抗反射薄膜的製備方法、抗反射薄膜、偏振片和圖像顯示裝置的製作方法

2023-07-24 04:48:06 4

專利名稱：：抗反射薄膜的製備方法、抗反射薄膜、偏振片和圖像顯示裝置的製作方法
技術領域：
：本發明涉及具有低反射率和優異的抗劃傷性的抗反射薄膜的製備方法，以及通過該製備方法獲得的抗反射薄膜。此外，本發明涉及各自包括該抗反射薄膜的偏振片和圖像顯示裝置。
背景技術：
：在顯示裝置例如陰極射線管顯示裝置(CRT)、等離子體顯示板(PDP)、電致發光顯示器(ELD)和液晶顯示裝置(LCD)中，抗反射薄膜被設置於顯示器的最外表面，以通過利用光學幹涉原理減低反射率，從而防止由於外部光的反射或圖像投影而導致的對比度降低。這種抗反射薄膜可以通過在支持體(基底)的最外表面上形成適當厚度的低折射率層和視具體情況而定在低折射率層和支持體之間適當形成高折射率層、中折射率層以及支持體硬塗層來製備。為了實現低反射率，具有儘可能低的折射率的材料優選用於低折射率層。此外，因為抗反射薄膜在顯示器的最外表面上使用，所以要求該薄膜具有高的抗劃傷性。為了實現厚度大約100nm的薄膜的高的抗劃傷性，薄膜本身的強度和與底層的緊密粘合力是必需的。降低材料的折射率的方式包括引入氟原子和降低密度(形成空隙)，但每一種方式均傾向於損害薄膜強度和粘合力，並且降低了抗劃傷性。因此，很難同時獲得低折射率和高抗劃傷性。專利文件l一3描述了將聚矽氧垸結構引入到含氟聚合物中的技術，從而降低了薄膜表面的摩擦係數和改進了抗劃傷性。該方式在一定程度上有效改進了抗劃傷性，但在薄膜基本上缺乏薄膜強度和界面粘合力的情況下，僅僅通過該方式不能獲得充分高的抗劃傷性。另一方面，專利文件4描述了在具有低氧濃度的氣氛中將光可固化樹脂固化的技術，從而提高了硬度。然而，為了有效形成幅狀(web)的抗反射薄膜，允許用氮氣置換的濃度受到限制，並且不能獲得充分高的硬度。專利文件5—10具體描述了氮氣置換的方式，但為了將氧濃度降低到能夠充分固化薄膜比如低折射率層的程度，需要大量的氮氣，這引起了生產成本增加的問題。另外，專利文件11描述了圍繞加熱輥的表面纏繞薄膜並且在其上照射電離輻射的方法，但這仍然不足以令人滿意地固化特殊薄膜例如低折射率層。專利文件1:JP-A-11-189621專利文件2:JP-A-11-228631專利文件3:JP-A-2000-313709專利文件4:JP-A-2002-156508專利文件5:JP-A-11-268240專利文件6:JP-A-60-90762專利文件7:JP-A-59-l12870專利文件8:JP-A-4-301456專利文件9:JP-A-3-67697專利文件10:JP-A-2003-300215專利文件ll:JP-B-7-51
發明內容本發明所要解決的問題本發明的目的是提供抗劃傷性提高，同時具有足夠高的抗反射性能的抗反射薄膜的製備方法以及通過該方法獲得的抗反射薄膜。本發明的另一個目的是提供各自包括這種抗反射薄膜的偏振片和圖像顯示裝置。解決問題的方式作為深入研究的結果，本發明人已經發現，上述目的可以通過以下敘述的抗反射薄膜的製備方法、通過該方法獲得的抗反射薄膜、偏振片和圖像顯示裝置來實現。製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；包括至少一層的抗反射層，所述抗反射層是在所述透明基底上，所述製備方法包括-用包括以下步驟(1)和(2)的層形成方法，形成疊加在所述透明支持體上的層中的至少一層-(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，禾口(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中通過照射電離輻射來固化所述塗層的步驟。製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；包括至少一層的抗反射層，該抗反射層是在所述透明基底上，所述製備方法包括用包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，形成疊加在所述透明支持體上的層中的至少一層，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜的步驟，和(3)通過在氧濃度《3vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射來固化所述塗層的步驟。製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；包括至少一層的抗反射層，該抗反射層是在所述透明基底上，所述製備方法包括用包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，形成疊加在所述透明支持體上的層中的至少一層，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜的步驟，和(3)通過在氧濃度。V0in/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射，同時加熱該薄膜以獲得^25t:的薄膜表面溫度來固化所述塗層的步驟。