炊具的製作方法

2023-05-02 23:44:31

專利名稱：炊具的製作方法
技術領域：
本發明涉及用於介電加熱待加熱的物體的炊具。
背景技術：
因為一般為微波加熱裝置的微波爐能夠直接加熱作為待加熱物體的食物，它由於 不需要準備鍋或者鐵罐的簡單性而變為生活中不可缺少的設備。如今，流行的微波爐是這 樣的，即其中在傳送微波的加熱室中容納食物的空間的尺寸具有大約300至400毫米的寬 度尺寸和深度尺寸以及大約200毫米的高度尺寸。近年來，產品正在被推向實用，其中加熱室具有這樣的形狀，即容納食物的空間的 底部表面是平的，寬度尺寸設置為400毫米或以上以比深度尺寸相對更大，並且寬度大，這 提高便利性，因為可以安置和加熱多個碟子。此外，隨著微波爐的多功能化，微波爐正在被引向具有除了現有的所謂的「加熱功 能」(高頻波加熱，其通過輻射到食物上的輻射微波加熱食物)之外的「烘烤功能」的市場。 烘烤功能包括用於升高盛放食物所在的加熱板的溫度的裝置，從而經由加熱盤加熱食物； 用於通過加熱的加熱器加熱食物的裝置；或者通過方法的組合通過直接火焰類型(進行烹 飪的烹飪精加工以使得內部多汁而外部鬆脆)烹飪食物的功能。在現有技術中，如圖20的傳統的高頻波加熱裝置的構型圖所示，這種類型的高頻 波加熱裝置300包括波導管303，其傳輸從作為典型的微波產生裝置的磁控管302輻射出 的微波；加熱室301 ；盛放臺306，其固定在加熱室301中用於盛放食物(未示出)，其中食 物為典型的待加熱的物體並且具有微波能夠容易地穿過其中的屬性，因為盛放臺是由低損 耗的介電材料例如陶瓷或者玻璃製成；天線空間310，其形成在加熱室301中的盛放臺306 的下面；轉動天線305，其附著到加熱室301的中心附近並從波導管303跨到天線空間310 以為了將波導管303中的微波輻射到加熱室301中；用作典型的驅動裝置的電機304，其能 夠驅使轉動天線305轉動；加熱盤308，其取決於應用而安裝在加熱室301中；盤接收部分 307，其支撐加熱盤308 ；以及加熱器309，其執行電加熱。在加熱功能的情形下，其中待加熱的物體是通過高頻波加熱直接加熱和保溫的， 高頻波加熱處理通過盛放在盛放臺306上的食物等執行。從磁控管302輻射的微波通過波 導管303暫時吸收在轉動天線305中，然後，微波從轉動天線305的輻射部分的上表面向著 加熱室301輻射。此時，通常，為了均勻攪動加熱室301中的微波，轉動天線305以恆定速 度轉動的同時輻射微波。此外，在烘烤功能的情形下，其中執行直接火焰類型烹飪，食物(例如，無骨雞腿、 魚等)盛放在加熱盤308上，加熱盤布置在盤接收部分307上。在該狀態下，食物的表面部 分通過位於食物上方的加熱器309加熱處理。另一方面，食物的後表面部分通過加熱盤308 加熱處理，其中加熱盤的溫度已經通過微波升高。在加熱和烹飪中，其中微波聚集在食物上，食物內部的溼氣由於微波的屬性的原 因而過度散失。相反，在通過加熱器和加熱盤加熱食物的過程中，食物可以通過所謂的直接火焰類型的精加工而精加工以使得食物的表面鬆脆而溼氣或者味道包裹在食物內部(參 照專利文獻1)。[專利文獻 1] JP-A-2004-071216

發明內容
技術問題假定在專利文獻1中公開的傳統高頻波加熱裝置在烘烤功能情形下在食物等沒 有盛放在盛放臺306的狀態下通過微波升高加熱盤308的溫度，並且加熱處理盛放在加熱 盤308上的食物的後表面部分。也就是，在現有技術中的高頻波加熱裝置不是基於這樣的 假設發明的，即加熱處理通過盛放在盛放臺306和加熱盤308上的食物而執行。由於該原 因，如果當食物等盛放在盛放臺306上時加熱盤308的溫度試圖通過微波升高，從盛放臺 306下面輻射的微波將由於盛放臺306上的食物等的原因而在反射和散射後傳送，這樣加 熱盤308的溫度不能像在其中食物等沒有盛放在盛放臺306上的狀態下一樣充分升高。此外，一些輻射到加熱室中的微波傳送到加熱盤308的上部空間(即盛放食物的 空間)中以直接加熱食物。但是，在現有技術中，僅僅描述了在高頻波加熱裝置中，接觸加 熱盤308的食物的後表面部分被加熱這一點。沒有考慮到已經傳送到加熱盤308的上部空 間的微波加熱盛放在加熱盤308上的食物這一點。本發明是考慮到以上情形而進行的，並且本發明的目的是提供一種炊具，其能夠 通過微波有效地升高加熱盤溫度，並還能夠通過微波有效地加熱盛放在加熱盤上的待加熱 的物體，即使是在待加熱的物體放置在加熱室的底部表面上的狀態下。技術方案本發明的烹飪裝置包括加熱室，其中待加熱的物體盛放在也用作底部表面的盛 放臺上；可拆卸的加熱盤，其可拆卸地設置在加熱室內部並且與上述待加熱的物體不同的 待加熱物體盛放在該加熱盤上；高頻波供應裝置，其產生微波；天線，其輻射通過高頻波供 應裝置產生的微波；操作單元，其接收關於待加熱物體的加熱處理的信息；以及控制裝置， 其基於關於從操作單元接收的加熱處理消息控制待加熱物體的加熱處理。所述控制裝置基 於關於盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱的第一物體的加熱處理信息 和盛放在加熱盤上的待加熱的第二物體的信息控制具有高輻射方向性的一部分天線的方 向，其中所述信息是從操作單元接收的，並且在待加熱的第一和第二物體的加熱完成之後 停止操作。有益技術效果根據本發明的炊具，即使在待加熱的物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放 臺上的狀態下，加熱盤的溫度也能夠通過微波有效地升高，並且盛放在加熱盤上的待加熱 的物體也能夠通過微波有效地加熱。這允許在其中待加熱的物體盛放在也用作加熱室底部 表面的盛放臺上以及加熱盤上的狀態下開始進行加熱處理的新式的烹飪方法，也就是上部 加熱和下部加熱以使得由加熱盤隔開的上部和下部空間在一個流程中進行加熱，這不同於 先前的烹飪方法。


