一種將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水循環回用的新工藝的製作方法

2023-07-06 10:02:26

專利名稱：一種將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水循環回用的新工藝的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種電鍍廢水處理工藝，特別是一種將電鍍過程中廢水循環回用的工藝。
傳統的電鍍廢水治理方法通常採用的是將各種電鍍廢水混合液進行氧化鹼氰、還原高價鉻、水解沉澱；或者將不同的廢水分類收集，對含氰廢水進行氧化、對含鉻廢水進行還原，然後與酸鹼清洗液混合，一道集中進行沉澱，使排出水達到國家的排放標準。這是一種「先排放、後治理」的處理思路。但是它仍然給我們的環境帶來了日益嚴重的汙染，並存在一系列的不足1這種工藝處理流程複雜，處理成本相當高；2即使處理達標，它們仍將排放大量的汙染物，給人類的生存環境造成不斷加劇的破壞；3這些排放的「有害物質」又是價格昂貴的金屬離子或電鍍添加劑，其排放造成了有價資源的嚴重損失；4這種傳統工藝的用水量也十分巨大，它不但導致生產成本的升高，還使我們日益緊張的水資源更為緊張。
本發明解決上述技術問題所採用的技術方案是(1)將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水分別收集到相應的收集槽裡，(2)將收集來的電鍍廢水使用濃縮蒸發器進行濃縮處理，(3)將處理後的電鍍廢水在淨化槽裡通過離子交換法或化學淨化法或低電流反電解淨化法或使用以上三種方法相互結合來進行淨化處理，(4)將濃縮淨化處理後的液體，在配液槽裡按電鍍要求添加新的試劑配製成電鍍補充液後重新回到電鍍系統。
本發明的有益效果是由於本專利發明是通過將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水分類收集，然後分別進行處理、再生和返回到電鍍系統中重新使用，從而有效地完全避免了有害的氰化物、鉻離子和其它重金屬離子的排放，實現了清潔生產；而且本工藝的廢液的處理費用低，同時能夠大大減少各種添加劑的用量，還因為有相當一部分已返回電鍍系統循環使用，從而達到大幅度減少水費降低生產成本的目的。
氰化電鍍廢水在電鍍系統中採用6-15級逆流漂洗，將最後一級的濃洗水收入收集槽。
鍍鎳廢水在電鍍系統中採用4-10級逆流漂洗，將最後一級的濃洗水收入收集槽。
鍍鉻廢水在電鍍系統中採用10-16級逆流漂洗，最後一級的濃洗水收入收集槽。
本步驟是根據生產中實際電鍍的廢水種類分別設立相應的收集電鍍件清洗液槽，其收集的方法為將最後一級濃洗水收入收集槽，因為最後一級濃洗水含金屬離子或電鍍添加劑濃度高，所以便於進行下步驟的濃縮處理。而所述的最後一級濃洗水指的是鍍件進行電鍍後進行的第一次清洗用槽裡的電鍍廢水。當最後一級濃洗水收集後，將後面的清洗槽裡的水向前推移，而最後的槽裡加入清水，從而避免了價格昂貴的金屬離子或電鍍添加劑向外流失。
(2)將經步驟(1)收集來的電鍍廢水使用濃縮蒸發器進行濃縮處理；濃縮蒸發器為根據電鍍廢水特徵不同將分別採用真空薄膜蒸發器和常壓蒸發器，其濃縮處理的工藝條件為鍍酸銅廢水蒸發溫度為60-100℃，真空度為400-1200mmH2O；蒸發至含銅濃度為正常電鍍液的1.0-1.8倍結束。
氰化電鍍廢水蒸發溫度為60-100℃，真空度為400-1200mmH2O；
蒸發至含氰濃度為正常電鍍液的1.0-1.5倍結束。
鍍鎳廢水蒸發溫度為50-90℃，在常壓下進行；蒸發至含鎳濃度為正常電鍍液的1.0-1.8倍結束。
鍍鉻廢水蒸發溫度為60-100℃，真空度為400-1200mmH2O蒸發至含氰濃度為正常電鍍液的1.0-1.8倍結束。
本步驟中的工藝條件不限於上述的條件，可以根據各工廠的不同情況和需要進行相應的濃縮蒸發，而為了使濃縮效果最好，應採用以下工藝條件鍍酸銅廢水蒸發溫度為80-100℃，真空度為500-900mmH2O；蒸發至含銅濃度為正常電鍍液的1.0-1.5倍結束。
氰化電鍍廢水蒸發溫度為80-100℃，真空度為500-900mmH2O；蒸發至含氰濃度為正常電鍍液的1.0-1.3倍結束。
鍍鎳廢水蒸發溫度為60-90℃，在常壓下進行；蒸發至含鎳濃度為正常電鍍液的1.0-1.5倍結束。
鍍鉻廢水蒸發溫度為80-100℃，真空度為500-900mmH2O；蒸發至含氰濃度為正常電鍍液的1.0-1.5倍結束。
(3)經步驟(2)濃縮處理後的電鍍廢水在淨化槽裡進行淨化處理，因為在電鍍的過程中電鍍件經過各種清洗槽所以難已避免在收集槽裡混有各種離子，我們只有經過淨化處理才能保證後面製成的電鍍補充液純度，從而保證了電鍍件的成品率。淨化處理的方法採用離子交換法或化學淨化法或低電流反電解淨化法或使用以上三種方法相互結合，根據不同工廠的需要可以採用不同的淨化處理方法，其淨化處理的工藝條件為離子交換法PH值在3～4之間、最佳停留時間為5～10min.低電流反電解淨化法採用電鍍過程常用的反電解條件。化學淨化法加入去銅劑等加以淨化。