製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；包括至少一層的抗反射層，該抗反射層是在所述透明基底上，所述製備方法包括用包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，形成疊加在所述透明支持體上的層中的至少一層，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜，同時加熱該薄膜以獲得^25。C的薄膜表面溫度的步驟，和(3)通過在氧濃度。vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射來固化所述塗層的步驟。製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；包括至少一層的抗反射層，該抗反射層是在所述透明基底上，所述製備方法包括用包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，形成疊加在所述透明支持體上的層中的至少一層，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜，同時加熱該薄膜以獲得^25'C的薄膜表面溫度的步驟，和(3)通過在氧濃度。vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射，同時加熱該薄膜以獲得25'C的薄膜表面溫度來固化所述塗層的步驟。用於製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；包括至少一層的抗反射層，該抗反射層是在所述透明基底上，在以上[1]一[5]的任一項中所述的層形成方法包括在通過用電離輻射照射的所述塗層的固化步驟之後，在氧濃度《3voP/。的氣氛中輸送所述固化薄膜，同時加熱該薄膜以獲得》25。C的薄膜表面溫度的步驟。用於製備抗反射薄膜的方法，其中所述抗反射薄膜包括厚度。00nm的低折射率層，並且所述低折射率層通過如以上[1]一[6]中任一項所述的層形成方法來產生。如以上[1]一[7]中任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中所述電離輻射是紫外線。如以上[3]—[8]中任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中在用電離輻射照射期間和/或之前進行加熱和/或在用電離輻射照射之後進行加熱，以獲得25—170'C的薄膜表面溫度。如以上[3]—[9]中任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中在用電離輻射照射期間和/或之前的加熱和/或在用電離輻射照射之後的加熱通過讓所述薄膜與加熱輥接觸來進行。如以上[3]—[9]中任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中在用電離輻射照射期間和/或之前的加熱和/或在用電離輻射照射之後的加熱通過吹送加熱的氮氣來進行。如以上[1]—[ll]中任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中所述輸送步驟和/或所述用電離輻射照射的固化步驟各自在用氮氣置換的低氧濃度區中進行，和在所述用於進行用電離輻射照射的固化步驟的區中的氮氣被排放到用於進行前一步驟的區中和/或用於進行後續步驟的區中。[13]由以上[1]一[12]中任一項所述的方法製備的抗反射薄膜。[14]如以上項[13]所述的抗反射薄膜，其中所述低折射率層通過包含用下式1表示的含氟聚合物的塗布溶液來形成[化學式1]式hX其中L表示具有1一10的碳數的連接基，m表示0或l，X表示氫原子或甲基，A表示任意單體的聚合單元，可以包括單一組分或多種組分，以及x、y和z表示相應組成成分的mol%，各自表示滿足30SxS60、5《yS70和(Kz^65的值。[15]如以上項[13]或[14]所述的抗反射薄膜，其中所述低折射率層包括中空的二氧化矽細顆粒。[16]偏振片，其包括如以上[13]—[15]中任一項所述的抗反射薄膜作為該偏振片的兩個保護膜中的至少任何一個保護膜。[17]圖像顯示裝置，包括在該顯示裝置的最外表面上的如以上[13]—[15]中任一項所述的抗反射薄膜或以上項[16]所述的偏振片。本發明的效果根據本發明的抗反射薄膜的製備方法，可以提供抗劃傷性增強，同時具有充分高的抗反射性能的抗反射薄膜。包括由本發明製備的抗反射薄膜或偏振片的圖像顯示裝置降低了外部光的反射或周圍場景的投影，並且確保了非常高的能見度和優異的抗劃傷性。圖1是一個具有防炫光性能的抗反射薄膜的實例的橫截面的示意圖。圖2是一個用於製備本發明的抗反射薄膜的裝置的結構實例的示意圖。附圖標記說明1、防炫光的抗反射薄膜2、透明支持體3、防弦光層4、低折射率層5、透光細顆粒W幅狀材料10、基底薄膜巻20、巻取輥100、200、300、400成膜單元101、201、301、401塗層區段102、202、302、402乾燥區段103、203、303、403固化裝置具體實施方式以下詳細說明本發明。