圖1示出當本發明的實施例的炊具從前表面(即設置用於可視地認知加熱室內部 的透明窗口的表面)進行觀察時的結構示例。圖2是當本發明的實施例的炊具被從右到左(向著炊具的前面部分的右邊和左邊 方向)剖開時的截面視圖。圖3是本發明的實施例的炊具的頂部表面的頂板在頂部表面的方向被剖開時的 截面視圖。圖4是示出其中關於光的波長蒸汽吸收光的比率的圖形。圖5是當本發明的實施例的炊具從前到後(從炊具的前面部分向著加熱室的深度 側面的方向)剖開時的截面視圖。圖6是在本發明的實施例的炊具中的加熱盤的構型圖。圖7是本發明的實施例的炊具中的轉動天線附近的詳細的構型圖(從前部觀察的 截面視圖)。圖8是沿著圖7的B-B'的炊具的截面視圖。圖9示出本發明的實施例的炊具的轉動天線的方向的例子。圖10示出本發明的實施例的炊具的轉動天線的方向的例子。圖11示出本發明的實施例的炊具的轉動天線的方向的例子。圖12示出本發明的實施例的炊具的轉動天線的方向的例子。圖13示出本發明的實施例的炊具的轉動天線的方向的例子。圖14是沿著圖7中的D-D'的炊具截面視圖。圖15是本發明的實施例的炊具中的紅外傳感器10的構型圖。圖16是示出在圖7的C-C'截面中的紅外溫度檢測點的視圖。圖17是用於解釋本發明的實施例中的紅外溫度檢測點的炊具的截面視圖(前部 視圖)。圖18是示出本發明的實施例的炊具的構型的功能框圖。圖19是通過本發明的實施例的炊具進行的加熱處理的流程圖。 圖20是傳統的高頻波加熱裝置的構型圖。
具體實施例方式附圖標記11 加熱室Ila 也用作加熱室的底部表面的盛放臺12:食物20 紅外線產生裝置21 氬加熱器30 加熱盤40 高頻波產生裝置41 磁控管42 波導管
43 轉動天線本發明的烹飪裝置的第一方面包括加熱室，其中待加熱的物體盛放在也用作底部表面的盛放臺上；可拆卸的加熱盤，其可拆卸地布置在加熱室內部並且不同於上述待加 熱的物體的待加熱的物體盛放在該加熱盤上；高頻波供應裝置，其產生微波；天線，其輻射 由高頻波供應裝置產生的微波；操作單元，其接收關於待加熱物體的加熱處理的信息；以及 控制裝置，其基於從操作單元獲得加熱處理的信息控制待加熱物體的加熱處理。所述控制裝 置基於關於盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱的第一物體和盛放在加熱 盤上的待加熱的第二物體的加熱處理信息控制具有高輻射方向性的一部分天線的方向，其中 所述信息是從操作單元接收的，並在待加熱的第一和第二物體的加熱完成之後停止操作。通過該構型，即使在待加熱物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的狀 態下，加熱盤的溫度也能夠通過微波有效地升高，並且盛放在加熱盤上的待加熱物體也能 夠通過微波有效地進行加熱。這允許在其中待加熱的物體盛放在也用作加熱室的底部表面 的盛放臺上和加熱盤上的狀態下開始加熱處理的新式的烹飪方法，也就是上方加熱和下方 加熱使得由加熱盤隔開的上部空間和下部空間在一個流程中進行加熱，其不同於先前的烹 飪方法。此外，本發明的炊具的一個方面包括控制裝置控制具有高輻射方向性的一部分 天線的方向以使得當加熱處理在待加熱的第一物體上執行時，微波輻射到待加熱的第一物 體上，並且當加熱處理在待加熱的第二物體上執行時，微波輻射到待加熱的第二物體上或 者加熱盤上。通過該構型，在其中具有高輻射方向性的一部分轉動天線所面對的方向沒有待加 熱的物體。相應地，從轉動天線輻射的微波能夠以最小的衰減抵達加熱盤，從而升高加熱盤 的溫度，並以最小的衰減加熱盛放在加熱盤上的待加熱的物體。此外，本發明的炊具的一個方面包括控制裝置控制具有高輻射方向性的一部分 天線的方向以使得當微波輻射到待加熱的第二物體上時微波輻射到加熱盤的周邊部分。通過該構型，在其中具有高輻射方向性的一部分轉動天線所面對的方向沒有待加 熱的物體。相應地，從轉動天線輻射的微波能夠穿過加熱盤的周邊部分，從而以最小的衰減 加熱盛放在加熱盤上的待加熱物體。此外，本發明的炊具的一個方面包括供熱裝置以通過熱輻射加熱待加熱的第二物 體，其不同於通過微波進行的加熱，並且控制裝置控制具有高輻射方向性的一部分天線的 方向以輻射微波到待加熱的第二物體或者加熱盤，然後執行控制以使得待加熱的第二物體 通過供熱裝置進行加熱。通過該構型，盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱的第一物體， 以及加熱盤或者盛放在加熱盤上的待加熱的第二物體在盛放在加熱盤上的待加熱的物體 通過輻射熱被加熱之前被同時加熱，以使得與待加熱的第一物體和待加熱的第二物體單獨 加熱的情形下的總時間相比能夠縮短時間。此外，本發明的炊具的一個方面包括供熱裝置包括光學加熱器，並且控制裝置執 行控制以使得待加熱的第二物體通過光學加熱器進行加熱。通過該構型，盛放在加熱盤上的待加熱的物體能夠更加快速和均勻地進行加熱和 變為棕褐色。
此外，本發明的炊具的一個方面包括光學加熱器為能夠透過蒸汽的加熱器。通過該構型，當能夠穿過蒸汽的光(特別是紅外光)直接輻射到待加熱的物體表 面上時，盛放在加熱盤上的待加熱物體的表面能夠被精加工以使得鬆脆，這僅取決於加熱
