容許移植喙連接的雙層連接橋接裝置的製作方法

2023-07-19 20:57:51 3

專利名稱：容許移植喙連接的雙層連接橋接裝置的製作方法
容許移植喙連接的雙層連接橋接裝置本發明屬於組合式電子儀器領域，它特別涉及到配有間隔勻稱的 鋸齒的接頭硬杆。這些硬杆也可以叫橋接杆或者橋接梳。橋接梳尤其適用於包含有標準化平行軌條的分布牌或分布櫃，軌 條上面並列安置了上述組合儀器。不同儀器的供給依靠上述橋接梳或橋接杆實現，橋接梳或橋接杆 可以簡單地實現連接。結合是牢固的，只容納分布在同一排的儀器上 的接頭，也就是安置在同一軌條的儀器上的接頭。然而經常要實現分布在相鄰兩排軌條上的儀器之間的連接。這 樣，橋接梳沒有任何用處。這樣的連接需要信號移植，例如，在一排 上的儀器的入口接線柱上，移植的實現主要依靠柔韌導線的直接連 接，導線的兩端分別接在本排儀器的接線柱和另一排儀器的接線柱 上。這種移植也可以依靠一個特殊的連接裝置來實現，這種裝置叫移植喙(repiquage)，它通常由一個籠接線端組成並配有一個導體簧片， 簧片也連接在某一排組合儀器的聯接器上。依靠柔韌導線的連接通常 用另一個連接在另一排儀器上的移植喙(repiqiiage)建立。這裡我們 假設組合儀器的聯接器實際上實現了兩個不同器件的雙夾緊 一方面 是移植喙(repiquage)導體簧片的端部，另一方面是橋接杆上的鋸齒。 只有在橋接裝置容許的時候才可以雙連接，尤其要考慮大多數情況下包繞著軸向杆的絕緣外殼的結構和位置。這層絕緣外殼有時會阻 擋到達組合儀器接頭聯接器的通路，並且不容許結合的導體或移植喙(repiquage)接頭的簧片從外部插入。這種情況下，從一開始就應該 預計向額外一排延伸，否則在擰緊聯接器之前就需要鬆開本行儀器上 所有的連接裝置以便拆下橋接裝置從而實現上述的插入。這顯然對在 分布櫃裡操作的電器安裝工人來說很不方便，因此不太可行。當橋接杆對中性端和至少一個相位分別提供兩層接頭時，問題更 嚴重地暴露出來。絕緣外殼的大小應足以覆蓋儀器的表面和儀器內部 疏通聯接器的出口 ，絕緣外殼本身也要提供一些出口以便移植喙 (repiquage)的一個接頭能穿過上述外殼。這些移植喙(repiquage)的 簧片應該穿過上述外殼通向組合儀器的聯接器。當橋接層之間相距很近時，或者當相位杆多於一個時，上述相位 杆的擺放應該容許移植喙(repiquage)的簧片穿過外殼以保證和唯一 一個橋接杆的聯繫，並使上述簧片與其他橋接杆隔離開。本發明的目的是提出一種外殼的結構和滿足雙項標準的橋接梳 的配置。為此，如前所述，本發明涉及一個有雙層接頭的橋接裝置， 一層 作為連接在電中性部分的連續導體棒的薄片出口，另一層作為配備有 空間頻率比電中性薄片小n倍的薄片的n個(n=l 3)連續相位杆的 薄片出口並規則地接續。上述相位杆和他們的薄片形成不同的連接梳 固定在絕緣外殼上，外殼表面突起兩排平行的薄片就構成了上述雙層 接頭。梳的薄片的長度和配置以及它們在外殼上的相對的定位/隔離的方法要事先預計好，使突出絕緣外殼的那部分薄片是等長的，並且 兩層橋接的薄片是等距岔開的。 這個裝置有如下幾個特點，至少相位梳(peignes de phase)的薄片相對於相位杆向側面偏移， 在它們之間通過齒狀留出自由空間；，按照至少一個相位孔和至少一個中性孔，絕緣外殼上和有薄片 突出的面相分開的一個面上包含一些插孔和移植喙(repiquage)聯接 簧片的導向裝置，給對應的相位梳(peignesdephase)提供通路，其設 置給在其他相位或中性部分通過齒狀留出的自由空間層的每個相位 或中性部分留出了空間。