順便提一下，本發明中用於表達物理值、特性值或類似值的用語"(數值1)到(數值2)"是指"等於或大於(數值l)到等於或小於(數值2)"。[抗反射薄膜的層結構]本發明的抗反射薄膜如果需要在透明基底(下文有時稱之為"基底薄膜")上具有下文所述的硬塗層，並且通過考慮折射率、薄膜厚度、層數和層順序而疊加在其上的抗反射層，以便通過光學幹涉效應而降低反射率。在抗反射薄膜的最簡單的層結構中，通過在基底上塗布而僅僅提供低折射率層。為了更大程度降低反射率，抗反射層優選通過將折射率高於基底的高折射率層與折射率低於基底的低折射率層組合來組成。該結構的實例包括基底側的高折射率層/低折射率層的雙層結構，以及通過按照中折射率層(折射率高於基底或硬塗層，但低於高折射率層的層)/高折射率層/低折射率層的順序將折射率不同的三層疊加所形成的結構。另外，已經提出了將大量抗反射層疊加的層結構。鑑於耐久性、光學性能、成本、生產率等，在具有硬塗層的基底上按中折射率層/高折射率層/低折射率層的順序疊加的結構是優選的。還優選的是，本發明的抗反射薄膜具有功能層，例如防炫光層和抗靜電層。本發明的抗反射薄膜的優選結構實例包括以下這些基底薄膜/低折射率層，基底薄膜/防炫光層/低折射率層，基底薄膜/硬塗層/防炫光層/低折射率層，基底薄膜/硬塗層/高折射率層/低折射率層，基底薄膜/硬塗層/中折射率層/高折射率層/低折射率層，基底薄膜/防炫光層/高折射率層/低折射率層，基底薄膜/防炫光層/中折射率層/高折射率層/低折射率層，基底薄膜/抗靜電層/硬塗層/中折射率層/高折射率層/低折射率層，抗靜電層/基底薄膜/硬塗層/中折射率層/高折射率層/低折射率層，基底薄膜/抗靜電層/防炫光層/中折射率層/高折射率層/低折射率層，抗靜電層/基底薄膜/防炫光層/中折射率層/高折射率層/低折射率層，抗靜電層/基底薄膜/防炫光層/高折射率層/低折射率層/高折射率層/低折射率層。本發明的抗反射薄膜不僅僅特定地局限於這些層結構，只要能夠通過光學幹涉降低反射率。高折射率層可以是不具有防炫光性能的光漫射層。抗靜電層優選是含有導電聚合物顆粒或金屬氧化物細顆粒(例如Sn02、ITO)的層，並且可以通過塗布、大氣等離子體處理等提供。[薄膜形成方法]本發明的抗反射薄膜的製備方法特徵在於通過以下層形成方法形成疊加於抗反射薄膜的透明基底上的多層中的至少一層。以下詳細說明根據本發明的第一層到第五層的形成方法。(第一層形成方法)包括以下步驟(1)和(2)的層形成方法(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，和(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中通過照射電離輻射來固化所述塗層的步驟。(第二層形成方法)包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜的步驟，和(3)通過在氧濃度。vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射來固化該塗層的步驟。(第三層形成方法)包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜的步驟，和(3)通過在氧濃度。voP/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射，同時加熱該薄膜以獲得^25"C的薄膜表面溫度來固化該塗層的步驟。(第四層形成方法)包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜，同時加熱該薄膜以獲得25'C的薄膜表面溫度的步驟，和(3)通過在氧濃度S3vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射來固化該塗層的步驟。(第五層形成方法)包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜，同時加熱該薄膜以獲得^25-C的薄膜表面溫度的步驟，和(3)通過在氧濃度《3vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射，同時加熱該薄膜以獲得225-C的薄膜表面溫度來固化該塗層的步驟。尤其，作為最外層的低折射率層優選通過這些方法來形成。以下集中描述第一層到第五層的形成方法。透明層上的塗層通過在透明基底上施塗所要形成的層的塗布組合物(塗布溶液)，再乾燥該組合物來形成。施塗塗布溶液的方法不是特別限制的。另外，用於本發明的透明基底可以具有切斷(cutout)形狀或幅狀，但鑑於生產成本，幅狀是優選的。考慮到薄膜硬度，照射電離輻射的步驟在氧濃度低於大氣的氧濃度的環境中，優選在氧濃度。vo1。/。，更優選《lvo1。/。，還更優選S0.1voP/。的氣氛中進行。在照射電離輻射的步驟中，要求氧濃度低於空氣中的氧濃度。在第二層到第五層形成方法中，在輸送步驟之後，進行用電離輻射照射的固化步驟。對提供(塗布和乾燥)塗層之後的薄膜照射電離輻射的步驟之前不久，該薄膜在氧濃度低於大氣氧濃度的氣氛(下文有時稱之為"照射之前的低氧濃度區")中輸送，從而可以有效地降低塗膜表面和內部的氧濃度，並且能夠加速固化。