室中的一些蒸汽。此外，本發明的炊具的一個方面包括控制裝置基於關於待加熱的第二物體的加 熱處理的信息通過供熱裝置對待加熱的第二物體的持續加熱一預定時間。此外，本發明的炊具的一個方面包括關於加熱處理的信息包括用於指定待加熱 的物體的信息，以及控制裝置控制具有高輻射方向性的一部分天線的方向以使得基於指定 待加熱的第一物體和待加熱的第二物體的從操作單元接收的信息而面對待加熱的第一物 體和待加熱的第二物體。通過該構型，炊具能夠通過輸入指定待加熱類型(功能)的識別信息而簡單地執 行上方和下方加熱處理。結果，用戶從伴隨上方和下方加熱的複雜的輸入操作釋放出來。此外，本發明的炊具的一個方面包括天線設置在加熱室的底部。通過該構型，微波能夠有效地輻射到盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上 的待加熱的物體。此外，本發明的炊具的一個方面包括加熱盤包括高頻波吸收器。通過該構型，高頻波吸收器吸收微波以使得具有高溫，並且盛放在加熱盤上的待 加熱的物體能夠從也用作加熱室的底部表面的盛放臺進行加熱。此外，本發明的炊具的一個方面包括蒸汽供應裝置，其通過蒸汽加熱待加熱的物 體，並且控制裝置控制通過蒸汽供應裝置對待加熱的第一物體和待加熱的第二物體進行加 熱。通過該構型，能夠防止當促進升高待加熱物體內部溫度時待加熱的物體的表面燒 焦。此外，因為適當的溼氣施加到所述表面，所以待加熱的物體的表面被蒸汽包圍，並且物 體內部的溼氣難以逃離。結果，能夠執行其中所述表面被燒焙為鬆脆而內部多汁的烹飪。在此及後，將參照附圖描述本發明的實施例。此外，本發明並不限於下面將描述的 實施例。首先，將描述本發明的實施例的炊具的外觀的例子。圖1示出當本發明的實施例 的炊具從前表面(即設置用於可視地認知加熱室內部的透明窗70的表面)進行觀察時的 構型例子。用於可視地認知加熱室11的內部的透明窗70以及操作面板23設置在炊具100 的前表面上。操作面板23設置有指示加熱開始的啟動開關26、指示加熱結束的取消開關 24、顯示單元27以及用於選擇預先準備的烹飪程序或者執行手工操作的刻度盤59。這樣， 操作面板23設置在易於可視地認知加熱室11內部的位置，以使得當確認加熱室11的內部 以及顯示單元27的顯示內容時開關或者刻度盤能夠易於操作。接著，將描述本發明的實施例的炊具的內部結構的例子。圖2示出當本發明的實 施例的炊具從右到左(向著炊具的前部的右和左的方向)剖開的截面視圖，圖3示出當本 發明的實施例的炊具的頂部表面的頂板在頂部表面方向被剖開的截面視圖；圖4是示出其 中關於光的波長蒸汽吸收光的比率的圖形，以及圖5是當本發明的實施 例的炊具從前到後 (從炊具的前面部分向著加熱室的深度側面的方向)剖開時的截面視圖。如圖2和3所示，本發明的實施例的炊具100包括加熱室11、產生易於穿過蒸汽的紅外線的紅外線產生裝置20、由鎖定部分17支撐以豎直地分隔加熱室11的加熱盤30、從 也用作盛放食物即待加熱的物體12a的加熱室11的底部表面的盛放臺11下方供應高頻波 的高頻波產生裝置40以及在加熱腔11中產生蒸汽的蒸汽產生裝置60。此外，在本實施例 中，儘管蒸汽產生裝置60設置在加熱室11中，但是，不是在加熱室11中產生的蒸汽也可以 供應到加熱室11中。因為蒸汽通過蒸汽產生裝置60不斷供應並且循環通過加熱室，接觸待加熱的物 體12a的區域的蒸汽密度並不必然變為零，並且能夠防止待加熱的物體12a的表面被過度 燒烤。此外，因為蒸汽通過循環通過由加熱盤30分隔的空間的上部空間(蒸汽的循環通過 加熱盤30的結構實現，後面將描述加熱盤30的結構)，促進盛放在加熱盤30上的待加熱的 物體12b內部的溫度的升高以使得待加熱的物體能夠被防止過度灼燒，而不是使得其中間 部分為生的。此外，因為適當的溼度施加到表面，待加熱的物體12b的表面被蒸汽包圍，因 此物體12b內部的溼氣難以逃離。結果，能夠執行其中表面被烘焙為鬆脆的而內部多汁的 烹飪。炊具100是利用轉動二根天線的方法的微波爐，包括從也用作盛放食物即待加熱 的物體12a的加熱室11的底部表面的盛放臺11a的下方供應高頻波的高頻波產生裝置40， 並且是其中作為高頻波產生裝置40的磁控管41布置在右方的例子。設置將磁控管41產 生的高頻波導引到加熱室11中的波導管42以及輻射無線電波到加熱室11的轉動天線43。 轉動天線43配置為具有輻射方向性。本實施例的炊具100配置為至少控制具有在預定方 向上的高輻射方向性的轉動天線43的部分，從而進一步在特定方向聚集和輻射微波。在從 也用作加熱室11的底部表面的盛放臺11a的頂部表面的方向延伸的箭頭，如圖5所示，表 示從轉動天線43輻射的微波，該箭頭的方向示出其中微波輻射的方向，箭頭的長度示出微 波的強度。圖5示出其中微波強烈地輻射在加熱盤的周邊部分附近的情形。後面將描述加 熱盤如何被具體控制。此外，如圖5所示，連通通道14、循環風扇15和加熱器16設置在加熱室11的深 度側面上在分隔板11c後面，加熱室11中的空氣通過循環風扇15進行吸取並通過加熱器 16進行加熱(在圖5中從加熱室11指向循環風扇15的箭頭表明空氣的流動)，來自設置 在分隔板11c中的排出孔的加熱空氣能夠傳送到加熱室11中(在圖5中的從加熱器16指 向加熱室11的箭頭表明空氣的流動)。此外，如圖2和5所示，加熱室11的上部設置有多個管式加熱器21 (光學加熱器) (如圖3所示，設置總共三個加熱器，包括在頂部表面lib中間的氬加熱器21a和在氬加熱 器21a的前側和後側的Milacron加熱器21b)，其產生紅外線作為紅外線產生裝置20。各個 管式加熱器21和磁控管41通過控制單元進行控制，管式加熱器21輻射具有難以被蒸汽吸 收的一定波長的紅外線，並穿過加熱室11中存在的蒸汽，並將待加熱的物體12b (當沒有加 熱盤30時的待加熱的物體12a)暴露於所述紅外線，從而執行烹飪。此外，當氬加熱器21a 和Milacron加熱器21b通過總名稱被稱呼時，它們將被稱為管式加熱器21。如圖4所示，產生多個波長的管式加熱器21配置為產生峰值在大於等於1. 5 y m 且小於1. 7 ii m、大於等於2. 0 ii m且小於2. 3 y m以及大於等於4. 3 y m且小於4. 5 y m中的 任何一個波長，這是蒸汽吸收率低的波長區域。