*在外殼裡相位梳(peignes de phase)的定位結構提供了移植喙 (repiquage)的簧片通過/導向的結構，容許將它們連接在一個相位上 或中性部分上並把它們和其他的相位或中性部分隔離開。橋接梳的配置給移植喙(repiquage)簧片的薄片提供從外面進入 的通路。與上述在外殼裡橋接梳的定位結構相同，不但保證了能維持 橋接杆方位的功能，而且與其他橋接杆和上述簧片相對隔離。這一切 滿足了在同 一層上相位杆簧片的定位要求。根據本發明，小孔的定位能夠引導簧片連接到一個相位梳 (peignes de phase)的薄片或中性梳的薄片。換句話說，每個小孔的定位和尺寸一方面要易於移植喙 (repiquage)簧片的插入，另一方面要易於和相位梳(peignes de phase) 薄片的接觸。更準確地說，這些小孔的定位和尺寸要能夠引導簧片在薄片上滑 動，以便於最後添加定位。當移植喙(repiquage)的簧片在最終的插入位置時，它們的自由 端應該以和相位杆或中性杆的薄片相同的長度顯著地從橋接裝置突 出來。為了使組合儀器的聯接裝置能夠在合適的條件下自動完成聯 接，把薄片和簧片疊放起來，相互接觸。本發明的橋接裝置可以包含插入孔和安放在兩層連接的導向裝 置，它們之間的距離和薄片之間的距離相同，並且岔開的距離和兩層 連接的薄片岔開的距離相同。可以為每一個相位(用標記來區分是有必要的)和中性部分提出 多種移植喙(repiquage)聯接的方法。優選的是，橋接梳在薄片層有一個L截面，每個薄片被一個比薄 片長的L底座連接到杆上，和杆平行的一段薄片和杆一起形成齒狀。梳的這種幾何形狀主要考慮容許移植喙(repiquage)的簧片穿過 絕緣外殼。在一個薄片上只允許有一個和某個梳的電接觸。在這種選擇下，為了一個相位或中性部分，絕緣外殼內部的相位 梳(peignes de phase)和中性梳的定位方法至少包括一個窗或一個導向 凹槽為一個薄片提供通路。重要的其實是分布在絕緣外殼內部的小孔、凹槽或溝道，它們在 入口孔和出口孔之間的徑跡上可以引導簧片使它們在接觸的某個橋 接梳的薄片上滑動。另一方面，相位梳(peignesdephase)至少一個梳齒上的至少一個雉堞配有這種類型的引導窗。在外殼內部的定位/隔離方法存在的通 路事實上並不總是足以保證在黃片上連續的行進根據外殼裡橋接梳 的定位，可能需要在使用雉堞的小孔時在某個位置空出一段徑跡，以 便引導簧片/薄片的滑動。本發明的橋接裝置包含前述幾何特徵和配置，主要應用於三相杆 /中性杆，其中-- 三個相位梳(peignes dephase)在截面上呈L狀-其中的兩個杆分布在薄片平面的一側；-第三個杆分布在上述平面的另一側。 現在將本發明描述得更詳細些，附圖如下-

圖1是整個一排組合儀器的透視圖，有一個三相/中性橋 接杆和移植喙(repiquage)，圖中示出這三個器件處於相分離的狀態；-圖2是與圖1相同的元件組合後的透視圖；-圖3a示出由本發明的橋接裝置拆開的透視圖；-圖3b示出相位杆相對定位的示意圖；-圖4是示出上述給三個相位通向一層橋接的相對定位的 平面示意圖；-圖5是本發明的安裝裝置的透視圖，裡面有兩個移植喙 (repiquage);-圖6代表了沿圖5中線VI-VI截切後截面的透視圖； -圖7顯示了本發明橋接裝置的一個截面，裡面有一個移 植喙(repiquage)，整體聯接在一排組合儀器上。