順便提一下，在輸送步驟之後進行固化步驟的實施方案是其中所要輸送到進行固化步驟的低氧濃度氣氛(下文有時稱之為"電離輻射照射區")的薄膜在進入電離輻射照射區之前不久通過氧濃度低於大氣氧濃度的區域的一個實施方案。例如，可以考慮在保持低氧濃度的同一室內依次進行輸送步驟和固化步驟的實施方案。在第二層到第五層的形成方法中，該實施方案只需包括在照射之前讓在透明基底上具有塗層的薄膜通過低氧濃度區和接著照射電離輻射的步驟就足夠了，並且該成膜方法可以包括在照射之前在低氧濃度區中的乾燥步驟或加熱步驟。在用電離輻射照射之前的輸送步驟中的氧濃度的上限只要低於空氣中的氧濃度就行了，該上限優選是^5vo1。/。，更優選是S10vo1。/。，最優選是《V0lc/。。至於在用電離輻射照射之前的輸送步驟中的氧濃度的下限，鑑於成本，只要該氧濃度不低於照射電離輻射步驟中的氧濃度就足夠了。第三層到第五層形成方法各自的特徵在於，在電離照射步驟和/或用電離輻射照射之前的輸送步驟中，進行加熱，使薄膜表面達到25°C。該加熱優選使薄膜表面達到25—170。C，更優選60—170。C，還更優選80—130°C。通過在用電離輻射照射之前的輸送步驟加熱，可以促進在用電離輻射照射時的平穩加熱，並且通過在用電離輻射照射時的加熱，由於熱的作用可以加速由電離輻射效應引起的固化反應，並且能夠形成具有優異的物理強度和耐化學品性的薄膜。當薄膜表面被加熱到25'C的溫度時，這使得可以容易獲得加熱的效果，而加熱到溫度《17(TC，能夠避免諸如基底變形之類的問題的產生。順便提一下，薄膜表面表示所要固化的層的薄膜表面的附近。薄膜表面保持在上述溫度下的時間優選是在用電離輻射開始照射之後S0.1秒，優選。00秒，更優選S10秒。如果薄膜表面保持在上述溫度範圍內的時間太短，不能促進用於形成薄膜的可固化組分的反應，而如果時間過長，薄膜的光學性能降低，並且出現了生產方面的問題，例如設備尺寸增加。該加熱方法不是特別限制的，但例如將輥加熱和讓薄膜與該輥接觸的方法，吹送加熱氮氣的方法和照射遠紅外線或紅外線的方法是優選的。還可以使用日本專利2,523,574中所述的將熱水或蒸汽流入到旋轉的金屬輥的加熱方法。在用電離輻射照射的固化步驟之後，第一層到第五層形成方法各自可以進一步包括在氧濃度。vol。/。的氣氛中輸送所述固化薄膜，同時加熱該薄膜以獲得25°C的薄膜表面溫度的步驟。在固化之後的輸送步驟的氧濃度優選《3vo1。/。，更優選^lvo1。/。。在加熱時的薄膜表面溫度、薄膜表面溫度的保持時間、加熱方法等與以上關於固化之前的輸送步驟所述的那些相同。在用電離輻射照射後的薄膜的加熱提供了聚合反應即使在隨時間形成的聚合物薄膜中也更容易進行的效果。至於降低氧濃度的方式，空氣(氮氣濃度大約79vol%，氧濃度大約21vol%)優選用另一種惰性氣體，更優選用氮氣(氮氣吹洗)置換。用於本發明的電離輻射的種類不是特別限制的，根據用於形成薄膜的可固化組合物的類型，可以從紫外線、電子束、近紫外線、可見光、近紅外線、紅外線、x射線等中選擇適當的電離輻射。在本發明中，用紫外線照射是優選的。紫外線固化是優選的，因為聚合速度是高的，允許使用小型設備，並且該化合物在可選擇的物質中是充足且廉價的。在紫外線的情況下，可以使用超高壓汞燈、高壓汞燈、低壓汞燈、碳弧、氤弧、金屬囪化物燈或類似物。在電子束照射的情況下，使用從各種電子束加速器例如Cockroft-Walton類型、vandeGraaff類型、諧振變壓器類型、絕緣線芯變壓器類型、線性類型、地那米加速器類型和高頻類型發出的具有50—l，000keV的電子束。鑑於薄膜強度、塗布溶液的穩定性、塗膜的生產率等，用於本發明的成膜組合物的主要成膜粘結劑組分優選是具有烯屬不飽和基團的化合物。主要成膜粘結劑組分是指在不包括無機顆粒的成膜組分中佔10—100質量％，優選20—100質量％，更優選30—95質量％的組分。主要成膜粘結劑優選是具有飽和烴鏈或聚醚鏈作為主鏈的聚合物，更優選具有飽和烴鏈作為主鏈的聚合物。此外，該聚合物優選具有交聯結構。具有飽和烴鏈作為主鏈並且具有交聯結構的粘結劑聚合物優選是具有兩個或更多個烯屬不飽和基團的單體的聚合物(共聚物)在獲得高折射率的情況下，單體結構優選含有芳環或至少一個選自不包括氟的滷素原子、硫原子、磷原子和氮原子中的原子。具有兩個或多個烯屬不飽和基團的單體的實例包括多元醇和(甲基)丙烯酸的酯(例如，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-環己烷二丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，2，3-環己烷四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯，聚酯聚丙烯酸酯)；乙烯基苯及其衍生物(例如，1，4-二乙烯基苯、4-乙烯基苯甲酸2-丙烯醯乙基酯、1，4-二乙烯基環己酮)；乙烯基碸(例如二乙烯基碸)；丙烯醯胺(例如亞甲基雙丙烯醯胺)；和甲基丙烯醯胺。這些單體可以按兩種或更多種的組合物使用。在本發明中，術語"(甲基)丙烯酸酯"，"(甲基)丙烯醯基"和"(甲基)丙烯酸"分別表示"丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯"，"丙烯醯基或甲基丙烯醯基"和"丙烯酸或甲基丙烯酸"。