從而，具有峰值為處於蒸汽吸收率低的波長區域的大於等於15i!m且小於l.l V- m、大於等於2. 0 ii m且小於2. 3 y m以及大於等於4. 3 y m且小於4. 5 y m中的任何一 個波長的紅外線從三個管式加熱器21輻射到加熱室11中，並且紅外線並不被蒸汽吸收而 是穿過蒸汽以輻射和加熱食物，即待加熱的物體12a和12b。結果，盛放在加熱室11中的待加熱的物體12b(12a)能夠直接且更加快速和均勻 地加熱。此外，當紅外線直接輻射在待加熱的物體12b (12a)的表面上時，待加熱的物體 12b (12a)的表面能夠被精加工為鬆脆的，並且能夠快速變為棕褐色。而且，因為蒸汽循環並 連續供應，所以與待加熱物體12a或12b接觸的區域的蒸汽密度並不變為零，能夠防止待加 熱物體12a或12b的表面過度的燒灼，同時有利於物體內部溫度升高。此外，因為待加熱物 體12b(12a)的表面被蒸汽包圍，所以可以執行這樣的烹飪，即物體12b(12a)內部的溼氣難 以逃離，物體表面被烘焙為鬆脆的並且內部多汁。如圖5所示，因為管式加熱器21設置在加熱室11的頂部表面lib中，所以氬加熱 器21a設置在頂部表面lib的中間，Milacron加熱器21b設置在氬加熱器21a的前側和後 側，具有上述的期望波長的紅外線得以產生。氬加熱器21a的芯線是鎢絲，並且氬氣被透明 管件22圍繞。氬加熱器21a具有這樣的特徵，即操作啟動與Milacron加熱器21b相比更 快。儘管Milacron加熱器21b已經傳統地被使用，可是因為其波長長於氬加熱器21a， 並且與mica加熱器等相比啟動更快，該加熱器適於使得待加熱物體12a和12的表面變為 棕褐色。此外，具有成本低的特徵。在此，當Milacron加熱器21b裝載在微波爐上時，具有這樣的可能性，即Milacron 加熱器21b吸收微波並產生熱量，正使用的玻璃材料被熔化。因此，期望採用白色導管的 Milacron加熱器2lb，其具有相對低的介電常數並難以吸收微波。此外，在加熱室11中，如圖2和5所示，鎖定部分17設置在加熱室11中的相互面 對的直立壁lid和lid中。加熱盤30由鎖定部分17支撐以豎直地分隔加熱室11並能夠 將待加熱的物體12b布置在其上。此外，由加熱盤30分隔的下部空間可以稱作第一空間， 而上部空間可以稱作第二空間。如在圖6的本發明的實施例的炊具中的加熱盤的構型圖中所示，加熱盤30具有設 置在具有整體上為矩形板形狀的加熱盤30的左右兩側上的樹脂把手33，並能夠沿著加熱 室11的鎖定部分17在前後方向進入或推出。此外，加熱盤30的周邊部分設置有與加熱室 11豎直連通的連通孔31。從而，蒸汽產生在由加熱盤30分隔的加熱室11的下部部分中， 並且產生的蒸汽通過設置在加熱盤30的周邊部分上的連通孔31導引到上部，從而烹飪盛 放在加熱盤30上的待加熱的物體12b。圖5示出從由加熱盤30分隔的下部空間通過加熱 盤30的周邊部分指向由加熱盤30分隔的上部空間的箭頭。該箭頭表明指向上部空間的蒸 汽流動。此外，輻射到加熱室11的第一空間的一些微波穿過加熱盤30的周邊部分，並傳送 到第二空間。在加熱盤30上具有除了接觸鎖定部分17的樹脂把手33之外的地方並不接 觸加熱室11的壁面，並且微波容易從這些地方傳送到第二空間。此外，設置在加熱盤30中 的連通孔31也有利於微波從第一空間傳送到第二空間。結果，盛放在加熱盤30上的待加 熱的物體12b通過已經傳送到第二空間的微波進行加熱。尤其是，如圖5所示，當具有高輻 射方向性的轉動天線43的微波的方向面對加熱盤30的周邊部分時，從轉動天線43輻射的微波在其中其衰減被限制到最小的狀態下也傳送到第二空間。結果，盛放在加熱盤30上的 待加熱的物體12b能夠被有效地加熱。此外，所期望的是，例如，吸收無線電波的加熱元件32，例如鐵氧體橡膠，其吸收由 高頻波產生裝置40產生的高頻以產生熱量，設置在也用作加熱盤30的底部表面的盛放臺 上。從而，盛放在加熱盤30上的待加熱物體12b從下方進行加熱，以使得待加熱的物體12b 能夠從上表面和下表面進行烹飪。此外，接觸吸收的無線電波的加熱元件32的加熱盤30的 下表面沒有進行噴塗，以使得導熱性能夠改善並且縮短烹飪時間。而且，如果具有高輻射方 向性的轉動天線43的微波的方向面對加熱盤30，加熱盤30的溫度能夠得以有效地升高。然後，將描述轉動天線的具體構型以及控制轉動天線的方法。圖7是在 本發明的 實施例的炊具的轉動天線附近的詳細構型圖(從前部進行觀察的截面視圖)，圖8是沿著圖 7的B-B'剖開的炊具的截面視圖。如圖7所示，炊具100包括波導管42，該波導管42傳送從作為典型的微波產生 裝置的磁控管41輻射的微波；加熱室11，其連接到波導管42的上部並具有寬度尺寸(大 約410毫米)大於深度尺寸(大約315毫米)的形狀；盛放臺11a，其固定在用於盛放作為 典型的待加熱的物體的食物(未示出)的加熱室11中並具有微波能夠容易地穿過其中的 屬性，因為盛放臺是由低損耗的介電材料例如陶瓷或玻璃製成；形成在加熱室11中的盛放 臺Ila下方的天線空間37 ；兩根轉動天線38和39，其附著到關於從波導管42到天線空間 37的加熱室11的寬度方向對稱的位置從而將波導管42中的微波輻射到加熱室11中；電機 61和62，其用作典型的驅動裝置，其能夠轉動地驅動轉動天線38和39 ；控制單元160 (在 後面將描述的圖17中示出)，其控制電機61和62以控制轉動天線38和39的方向；光中 斷器36，其組成原點檢測機構，該機構檢測每根轉動天線38和39的轉動原點；以及紅外傳 感器10，其為檢測加熱室11中的溫度分布的溫度分布檢測裝置。