參見圖1，排l由組合儀器(M)組成，該組合儀器配有聯接裝置或分布於雙層連接上的聯接器(2， 3)。 一個橋接杆(P)包括分屬 相位和中性的薄片(4， 5)，它們有相同的間隔，它們的移動方法對 應於組合儀器(M)雙層橋接的連接裝置(2， 3)的移動。預計要插 入上述橋接杆(P)的移植喙(repiquage) (6)顯示在圖1的右邊。 此示例涉及一個三相/中性橋接裝置(P)。換句話說，薄片(4)實際 上是三個不同的相位橋接梳的出口，而薄片(5)屬於唯一的一個中 性梳。圖2示出圖1裡的元件組合後的情況。在此，移植喙(repiquage) (6)插在小孔(7， 8)處，分別容許移植一個相位或中性部分。 為了使組合儀器的聯接裝置能夠在合適的條件下自動完成聯接， 也就是說要保證正確的電接觸，突出移植喙(repiquage) (6)的簧片 (9)完全穿過橋接裝置(P)並在整個長度上和薄片(4， 5)接觸。 圖3詳細地示出了橋接裝置(P)的結構。它包括一個絕緣外殼， 絕緣外殼由兩個半殼(10， 11)組成，裡面放置三個相位梳(peignes dephase) (12, 13， 14)和一個中性梳(15)。在薄片(4)層上，相 位梳(peignesdephase)顯示為一個L截面。這些薄片(4)和它們更 厚的底座另外實現了相對於軸向杆或每個相位梳(peignes de phase) (12， 13， 14)的基座(16)。換句話說，開封出現在上述薄片之間， 它們出現相同的周期性，其狀況比中性梳薄片的周期性小3倍。三個 相位橋接杆依靠組成來自半殼(10和11)裡鑄模的突出物(形成槽， 脈線，支撐隔板，等等)的定位方式來布置，並像薄片(4)那樣有所移動，所有這些都位於同一層，在它們之間留出距離，這個距離和 分別連接於中性橋接梳(15)的杆(16')的距離相同。圖3b用截面示意圖顯示它們的相對定位。三個梳中的兩個(12 和14)以這樣的方式定向以便它們的基座(16)朝下，而第三個梳 (13)包含一個朝上的基座。這第三個梳和在半殼(11)裡，特別是 在容許橫向維護的切口槽裡預計的橫貫脈線(17， 18 )相接觸。梳(13) 的每個薄片(4)都安置在兩個相繼的脈(17， 18)之間。梳(14)的基座(16)安置在軸向凸起的矮牆(20)的下面，它 的薄片(4)插在被半殼(11)的橫隔板劃分的槽(21)裡並在表面 由小孔(22)引導。最終，梳(12)安置在圖中開口朝下的凹槽(23)裡，並以均勻 間隔(不是比薄片(5)的間隔小3倍)出現一個導向孔。梳(12， 13， 14)的薄片(4)是不等長的，因為它們的基座(16) 在絕緣外殼(10， 11)裡面的相對定位橫向岔開，但是上述薄片突出 的長度應該是相同的。如圖3b的示意圖所示。不同的相位橋接梳(12， 13， 14)的相對定位，還有齒(17， 18， 19)的存在，容許移植喙(repiquage) (6)的簧片(9)自由進入， 可以在絕緣外殼裡導向後沿著一個薄片(4)滑動，分別應用於梳(12， 14)的雉堞裡的小孔(24)也參與導向中來。圖4顯示了三個相位梳(peignesdephase) (12、 13、 14)的相對 定位，也採用示意圖表示，並換了個角度觀察，其中不包含外殼的定 位/隔離方式。在外殼的半殼(10)裡的小孔(7)應該和應用於橋接梳(12和14)的雉堞的小孔(24)排成直線，根據移植喙(repiquage) 連接的相位，這些小孔(7)還在一個凹槽(21)的隔板之間或者在 兩個脈線之間疏通，還可以在其中一個孔(25)處疏通。