另外，高折射率單體的具體例子包括雙(4-甲基丙烯醯基硫代苯基)硫，乙烯基萘，乙醯基苯硫醚和4-甲基丙烯醯氧基苯基-4'-甲氧基苯基硫醚。這些單體還可以作為兩種或多種的組合物使用。這種具有烯屬不飽和基團的單體的聚合可以通過用電離輻射照射或在光自由基引發劑或熱自由基引發劑的存在下加熱來進行。光自由基聚合引發劑的實例包括苯乙酮類、苯偶姻類、二苯甲酮類、氧化膦類、酮縮醇類、蒽醌類、噻噸酮類、偶氮化合物、過氧化物、2，3-二烷基二酮化合物、二硫化物、氟胺化合物、芳族鋶類、洛粉鹼二聚體、f翁鹽、硼酸鹽、活性酯、活性滷素、無機配合物和香豆素類。苯乙酮類的實例包括2,2-二甲氧基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、對二甲基苯乙酮、1-羥基-二甲基苯基酮、1-羥基-二甲基-對異丙基苯基酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-4-甲硫基-2-嗎啉基苯丙酮、2-節基-2-二甲基氨基-l-(4-嗎啉代苯基)-丁酮、4-苯氧基二氯苯乙酮和4-叔丁基-二氯苯乙酮。苯偶姻類的實例包括苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙基醚、苄基二甲基酮縮醇、苯偶姻苯磺酸酯、苯偶姻甲苯磺酸酯、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚和苯偶姻異丙基醚。二苯甲酮類的實例包括二苯甲酮、羥基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫、2,4-二氯二苯甲酮、4，4-二氯二苯甲酮、對氯二苯甲酮、4,4'-二甲基氨基二苯甲酮(米蚩酮)和3,3',4，4'-四(叔丁基過氧羰基)二苯甲酮。氧化膦類的實例包括2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦。活性酯的實例包括1，2-辛垸二酮、l-[4-(苯硫基)-2-(鄰-苯甲醯基肟)]、磺酸酯和環狀活性酯化合物。具體地說，在JP-A-2000-80068的實施例中所述的化合物1一21是優選的。錄、鹽的實例包括芳族重氮鹽、芳族碘錄鹽和芳族鋶鹽。硼酸鹽的實例包括具有陽離子著色物質的離子配合物。至於活性滷素，已知有S-三嗪化合物和氧雜噻唑(oxathiazole)化合物，它們的實例包括2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對苯乙烯基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3-溴-4-二(乙酸乙酯)氨基)苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪和2-三滷代甲基-5-(對甲氧基苯基H，3，4-嗨二唑。具體地說，在JP-A-58-15503的第14-30頁中所述的化合物、在JP-A-55-77742的第6—10頁所述的化合物、在JP-B-60-27673的第287頁所述的化合物1—8、在JP-A-60-239736的第443和444頁所述的化合物1_17以及在US-4701399中所述的化合物1一19是優選的。無機配合物的實例包括雙-(115-2，4-環戊二烯-1-基)-雙(2，6-二氟-3-(lH-卩比咯-l醒基)-苯基)鈦。香豆素類的實例包括3-酮香豆素。可以單獨使用這些引發劑之一，或者可以使用它們的混合物。在SaishinUVKokaGijutsu("最新紫外線固化技術(LatestUVCuringTechnologies)，，)，第159頁，TechnicalInformationInstituteCo"Ltd,(1991)以及KiyomiKato，ShigaisenKokaSystem(紫外線固化系統(UltravioletCuringSvstem))，第65-148頁，SogoGijutsuCenter(1989)中還描述了許多實例，它們可在本發明中使用。可市購的光裂解型的光自由基聚合引發劑的優選例子包括由CibaSpecialtyChemicals生產的IRGACURE(例如，651、184、819、907、1870(CGI-403/Irg184的7/3混合引發劑)、500、369、1173、2959、4265、4263、OXE01)、由NipponKayakuCo,，Ltd.生產的KAYACURE(例如，DETX-S、BP-畫、BD區、CTX、BMS、2畫EAQ、ABQ、CPTX、EPD、ITX、QTX、BTC、MCA)、由SartomerCompanyInc.生產的Esacure(例如，KIP100F、KB1、EB3、BP、X33、KT046、KT37、KIP150、TZT)、以及它們的組合物。光自由基引發劑優選以0.1—15質量份，更優選1一10質量份/100質量份的多官能單體的量使用。除了光聚合引發劑以外，可以使用增感劑。增感劑的具體例子包括正丁基胺、三乙胺、三正丁基膦、米蚩酮和噻噸酮。此外，可以組合使用一種或更多種助劑例如疊氮化物、硫脲化合物和巰基化合物。