此外，轉動天線38和39包括耦合部分45和46，其穿過具有大約30毫米直徑的 大致圓形的耦合孔43和44，所述孔設置在波導管42和也用作加熱室的底部表面的加熱室 盛放臺之間的邊界表面上，並且該耦合部分是由直徑大約18毫米的大致圓柱形的傳導材 料製成；以及輻射部分47和48，其通過填隙、焊接等電連接到併集成於耦合部分45和46的 上端中，並且由具有在水平方向比豎直方向更寬區域的傳導材料製成。此外，轉動天線38和39配置為安裝到電機61和62的軸49和50以使得耦合孔 43和44的中心變為轉動驅動的中心。因為輻射部分47和48在其轉動方向並不具有不變 的形狀，因此輻射部分配置為具有輻射方向性。轉動天線38和39的轉動中心安置在距離加熱室11的中心大致相等的距離。通過 該構型，一般可以加熱難於加熱的加熱室的中心附近，其中所述加熱室具有這樣的構型，即 其中天線是通過使得具有高輻射方向性的一部分轉動天線38和39朝向中心附近的天線。輻射部分47和48具有相同的形狀，輻射部分上表面51和52具有為大致四邊形 形狀的R。在四個側面中，面對兩個側面具有在也用作加熱室側面的底部表面的盛放臺上彎 曲的輻射部分彎曲部分53和54，從而限制微波輻射到兩個側面的外面。也用作加熱室的底 部表面的盛放臺和輻射部分上表面51和52之間的距離設置為大約10毫米，輻射部分彎曲 部分53和54降低到低於上表面大約5毫米的位置。其餘兩個側面從耦合部分45和46到末端具有不同的水平長度，並且組成距離耦合部分的中心的長度為大約75毫米的末端55和56，距離耦合部分的中心的長度為大約55 毫米的末端57和58。此外，在寬度方向的末端的尺寸設置為80毫米或以上。在該構型中， 轉動天線38和39能夠增大在從耦合部分45和46的末端57和58的方向上的輻射方向性。在該構型中，當一般食物被均一加熱時，並不特別需要將食物類似於傳統的微波 爐那樣盛放在存儲位置，並且轉動天線38和39可以類似於傳統的天線那樣恆速轉動。另 一方面，當進行強加熱時，例如，當加熱室11的中心附近被加熱時，如圖9的本發明的實施 例的炊具的轉動天線的方向的例子所示，控制單元160控制轉動天線38和39的末端57和 58以面對預定方向，該預定方向稱作在寬度方向大致為加熱室11的中心並且在深度方向 大致為加熱室的中心。當轉動天線38和39的末端57和58面對大致在加熱室11的寬度方向的中心和 大致在加熱室的深度方向的中心時，在末端57和58的方向的輻射方向性是高的。這樣，微 波能夠特別地從末端57和58的方向進行輻射，並且位於該方向的食物能夠被強加熱。此外，當加熱室11中的左側附近被加熱時，如圖10的本發明的實施例的炊具的轉 動天線的方向的例子示出的那樣，控制單元160控制轉動天線38和39的末端57和58以 面對左側(當加熱室被從門64進行觀察時的左側)。類似地，當加熱室11中的右側附近被加熱時，如圖11的本發明的實施例的炊具的 轉動天線的方向的例子所示出的，控制單元160控制以使得轉動天線38和39的末端57和 58面對右側(當加熱室11被從門64觀察時的右側)。此外，當加熱室11的中心前側附近被加熱時，如圖12的本發明的實施例的炊具的 轉動天線的方向的例子所示，控制單元160控制轉動天線38和39的末端57和58以大致 面對加熱室11在寬度方向的中心並大致面對加熱室在深度方向的前部(加熱室11的中心 的前側附近)。此外，當加熱室11的中心後側附近被加熱時，如圖13的本發明的實施例的炊具的 轉動天線的方向的例子所示，控制單元160控制轉動天線38和39的末端57和58以大致 面對加熱室11在寬度方向的中心並大致面對加熱室在深度方向的後側(加熱室11的中心 後側附近)。如上所述，本實施例的炊具100根據意在進行局部加熱的位置控制轉動天線的方 向。為了使得轉動天線38和39面對預定方向，可以考慮利用作為電機61和62的步進電 機或者裝置例如來檢測基準位置從而甚至在恆速轉動的電機中控制賦能時間。在本實施例的炊具中，步進電機用作電機61和62，原點檢測機構分別設置在各電 機的軸49和50中。圖14示出沿著圖7的D-D』的炊具的截面視圖。如圖14所示，原點檢 測機構是由具有作為中心軸的軸的圓盤36a和光中斷器36組成。圓盤36a設置有矩形縫 槽 36b。圓盤36a —般附著到分別轉動所述轉動天線38和39的電機的軸49和50，並且轉 動從而阻擋包括光發射元件和光接收元件的光中斷器36的光路。通過該構型，當縫槽36b通過光中斷器36的光路時，沒有什麼阻擋光路。這樣，縫 槽的通過時間能夠被檢測到。相應地，轉動天線的原點能夠通過設置縫槽36b的位置到轉 動天線38和39的原點而由附著到各電機的光中斷器36進行檢測。此外，控制單元具有天線角度存儲單元，當具有高方向性的轉動天線38和39的部分基於由原點檢測機構檢測到的原點集中在局部加熱位置時，該天線角度存儲單元預先存儲轉動天線38和39的角度(停止位置)。當轉動天線38和39的操作被控制以執行局部 加熱時，參考天線角度存儲單元的信息。接著，將參照圖15的本發明的實施例的炊具的紅外傳感器10的構型圖描述本實 施例的炊具所具有的溫度檢測裝置。所述溫度檢測裝置包括排列在基板109上的多個紅 外檢測器103 ；容納整個基板109的外殼108 ；以及步進電機101，其在與紅外檢測器103排 列的方向垂直的方向移動外殼108。圍繞紅外檢測器103的金屬罐105和處理紅外檢測器的操作的電子電路110設置 在基板109上。此外，罐105設置有透鏡104，紅外線通過該透鏡。此外，外殼108設置有 允許紅外線通過其中的紅外線通過孔106以及允許來自電子電路110的引線穿過其中的孔 107。通過該構型，當步進電機101進行轉動運動時，外殼108能夠在與紅外檢測器103 排列的方向垂直的方向移動。圖16是示出在圖7的C-C 『截面中的紅外溫度檢測點的視圖，並且圖17是用於解 釋本發明的實施例中的紅外溫度檢測點的炊具的截面視圖(前視圖)。