樹脂和包含其的光刻膠組合物。
背景技術：
用於採用光刻工藝進行半導體製造的光刻膠組合物包含樹脂、產酸劑和鹼性化合物，所述樹脂具有衍生自具有酸不穩定基團的化合物的結構單元，不可溶於或較難溶於鹼性水溶液中但是通過酸的作用變得可溶於鹼性水溶液中。US 2009/020945 Al公開了一種通過聚合下式所表示的單體而獲得的含氟樹脂。
權利要求
1.一種樹脂，其包含衍生自式(I)所表示的化合物的結構單元
2.根據權利要求I所述的樹脂，其中在所述式(a-gl)中s為O。
3.根據權利要求I所述的樹脂，其中在所述式(a-gl)中A11為C1-C6烷二基。
4.根據權利要求I所述的樹脂，其中在所述式(a-gl)中A11為亞乙基。
5.根據權利要求I所述的樹脂，其中在所述式(I)中A2為C1-C3全氟烷二基。
6.根據權利要求I所述的樹脂，其還包含衍生自具有酸不穩定基團的化合物的結構單
7.根據權利要求6所述的樹脂，其中所述具有酸不穩定基團的化合物是由式(al-1)或(al-2)所表示的單體
8.根據權利要求I所述的樹脂，其還包含衍生自沒有酸不穩定基團並且具有羥基金剛烷基的化合物的結構單元。
9.根據權利要求8所述的樹脂，其中所述沒有酸不穩定基團並且具有羥基金剛烷基的化合物是由式(a2_l)所表示的單體
10.根據權利要求I所述的樹脂，其還包含衍生自沒有酸不穩定基團並且具有內酯環的單體的結構單元。
11.根據權利要求10所述的樹脂，其中所述沒有酸不穩定基團並且具有內酯環的單體是由式(a3_l)、(a3_2)或(a3_3)所表不的單體
12.根據權利要求I所述的樹脂，其還包含衍生自沒有酸不穩定基團並且具有一個或更多個氟原子的單體的結構單元。
13.根據權利要求12所述的樹脂，其中所述沒有酸不穩定基團並且具有一個或更多個氟原子的單體是由式(a4_l)所表示的單體
14.一種光刻膠組合物，其包含根據權利要求I至13中任一項所述的樹脂和產酸劑。
15.根據權利要求14所述的光刻膠組合物，其還包含溶劑。
16.一種用於產生光刻膠圖案的方法，包括以下步驟(I)至(5) (1)將根據權利要求14或15所述的光刻膠組合物施加到襯底上的步驟， (2)通過進行乾燥來形成光刻膠膜的步驟， (3)使所述光刻膠膜暴露於輻射的步驟， (4)烘烤曝光的光刻膠膜的步驟，和 (5)利用鹼性顯影劑使所烘烤的光刻膠膜顯影，由此形成光刻膠圖案的步驟。
全文摘要
本發明提供樹脂和包含所述樹脂和產酸劑的光刻膠組合物，所述樹脂包含衍生自式(I)所表示的化合物的結構單元其中R1表示氫原子或甲基，A2表示二價含氟C1-C12烴基，並且A1表示由式(a-g1)所表示的基團其中A10在每次出現時獨立地為C1-C5脂肪族烴基，A11表示C1-C5脂肪族烴基，X10在每次出現時獨立地為-O-、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，並且s表示0至2的整數。
文檔編號G03F7/00GK102746457SQ20121011234
公開日2012年10月24日 申請日期2012年4月16日 優先權日2011年4月19日
發明者增山達郎, 市川幸司 申請人:住友化學株式會社