商購增感劑的實例包括由NipponKayakuCo.,Ltd生產的KAYACURE(例如，DMBI，EPA)。至於熱自由基引發劑，可以使用有機或無機過氧化物、有機偶氮或重氮化合物或類似物。具體地說，有機過氧化物的實例包括過氧化苯甲醯、過氧化滷代苯甲醯、過氧化月桂醯、過氧化乙醯、過氧化二丁基、氫過氧化枯烯和氫過氧化丁基；無機過氧化物的實例包括過氧化氫、過硫酸銨和過硫酸鉀；有機偶氮化合物的實例包括2,2，-偶氮雙(異丁腈)、2，2，-偶氮雙(丙腈)和l，l'-偶氮雙(環己垸甲腈)；以及重氮化合物的實例包括重氮氨基苯和對硝基苯重氮鏡。在本發明中，還可以使用具有聚醚作為主鏈的聚合物，而多官能環氧化合物的開環聚合物是優選的。多官能環氧化合物的開環聚合可以通過用電離輻射照射或在光致產酸劑或熱致產酸劑的存在下進行。至於光致產酸劑或熱致產酸劑，可以使用已知的化合物。通過使用含交聯官能團的單體代替具有兩個或更多個烯屬不飽和基團的單體，或除了具有兩個或更多個烯屬不飽和基團的單體以外還使用含交聯官能團的單體以便將交聯官能團引入到粘結劑聚合物上，並且使所述交聯官能團反應，從而可以將交聯結構引入到所述聚合物中。交聯官能團的實例包括異氰酸酯基、環氧基、氮丙啶基、嗯唑啉基團、醛基、羰基、肼基團、羧基、羥甲基和活性亞甲基。另外，還可以使用乙烯基磺酸、酸酐、氰基丙烯酸酯衍生物、蜜胺、醚化羥甲基、酯、尿垸和金屬醇鹽(例如四甲氧基矽垸)作為引入交聯結構的單體。還可以使用由於分解反應而顯示了交聯性能的官能團，例如封閉的異氰酸酯基。也就是說，在本發明中，所述交聯官能團可以是不直接而在分解時表現反應性的官能團。具有這種交聯官能團的粘結劑聚合物可以通過在塗布後加熱來形成交聯結構。低折射率層優選由共聚物的固化薄膜形成，所述共聚物包括作為必需構成組分的由含氟乙烯基單體衍生的重複單元和在側鏈上具有(甲基)丙烯醯基的重複單元。由該共聚物衍生的組分按該薄膜的固體含量計優選佔^60質量％，更優選^70質量％，還更優選280質量%。從滿足低折射率和薄膜強度的觀點來看，還優選以在不損害相容性範圍內的添加量使用固化劑，例如多官能(甲基)丙烯酸酯。還可以優選使用JP-A-11-228631中所述的化合物。低折射率層的折射率優選是1.20—1.46，更優選1.25—1.46，還更優選1.30—1.46。低折射率層的厚度優選是《OOnm，更優選50—200nm，還更優選70—100nm。低折射率層的霧度優選是。％，更優選。％，最優選《1%。低折射率層的強度優選是^H，更優選2H，最優選23H，如具體地用500g的負載的鉛筆硬度試驗所測定的。此外，為了改進抗反射薄膜的防汙性能，與表面上的水的接觸角優選是^90°，更優選》95°，還更優選2100。。以下描述優選用於本發明的低折射率層的共聚物。含氟乙烯基單體的實例包括氟烯烴(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯)、(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化烷基酯衍生物(例如，BISCOTE6FM(商品名，由OsakaYukiKagaku生產)和R-2020(商品名，由Daikin生產))以及完全或部分氟化乙烯基醚。其中，全氟烯烴是優選的，考慮到折射率、溶解度、透明性和容易獲得性，六氟丙烯是更優選的。當該含氟乙烯基單體的組成比增加時，折射率可能降低，但薄膜強度下降。在本發明中，優選引入含氟乙烯基單體，使得該共聚物能夠具有20—60質量％，更優選25—55質量%，還更優選30—50質量％的氟含量。本發明的共聚物優選包括作為必需構成組分的在側鏈上具有(甲基)丙烯醯基的重複單元。當該含(甲基)丙烯醯基的重複單元的組成比增加時，可以提高薄膜強度，但折射率也變高。一般，含(甲基)丙烯醯基的重複單元優選為5—卯質量％，更優選30—70質量％，還更優選40—60質量％，但這可以根據由含氟乙烯基單體衍生的重複單元的類型而改變。在用於本發明的共聚物中，除了由含氟乙烯基單體衍生的重複單元和在側鏈上具有(甲基)丙烯醯基的重複單元以外，從多種觀點例如對基底的粘合力、聚合物的Tg(有助於薄膜硬度)、在溶劑中的溶解度、透明性、滑溜性和防塵防汙性能出發，其它乙烯基單體可以適當共聚。根據目的，多種的這些乙烯基單體可以組合使用，這種乙烯基單體的引入量在共聚物中總共優選為0—65mol%，更優選0—40mol°/。，還更優選0—30mol%。能夠組合使用的乙烯基單體單元不是特別限制的，它們的實例包括烯烴(例如乙烯、丙烯、異戊二烯、乙烯基氯、偏二氯乙烯)、丙烯酸酯(例如丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2-乙基己基酯、丙烯酸2-羥乙酯)、甲基丙烯酸酯(例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸2-羥乙基酯)、苯乙烯衍生物(例如，苯乙烯、對羥甲基苯乙烯、對甲氧基苯乙烯)、乙烯基醚(例如，甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、環己基乙烯基醚、羥乙基乙烯基醚、羥丁基乙烯基醚)、乙烯基酯(例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、肉桂酸乙烯酯)、不飽和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、馬來酸、衣康酸)、丙烯醯胺(例如N，N-二甲基丙烯醯胺、N-叔丁基丙烯醯胺、N-環己基丙烯醯胺)、甲基丙烯醯胺類(例如N,N-二甲基甲基丙烯醯胺)和丙烯腈。