如圖17所示，當溫 度檢測裝置的步進電機101基於控制單元160的控制而進行相反轉動時，本實施例的炊具 100能夠檢測加熱室11中的幾乎所有區域的溫度分布。具體地，設置在溫度檢測裝置上的排列的溫度檢測器103(例如，紅外傳感器)首 先同時檢測例如圖16中的Al至A4區域的溫度分布。接著，當步進電機101執行轉動運動 並且外殼108移動時，溫度檢測器103檢測Bl至B4區域的溫度分布。接著，當步進電機 101進行轉動運動並且外殼移動時，溫度檢測器103檢測Cl至C4區域的溫度分布，類似地， 進行D1至D4區域的溫度分布的檢測。此外，當步進電機101最後進行與上述操作相反的轉動時，溫度分布從Dl至D4區 域以Cl至C4、B1至B4以及Al至A4的順序檢測。溫度分布檢測裝置能夠通過重複上述操 作而檢測在加熱室11中的整體溫度分布。隨後，將描述通過本發明的實施例的炊具進行的通過微波的加熱處理過程中的一 系列處理。圖18是示出本發明的實施例的炊具的構型的功能框圖。炊具100包括高頻波產生單元40 (在圖2中由磁控管41、波導管42和轉動天線 43組成)、熱空氣供應單元80 (在圖5中由連通通道14、循環風扇15和加熱器16組成)、 輻射熱供應單元20 (在圖3中對應管式加熱器21)、蒸汽供應單元60 (在圖2中對應蒸汽產 生裝置60)、控制面板23 (在圖1中對應控制面板23)、紅外傳感器10 (在圖7中對應紅外 傳感器10)、電源單元170和控制整個炊具100的控制單元160。控制單元160包括CPU(中央處理單元)和ROM(只讀存儲器)，其沒有示出。CPU 根據存儲在ROM中的程序和數據執行控制。通過控制單元160的控制包括優先保證電力從 電源單元170供應到高頻波產生單元40、熱空氣供應單元80、輻射熱供應單元20和蒸汽供 應單元60的任何一個或多個的數量控制。通過該控制，高頻波產生單元40、熱空氣供應單 元80、輻射熱供應單元20和蒸汽供應單元60的任何一個或多個被驅動以加熱待加熱的物 體 12a 和 12b。接著，將描述本發明的實施例的炊具進行的處理流程。圖19是示出本發明的實施例的炊具進行的加熱處理的概要的流程圖。首先，通過操作面板，控制單元接收用於上方和下方烹飪的操作，特別是通報待加熱物體狀態的操作、指示用於加熱處理的條件的操作以及指示開始加熱處理的操作(步驟 101)。通報待加熱物體的狀態的操作包括輸入待加熱物體的重量、形狀和數量等的操作。 儘管該輸入可以包括這樣的構型，即其中用戶測量待加熱物體的重量、形狀和數量，並輸入 測量的數值，但是優選地，伴隨著炊具的配方書中描述的某一配方的識別號通過操作面板 的刻度盤進行指定。在該配方書中，烹飪需要的原料的克數、件數和尺寸被確定用於每一配 方。這樣，控制單元能夠通過接收指示配方的識別號的操作而識別待加熱物體的狀態。此 夕卜，通報本發明的實施例的待加熱物體的狀態的操作並不是不可缺少的，並可以包括這樣 的構型，即其中待加熱的物體的重量、形狀和數量通過設置在加熱室中的各個傳感器(未 示出)進行測量，並且測量的數值用作輸入值。此外，用於加熱處理的條件主要包括待加熱物體放置位置以及在每個位置加熱待 加熱物體的方法。具體地，待加熱物體放置的位置是指示1-僅也用作加熱室的底部表面的 盛放臺、指示2-僅加熱盤、指示3-也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤的條件。此外，在每個位置加熱待加熱的物體的方法是對盛放在也用作加熱室的底部表面 的盛放臺上的待加熱物體和盛放在加熱盤上的待加熱物體指示加熱方法的條件(通過高 頻加熱、通過熱鼓風加熱、通過輻射熱加熱、通過蒸汽加熱、每個加熱方法的烹飪時間、每個 加熱方法的加熱時間等)。儘管這些條件可以通過操作面板由用戶駛入，但是，優選地，指定 用於配方的每個識別號的每個加熱方法的訂單、加熱溫度、加熱時間等通過接收識別配方 的識別號的操作進行參照。在本發明的實施例中，將描述其中待加熱物體布置在3上的情形。也用作加熱室 的底部表面的盛放臺和加熱盤，具體地，由微波加熱所需的待加熱物體盛放在也用作加熱 室的底部表面的盛放臺上，由輻射熱加熱所需的待加熱的物體盛放在加熱盤上。其它加熱 方法與傳統的已經熟知的那些方法相同，其描述將被省略。控制單元基於由通報從操作面板接收的待加熱物體的狀態的操作所檢測的待加 熱的物體的狀態(取決於具體情況可以通過設置在加熱室中的各傳感器進行檢測)指定意 在通過微波進行加熱且盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱物體的裝載 量(步驟102)。具體地，控制單元存儲一表，在該表中待加熱的物體的重量、形狀和數量與 在ROM中的具有重量、形狀和數量的待加熱物體的裝載量相關聯，並參照該表指定對應已 經從操作面板接收或者由各傳感器檢測到的待加熱的物體的狀態的裝載量。此外，控制單 元可以通過接收指示在配方或者操作單元中描述的識別號的操作通報待加熱的物體的狀 態。即使在這種情形下，類似地，控制單元存儲一表，在該表中在每一個配方或者操作單元 中描述的識別號與在ROM中的該配方所需的待加熱的物體的裝載量相關聯，並參照該表指 定對應已經從操作面板接收的配方的識別號的裝載量。當控制單元指定待加熱的物體的裝載量時，裝載量的大小被確定(步驟103)，其 中轉動天線38和39的末端57和58應當面對的方向被確定，並且轉動天線38和39在該 確定的方向轉動。控制單元分散(distribute)其中轉動天線38和39的末端57和58應 當從待加熱的物體盛放所在的加熱室的中間面對的方向，並且當盛放在也用作加熱室的底 部表面的盛放臺上的待加熱的物體的裝載的量更大時(步驟104，Y)，將該方向集中在加熱盤上(步驟105)，當待加熱的物體的裝載的量更小時(步驟104，N)，將其中轉動天線38和 39的末端57和58應當面對的方向集中在加熱室的中心上(步驟106)。。