圖5所示的橋接裝置示出了出口 (26、 27)的小孔，它們應用於 半殼(ll)裡，容許薄片(4、 5)和移植喙(repiquage)的簧片(9)沿 著組合儀器入口處聯接方式的方向出來。分別為相位橋接梳(12， 13， 14)和中性橋接梳(15)預計的這些小孔(26， 27)要設計的足夠大 以便同時容許薄片(4， 5)和疊加的簧片(9)通過，如圖中截面VI-VI 所示。圖6中所示的截面VI-VI更祥細地示出兩個半殼(10， 11)怎樣 一組合就保證了梳(12， 13， 14， 15)、薄片(4， 5)和簧片(6)的 定位和隔離以及它們的導向。因此，梳(14)緊緊地固定在半殼(10)、矮牆(20)和梳(14) 的突出的隔板之間。梳(12)被從上述凹槽(23)(不可見)的縱向 隔板上突出的脈線固定在它的凹槽(23)裡。最終，梳(13) —方面被脈線(17， 18)和切口槽(19)固定， 也被定位在唯一一片矮牆(28)和半殼(10)接觸處，它在絕緣外殼 裡為結合在一起的中性橋接梳(15)和移植喙(repiquage) (6)的簧 片(9)劃分出一個特別的隔間。上面的移植喙(repiquage) (6)和一個相位梳(peignes de phase) 的薄片(4) 一起工作。在這種情況下，梳(12)事實上分別被一個 應用於半殼(10)裡的小孔(7)、應用於凹槽(13)的縱向隔板的小孔(25)和出口的小孔(26)沿著它插入的軌道引導。這個引導容許 它接觸梳(12)的一個薄片(4)滑動。此圖示出簧片(9) 一旦插入， 其長度容許突出半殼(11)和突出薄片(4， 5)相同的距離。和另一個相位梳(peignes de phase)的薄片(4)接觸的移植喙 (repiquage) (6)利用上述其他的突出物/小？L，以類似的方式引導。從圖7可以隨著橋接裝置(P)的一個截面看到和上述裝置(P) 以及組合儀器(M)的聯接器裡的移植喙(repiquage) (6)同時進行 的插入。此圖明確示出裝置(P)的入口 (7、 8)的小孔與儀器(M) 聯接方式入口 (2、 3)的小孔位於同一層。當移植喙(repiquage) (6)完全插入時，簧片(9)與薄片(5) 在同 一基座上穿入中性部分入口聯接器的小孔裡。介紹的三個小孔(7)分別對應三個相位。在簧片(9)插入的軌 道上，只容許和對應於儀器(M)下分支的相位的梳(12， 13， 14)。 例如在圖3a中可見的齒，以及在絕緣外殼裡的定位/隔離方式的存在 容許一個向著某個相位橋接梳的薄片(4)即時的準確的引導和一個 相對於另外兩個梳的隔離。
權利要求
1.雙層連接橋接裝置，一層作為連接在電中性部分的連續導體棒(16′)的薄片(5)的出口，另一層作為配備有空間頻率比電中性薄片(5)小n倍的薄片(4)的n個(n＝1～3)連續相位杆(16)的薄片(4)的出口並規則地接續，上述相位杆(16、16′)和他們的薄片(4、5)形成不同的連接梳(12、13、14、15)固定在絕緣外殼上，外殼表面突起兩排平行的薄片(4、5)構成上述雙層接頭，梳(12、13、14、15)的薄片(4、5)的長度和配置以及它們在外殼上的相對的定位/隔離的手段為預設的，使突出絕緣外殼的那部分薄片(4、5)等長，並且兩層橋接的薄片(4、5)等距岔開，其特徵如下·至少相位梳(peignes de phase)(12、13、14)的薄片(4)相對於相位杆(16)向側面偏移，在它們之間通過齒狀留出自由空間(17、18、19)；·按照至少一個相位孔(7)和至少一個中性孔(8)，絕緣外殼上和有薄片(4、5)突出的面相分開的一個面上包含一些插孔(7、8)和移植喙(repiquage)(6)聯接簧片(9)的導向結構，給對應的相位梳(peignes de phase)(12、13、14、15)提供通路，其安放要給在其他相位或中性部分通過齒狀留出的自由空間(17、18、19)層的每個相位或中性部分留出空間。