在本發明中，優選使用用下式1表示的含氟聚合物。式1:CF3如Hs-H")y+A+zPX在式1中，L表示具有l一lO，優選1一6，更優選2—4的碳原子數的連接基，它可以具有線性、支化或環狀結構，可以含有選自0、N和S中的雜原子。它們的優選實例包括*-(CH2)2-0-**、*-(CH2)2-NH-**、*-(CH2)4-0-**、*-(CH2)6-0-**、*-(CH2)2-0-(CH2)2-0**、*-CONH-(CH2)3-0-**、*-CH2CH(OH)CH2-0-**和*-CH2CH2OCONH(CH2)rO-**(其中*表示聚合物主鏈側的連接部位，**表示在(甲基)丙烯醯基側的連接部位。M表示0或1。在式1中，X表示氫原子或甲基，鑑於固化反應性，優選是氫原子。在式1中，A表示由任意乙烯基單體衍生的重複單元。重複單元不是特別限制的，只要它是可與六氟丙烯共聚的單體的構成組分，並且可以根據各種觀點例如對基底的粘合力、聚合物的Tg(有助於薄膜硬度)、在溶劑中的溶解度、透明性、滑溜性和防塵防汙性能來適當選擇。根據目的，該重複單元可以包括單一乙烯基單體或多種乙烯基單體。優選的乙烯基單體的實例包括乙烯基醚，例如甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、叔丁基乙烯基醚、環己基乙烯基醚、異丙基乙烯基醚、羥乙基乙烯基醚、羥丁基乙烯基醚、縮水甘油基乙烯基醚和烯丙基乙烯基醚；乙烯基酯例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯和丁酸乙烯酯；(甲基)丙烯酸酯例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯和(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽垸；苯乙烯衍生物例如苯乙烯和對羥基甲基苯乙烯；不飽和羧酸例如巴豆酸、馬來酸和衣康酸；和它們的衍生物。其中，乙烯基醚衍生物和乙烯基酯衍生物是優選的，而乙烯基醚衍生物是更優選的。x、y和z表示各個構成組分的mo1。/。，各自表示滿足3(Kx^60、5Sy《70和0^65，優選35^55、30^60和0^20,更優選40Sx^55、4(KyS55和OSzSlO的值。用於本發明的共聚物的優選實施方案包括用下式2表示的化合物+formulaseeoriginaldocumentpage28[化學式5]如F2-F"fe'+CH2-p^"("CHa，H4jxyBl_1XS0ui豕-CHjCHsO^NHCHaGHaCHaO-HP-1250{lHFM3SO&iGH3P-"50-**CH3P-1550o，*_gh26hch2o—**hM650Ho，hM85001CH3SO01*—CHaOCH2H-0—ch2ohc10t*表示聚合物主鏈側，**表示(甲基)丙烯醯基側[化學式6Jtableseeoriginaldocumentpage30[化學式7]formulaseeoriginaldocumentpage31[化學式8]formulaseeoriginaldocumentpage32用於本發明的共聚物可以通過JP-A-2004-45462中所述的方法來合成。用於本發明的共聚物的合成還可以通過根據除了上述方法以外的各種聚合方法例如溶液聚合、沉澱聚合、懸浮聚合、嵌段聚合和乳液聚合合成前體例如含羥基的聚合物，然後通過上述聚合物反應引入(甲基)丙烯醯基來進行。該聚合反應可以通過已知的操作例如間歇系統、半連續系統或連續系統來進行。聚合引發方法例如包括使用自由基引發劑的方法和照射電離輻射的方法。這些聚合方法和聚合引發方法例如在TeijiTsuruta,KobunshiGoseiHoho(聚合物合成方法(PolvmerSynthesisMethod)),修訂版，NikkanKogyoShinbunSha(1971)以及TakayukiOhtsu禾卩MasaetsuKinoshita，KobunshiGoseinoJikkenHo(聚合物合成的試驗方法(TestMethodofPolymerSvnthesisV)，第124-154頁，KagakuDojin(1972)中有述。在這些聚合方法中，使用自由基引發劑的溶液聚合方法是優選的。至於在溶液聚合中使用的溶劑，各種有機溶劑例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環己酮、四氫呋喃、二隨烷、N，N-二甲基甲醯胺、N，N-二甲基乙醯胺、苯、甲苯、乙腈、二氯甲烷、氯仿、二氯乙垸、甲醇、乙醇、l-丙醇、2-丙醇和1-丁醇可以單獨使用或作為兩種或更多種的混合物使用，或者可以作為與水的混合溶劑使用。聚合溫度應該例如根據聚合物的分子量或引發劑的類型來設定，可以使用小於等於0。