此外，在由微波進行的加熱的過程中，蒸汽可以從蒸汽供應單元60供應以一起加 熱盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱的物體和盛放在加熱盤上的待加 熱的物體。因此，待加熱的物體可以通過施加到待加熱的物體的表面的溼氣進行加熱。通過該處理，如果盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺11a上的待加熱的第 一物體的裝載量大，具有高輻射方向性的轉動天線38和39的部分並不轉動來面對待加熱 的物體。但是，輻射方向性並不那麼高的轉動天線38和39的部分轉動到面對待加熱的物 體，並且裝載的量大。因此，從這些部分輻射的微波能夠有效地被吸收從而充分加熱待加熱 的物體。另一方面，待加熱的物體並不存在於其中具有高輻射方向性的轉動天線38和39 的部分所面對的方向。相應地，從轉動天線38和39輻射的微波能夠以最小的衰減抵達加 熱盤30，從而升高加熱盤的溫度，並以最小的衰減穿過加熱盤30的周邊部分，從而加熱盛 放在加熱盤30上的待加熱的物體12b。控制單元在轉動天線38和39轉動之後供應電力到高頻波產生單元40，從而開始 輻射微波(步驟107)。其後，通過上面的轉動天線38和39進行的微波輻射繼續直到在由 控制單元指定的待加熱的某第一和第二物體的組合中的第一預定時間(這預先存儲，其取 決於在用於其每個組合的待加熱的第一和第二物體的組合中的指定的待加熱的第一和第 二物體的重量、形狀、數量等)(步驟108，Y)。從而，待加熱的第一物體被主動加熱，而加熱 盤30和在加熱盤上的待加熱的第二物體被預熱。當控制單元確定第一預定時間已經達到時(步驟108，Y)，控制單元供應電力到輻 射熱供應單元20以開始通過輻射熱進行加熱，從而加熱盛放在加熱盤30上的待加熱的物 體(步驟109)。其後，當預定時間已經過去時，並且預先確定的第二預定時間達到時(這同 樣被預先存儲，其取決於在用於其每種組合的第一和第二物體的組合中的指定的待加熱的 第一和第二物體的重量、形狀、數量等，並且當待加熱的第一物體的加熱完成的時間)(步 驟110，Y)，通過輻射熱進行的加熱停止(步驟111)。這樣，在該炊具中，即使在其中盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺11a上 的待加熱的第一物體的裝載量大的情形中，當通過輻射熱進行的加熱開始時加熱盤30的 溫度已經與其中裝載的量小的情形相比稍微降低，但仍是被足夠地升高，並且盛放在加熱 盤30上的待加熱的物體通也通過微波的輻射預熱。因此，當兩個物體被同時加熱時的加熱 時間與當待加熱的第一物體和待加熱的第二物體單獨加熱的加熱總時間相比能夠縮短。此外，即使在其中盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱的物體的 裝載量小的情形下，可以說，當由輻射熱進行的加熱開始時，加熱盤30與其中待加熱的物 體僅盛放在加熱盤上並且由輻射熱進行加熱的待加熱的物體的加熱以及通過微波進行的 加熱盤的溫度的升高如傳統的一個一個同時開始的情形相比足夠加熱，並且當兩個物體被 同時加熱時的加熱時間與當待加熱的第一物體和待加熱的第二物體單獨加熱時的總加熱 時間相比能夠縮短。控制單元在通過轉動天線38和39的微波輻射停止後持續通過輻射熱進行加熱一 預定時間(步驟112)。此外，該預定時間同樣預先存儲作為當待加熱的第二物體的加熱根 據在用於其每種組合的指定的待加熱的第一和第二物體的組合中指定的待加熱的第一和第二物體的重量、形狀、數量等完成時的時間，並且取決於參照當指示配方的識別號的操作 已經被接收時的加熱時間被指定。但是，加熱時間可以在開始由炊具進行的烹飪開始之前 通過由用戶通過操作面板輸入的加熱時間進行指定。此外，在加熱過程中，蒸汽可以從蒸汽供應單元60供應以共同加熱盛放在也用作 加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱的物體和盛放在加熱盤上的待加熱的物體。從而， 待加熱的物體能夠通過施加到待加熱的物體的表面的溼氣進行加熱。而且，其中烘烤烹飪 或者烘箱烹飪在盛放在加熱盤上的待加熱物體上執行的情形是能夠想到的。當烘烤烹飪被 執行時，通過蒸汽的加熱也被使用，以使得待加熱的物體的內部能夠被精加工成多汁的，同 時防止表面過度燒灼。另一方面，當執行烘箱烹飪時，也使用蒸汽，以使得內部烹飪能夠得 以改善，待加熱的物體的表面能夠精加工為鬆脆的，而其內部可以精加工為多汁的。然後，當通過輻射熱的加熱持續預定時間時(步驟112，Y)，控制單元停止通過輻 射熱的加熱(步驟113)，並停止一系列的加熱處理。如上所述，在傳統的炊具中，當待加熱的物體盛放在也用作加熱室的底部表面的 盛放臺上時，不能充分升高加熱盤的溫度。但是，根據本發明的實施例的炊具，即使當待 加熱的物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上時，加熱盤的溫度也能夠有效地升 高。此外，作為輻射熱的加熱目標並且位於加熱盤上的待加熱的物體能夠在通過輻射熱的 加熱之前由微波進行加熱。這導致一種新的烹飪方法，即在其中待加熱的分離的物體分別 放置在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上和加熱盤上的狀態下開始和完成加熱處理，也 就是上方和下方加熱，即由加熱盤隔開的上部和下部空間在一個流程中進行加熱，而先前 的烹飪方法並非如此。