(4)將經步驟(3)濃縮淨化處理後的液體，在配液槽裡按電鍍要求添加新的試劑配製成電鍍補充液，最後將電鍍補充液投放到電鍍系統。
本步驟中的濃縮淨化處理後的液體與電鍍補充液的成分並不完全相同，所以通過分析檢測後按需添加所需的試劑。
本工藝有效地完全避免了有害的氰化物、鉻離子和其它重金屬離子的排放，實現清潔生產，並且將價格昂貴的金屬離子和電鍍添加劑有效地回收使用。
權利要求
1.一種將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水循環回用的新工藝，其工藝步驟如下(1)將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水分別收集到相應的收集槽裡；(2)將經步驟(1)收集來的電鍍廢水使用濃縮蒸發器進行濃縮處理；(3)將經步驟(2)濃縮處理後的電鍍廢水在淨化槽裡通過離子交換法或化學淨化法或低電流反電解淨化法或使用以上三種方法相互結合來進行淨化處理，再運往配液槽。(4)將經步驟(3)濃縮淨化處理後的液體，在配液槽裡按電鍍要求添加新的試劑配製成電鍍補充液後重新回到電鍍系統。
2.根據權利要求1所述的一種將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水循環回用的新工藝，其特徵在於步驟(1)所述的電鍍廢水收集的工藝條件為鍍酸銅廢水在電鍍系統中採用6-12級逆流漂洗，將最後一級的濃洗水收入收集槽。氰化電鍍廢水在電鍍系統中採用6-15級逆流漂洗，將最後一級的濃洗水收入收集槽。鍍鎳廢水在電鍍系統中採用4-10級逆流漂洗，將最後一級的濃洗水收入收集槽。鍍鉻廢水在電鍍系統中採用10-16級逆流漂洗，將最後一級的濃洗水收入收集槽。
3.根據權利要求1所述的一種將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水循環回用的新工藝，其特徵在於步驟(2)所述的濃縮蒸發器為真空薄膜蒸發器或常壓蒸發器。
4.據權利要求1所述的一種將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水循環回用的新工藝，其特徵在於步驟(2)所述的濃縮處理的工藝條件為鍍酸銅廢水蒸發溫度為60-100℃，真空度為400-1200mmH2O；蒸發至含銅濃度為正常電鍍液的1.0-1.8倍結束。氰化電鍍廢水蒸發溫度為60-100℃，真空度為400-1200mmH2O；蒸發至含氰濃度為正常電鍍液的1.0-1.5倍結束。鍍鎳廢水蒸發溫度為50-95℃，在常壓下進行；蒸發至含鎳濃度為正常電鍍液的1.0-1.8倍結束。鍍鉻廢水蒸發溫度為80-100℃，真空度為400-1200mmH2O；蒸發至含氰濃度為正常電鍍液的1.0-1.8倍結束。
5.據權利要求4所述的濃縮處理的工藝條件，其特徵在於最佳的濃縮處理工藝條件為鍍酸銅廢水蒸發溫度為80-100℃，真空度為500-900mmH2O；蒸發至含銅濃度為正常電鍍液的1.0-1.5倍結束。氰化電鍍廢水蒸發溫度為80-100℃，真空度為500-900mmH2O；蒸發至含氰濃度為正常電鍍液的1.0-1.3倍結束。鍍鎳廢水蒸發溫度為60-90℃，在常壓下進行；蒸發至含鎳濃度為正常電鍍液的1.0-1.5倍結束。鍍鉻廢水蒸發溫度為80-100℃，真空度為500-900mmH2O；蒸發至含氰濃度為正常電鍍液的1.0-1.5倍結束。
6.據權利要求1所述的一種將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水循環回用的新工藝，其特徵在於步驟(3)所述的淨化處理的工藝條件為離子交換法PH值在3～4之間、最佳停留時間為5～10min.。低電流反電解淨化法採用電鍍過程常用的反電解條件。化學淨化法加入去銅劑等加以淨化。
全文摘要
本發明公開了一種將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水循環回用的新工藝；現在的電鍍廢水處理的工藝處理成本相當高，還會對環境會造成一定的汙染；本發明的工藝過程為(1)將鍍酸銅、氰化電鍍、鍍鎳、鍍鉻的電鍍廢水分別收集到相應的收集槽裡，(2)將收集來的電鍍廢水使用濃縮蒸發器進行濃縮處理，(3)將濃縮處理後的電鍍廢水在淨化槽裡使用離子交換法或化學淨化法或低電流反電解淨化法或使用以上三種方法相互結合進行淨化處理，再運到配液槽裡，(4)將淨化處理後的液體，在配液槽裡按電鍍要求添加新的試劑配製成電鍍補充液後重新回到電鍍系統；這種生產工藝成本低，無汙染；而且廣泛適用於各種電鍍過程中的廢水處理。
文檔編號C25D21/16GK1456713SQ0312664
公開日2003年11月19日 申請日期2003年5月20日 優先權日2003年5月20日
發明者康思琦, 董宏宇, 羅軍, 尹庚明, 譚買轉, 馬曉歐, 譚銘卓 申請人:康思琦, 董宏宇, 譚買轉, 尹庚明, 馬曉歐, 羅軍, 譚銘卓, 五邑大學, 江門市新會區新綠環保實業發展總公司, 江門市蓬江區慧信化工有限公司