·在外殼裡相位梳(peignes de phase)(12、13、14、15)的定位方法提供了移植喙(repiquage)(6)的簧片(9)通過/導向的方法，容許將它們連接在一個相位上或中性部分上並把它們和其他的相位或中性部分隔離開。
2. 根據上述權利要求的雙層連接橋接裝置，其特徵在於小孔(7， 8)的定位能夠引導簧片連接到一個相位梳(peignes de phase) (12、 13、 14)的薄片(4、 5)或中性梳(15)的薄片上。
3. 根據上述任一項權利要求的雙層連接橋接裝置，其特徵在於 這些小孔(7， 8)的定位和尺寸能夠引導簧片(9)在薄片(4、 5) 上滑動，以便於最後添加定位。
4. 根據上述任何一項權利要求的橋接裝置，其特徵在於包含 插入孔(7、 8)和安放在兩層連接的導向裝置，它們之間的距離和薄 片(4、 5)之間的距離相同，並且岔開的距離和兩層連接的薄片(4、 5)岔開的距離相同。
5. 根據上述任何一項權利要求的橋接裝置，其特徵在於橋接 梳(12、 13、 14)在薄片(4)層有一個L截面，每個薄片(4)被一 個比薄片(4)長的L底座連接到杆(16)上，與杆平行的一段薄片 和杆一起形成齒狀。
6. 根據上述任何一項權利要求的橋接裝置，其特徵在於為了 連接一個相位或中性部分，絕緣外殼內部的相位梳(peignesdephase)(12、 13、 14)和中性梳(15)的定位手段至少包括一個窗(25)或 一個導向凹槽(21)，其為一個薄片(4)提供通路。
7. 根據權利要求5或6的橋接裝置，其特徵在於:相位梳(peignes dephase)至少一個梳齒(12、 14)上的至少一個雉堞配有一個移植喙(repiquage) (6)的簧片(9)的引導窗(24)。
8.根據權力要求5至7的橋接裝置，其應用於三相中性杆，其特徵在於:二A相位梳(pdgnes de phase) (12， 13， 14)在截面上呈L狀其中的兩個杆(16)分布在薄片(4)平面的一1第三個杆(16)分布在上述平面的另一側。
全文摘要
容許移植喙連接的雙層連接橋接裝置，一層作為連接在電中性部分的連續導體棒的薄片的出口，另一層作為配備有空間頻率比電中性薄片小n倍的薄片的n個(n＝1～3)連續相位杆的薄片出口並規則地接續，上述相位杆和他們的薄片形成不同的連接梳並固定在絕緣外殼上，外殼表面突起兩排平行的薄片就構成了上述雙層接頭。梳的薄片的長度和配置以及它們在外殼上的相對的定位/隔離的方法事先預設，使突出絕緣外殼的那部分薄片是等長的，並且兩層橋接的薄片是等距岔開的。至少相位梳(peignes de phase)的薄片相對於相位杆向側面偏移，在它們之間通過齒狀留出自由空間。
文檔編號H01R31/00GK101227047SQ20071030519
公開日2008年7月23日 申請日期2007年10月29日 優先權日2006年10月27日
發明者克勞德·烏德 申請人:哈格電器股份有限公司