此外，轉動天線的方向根據狀態，例如盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺 上的待加熱物體的形狀、重量和數量而進行控制，以使得微波輻射到盛放在也用作加熱室 的底部表面的盛放臺上的待加熱的物體，或者微波輻射到加熱盤的周邊部分，或者加熱盤 能夠適當地開關。此外，加熱盤或者盛放在加熱盤上的待加熱的物體在盛放在加熱盤上的待加熱的 物體通過輻射熱進行加熱之前如上所述地通過微波進行加熱，以使得當兩個物體同時被加 熱時的時間與當待加熱的第一物體和待加熱的第二物體被單獨加熱時的總加熱時間相比 能夠縮短。此外，如果根據伴隨炊具的配方書的適當數量的待加熱的物體盛放在也用作加熱 室的底部表面的盛放臺以及加熱盤上，炊具能夠簡單地通過輸入指定配方的識別號而進行 上方和下方加熱處理。結果，用戶可以從伴隨著上方和下方加熱的複雜的輸入操作中解放 出來。本申請是基於在2007年11月27日提交的日本專利申請No. 2007-306314，該申請 的內容在此被引用作為參考。如上所述，儘管已經描述本發明的各個實施例，但是本發明並不限於實施例中所 示的內容。本領域技術人員基於說明書的描述以及熟知的技術改變和應用本發明是通過本 發明安排的並包括在所要求保護的範圍內。工業應用如上所述，根據本發明的炊具，即使在待加熱的物體盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺上的狀態下，加熱盤的溫度也能夠通過微波有效地升高，並且盛放在加熱盤 上的待加熱的物體也能夠通過微波進行加熱。換言之，能夠呈現這樣的效果，即待加熱的物 體能夠盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放 臺和加熱盤上並且被加熱。因此，本發明在 與介電加熱待加熱物體的炊具相關的領域是有用的。
權利要求
一種炊具，包括加熱室，其中待加熱的物體盛放在也用作底部表面的盛放臺上；可拆卸的加熱盤，其可拆卸地設置在所述加熱室內部，並且不同於所述待加熱的物體的待加熱的物體盛放在該加熱盤上；產生微波的高頻波供應裝置；天線，其輻射由所述高頻波供應裝置產生的微波；操作單元，其接收關於待加熱的物體的加熱處理的信息；以及控制裝置，其基於從所述操作單元獲得的關於所述加熱處理的信息控制待加熱的物體的加熱處理，其中，所述控制裝置基於從所述操作單元接收的所述信息控制具有高輻射方向性的一部分天線，並在待加熱的第一和第二物體的加熱完成之後停止待所述操作，其中所述信息是關於盛放在也用作所述加熱室的底部表面的盛放臺上的待加熱的第一物體和盛放在所述加熱盤上的待加熱的第二物體的加熱處理。
2.如權利要求1所述的炊具，其中所述控制裝置控制具有高輻射方向性的所述一部分天線的方向以使得當加熱處 理在待加熱的第一物體上執行時微波輻射到待加熱的第一物體並且當加熱處理在待加熱 的第二物體上執行時微波輻射到待加熱的第二物體或者加熱盤。
3.如權利要求2所述的炊具，其中，所述控制裝置控制具有高輻射方向性的所述一部分天線的方向以使得當微波輻 射到待加熱的第二物體上時微波輻射到所述加熱盤的周邊部分。
4.如權利要求2或3所述的炊具，包括供熱裝置，其通過不同於通過微波加熱的熱輻射加熱待加熱的第二物體， 其中所述控制裝置控制具有高輻射方向性的所述一部分天線的方向以使得輻射微波 到待加熱的第二物體或者加熱盤，然後執行控制以使得待加熱的第二物體通過所述供熱裝 置被加熱。
5.如權利要求4所述的炊具，其中，所述供熱裝置包括光學加熱器，以及其中，所述控制裝置執行控制以使得待加熱的第二物體通過所述光學加熱器被加熱。
6.如權利要求5所述的炊具，其中，所述光學加熱器是能透過蒸汽的加熱器。
7.如權利要求4-6的任何一項所述的炊具，其中，所述控制裝置基於關於待加熱的第二物體的加熱處理的信息持續由所述供熱裝 置對待加熱的第二物體的加熱一預定時間。
8.如權利要求1-7的任何一項所述的炊具，其中，關於加熱處理的信息包括用於指定待加熱的物體的信息，以及 其中，所述控制裝置基於從所述操作單元接收的用於指定待加熱的第一物體和待加熱 的第二物體的信息控制具有高輻射方向性的所述一部分天線的方向，以使得面對待加熱的 第一物體和待加熱的第二物體。
9.如權利要求1-8的任何一項所述的炊具，其中，所述天線設置在所述加熱室的底部。
10.如權利要求1-9的任何一項所述的炊具， 其中，所述加熱盤包括高頻波吸收器。
11.如權利要求1-10的任何一項所述的炊具，包括 蒸汽供應裝置，其通過蒸汽加熱待加熱的物體，其中所述控制裝置進行控制以通過所述蒸汽供應裝置加熱待加熱的第一物體和待加 熱的第二物體。
全文摘要
一種炊具能夠有效加熱盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺和加熱盤上的待加熱物體。該烹飪裝置包括加熱室，其中待加熱的物體盛放在也用作底部表面的盛放臺上；加熱盤，與所述待加熱的物體不同的待加熱的物體盛放在其上；產生微波的高頻波供應裝置(40)；輻射通過高頻波供應裝置(40)產生的微波的天線(43)；接收關於待加熱的物體的加熱處理的信息的操作單元(23)；以及控制裝置(160)，其基於關於從操作單元(23)獲得的加熱處理的信息控制待加熱的物體的加熱處理。控制裝置(160)基於從操作單元(23)接收的基於盛放在也用作加熱室的底部表面的盛放臺(11a)上的待加熱的第一物體和盛放在加熱盤(30)上的待加熱的第二物體的該信息控制具有高輻射方向性的天線(43)的一部分的方向。
文檔編號F24C7/02GK101878672SQ20088011813
公開日2010年11月3日 申請日期2008年11月26日 優先權日2007年11月27日
發明者伊藤友一, 內山智美 申請人:松下電器產業株式會社