C至大於等於IO(TC的聚合溫度，但聚合優選在50—10(TC的溫度下進行。可以適當選擇反應壓力，但通常是l一100kPa，優選l一30kPa。反應時間適當是5—30小時。用於所獲得的聚合物的再沉澱溶劑優選是異丙醇、己垸、甲醇等。以下描述能夠優選用於本發明的抗反射薄膜的低折射率層的無機顆粒。無機細顆粒的塗布量優選是l一100mg/m2，更優選5—80mg/m2，還更優選10—60mg/n^。如果塗布量太少，改進抗劃傷性的效果降低，而如果塗布量太大，在低折射率層表面上產生了細粒不規則性，並且外觀(例如真黑色)或累積反射率可能降低。將無機細顆粒引入到低折射率層中，因此，優選具有低折射率。它們的實例包括二氧化矽細顆粒和中空的二氧化矽細顆粒。在本發明中，為了減小低折射率層的折射率，優選使用中空的二氧化矽細顆粒。中空的二氧化矽細顆粒的折射率優選是1.15—1.40，更優選1.17—1.35，最優選1.17—1.30。這裡使用的折射率表示顆粒總體的折射率，不僅僅表示形成中空的二氧化矽細顆粒的外殼二氧化矽的折射率。此時，假定顆粒內部的空腔的半徑是a和顆粒的外殼的半徑為b，用以下數學式(Vm)表示的孔隙率x優選是10—60%，更優選20—60%,最優選30—60%。數學式(vm):x=(4Tta3/3)(47cb3/3)X100如果使中空的二氧化矽細顆粒具有更小的折射率和更高的孔隙率，那麼外殼的厚度變小和顆粒的強度降低。因此，鑑於抗劃傷性，具有小於1.15的低折射率的顆粒不是優選的。中空的二氧化矽的生產方法例如在JP-A-2001-233611和JP-A-2002-79616中描述過。尤其，在外殼內部具有空腔並且外殼的孔隙封閉的顆粒是優選的。順便提一下，該中空的二氧化矽細顆粒的折射率可以通過JP-A-2002-79616中所述的方法來計算。中空的二氧化矽細顆粒的塗布量優選是l一100mg/m2，更優選5一80mg/m2，還更優選10—60mg/m2。如果塗布量太小，降低折射率或改進抗劃傷性的效果降低，而如果塗布量太大，在低折射率層表面上產生了細粒不規則性，並且外觀(例如真黑色)或累積反射率可能降低。中空的二氧化矽細顆粒的平均粒徑優選是低折射率層厚度的30—150%，更優選35—80%，還更優選40—60%。換句話說，當低折射率層厚度為100nm時，中空的二氧化矽的粒徑優選為30—150nm，更優選35—80nm，還更優選40—60nm。如果中空的二氧化矽細顆粒的粒徑太小，空腔部分的比例下降，並且不能預期折射率的減小，而如果它過大，在低折射率層表面上產生了細粒不規則性，並且外觀(例如真黑色)或累積反射率可能降低。中空的二氧化矽細顆粒可以是結晶或無定形的，並且優選是單分散顆粒。形狀最優選是球形的，但即使是無定形的，也沒有問題。可以組合使用兩種或更多種類型的平均粒度不同的中空的二氧化矽顆粒。這裡，中空的二氧化矽的平均粒徑能夠通過電子顯微照片來測定。在本發明中，中空的二氧化矽細顆粒的表面積優選是20—300m2/g，更優選30—120m2/g，最優選40—90m2/g。該表面積能夠通過使用氮氣的BET方法來測定。在本發明中，可以組合使用沒有空腔的二氧化矽細顆粒與中空的二氧化矽細顆粒。無空腔的二氧化矽細顆粒的平均粒徑優選是低折射率層厚度的30—150%，更優選35—80%，還更優選40—60%。換句話說，當低折射率層的厚度為100nm時，二氧化矽細顆粒的粒徑優選為30—150nm，更優選35—80nm，還更優選40—60nm。如果二氧化矽細顆粒的粒徑太小，改進抗劃傷性的效果下降，而如果它過大，在低折射率層表面上產生了細粒不規則性，並且外觀(例如真黑色)或累積反射率可能降低。二氧化矽細顆粒可以是結晶或無定形的，並且可以是單分散顆粒或甚至可以是聚集顆粒，只要其滿足預定的粒徑。形狀最優選是球形的，但即使是無定形的，也沒有問題。無機細顆粒的平均粒徑通過庫爾特計數器來測定。還可以結合使用至少一種平均粒度小於低折射率層厚度的25%的二氧化矽細顆粒物質(該細顆粒被稱為"小粒徑二氧化矽細顆粒")與具有上述粒徑的二氧化矽細顆粒(該細顆粒被稱為"大粒徑二氧化矽細顆粒")。小粒徑二氧化矽細顆粒能夠存在於大粒徑二氧化矽細顆粒之間的空間，因此，能夠用作大粒徑二氧化矽細顆粒的保持劑。小粒徑二氧化矽細顆粒的平均粒徑優選是l一20nm，更優選5—15nm，還更優選10—15nm。使用這種二氧化矽細顆粒就原材料成本和保持劑效果而言是優選的。為了穩定液體分散體或塗布溶液中的分散作用或增強與粘結劑組分的親和力或與粘結劑組分的粘結性能，中空的二氧化矽細顆粒或二氧化矽細顆粒可以進行物理表面處理例如等離子體放電處理和電暈放電處理，或用表面活性劑、偶聯劑等進行化學表面處理。使用偶聯劑是特別優選的。至於偶聯劑，優選使用烷氧基金屬化合物(例如鈦偶聯劑，矽烷偶聯劑)。尤其，用具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基的矽烷偶聯劑處理是有效的。該偶聯劑用作在製備低折射率層的塗布溶液之前事先對低折射率層的無機細顆粒進行表面處理的表面處理劑，但該偶聯劑進一步優選在製備低折射率層的塗布溶液時作為添加劑添加，並且引入到該層中。中空的二氧化矽細顆粒或二氧化矽細顆粒優選在表面處理之前分散於介質中，以便減小表面處理的負載。能夠優選在本發明中使用的表面處理劑和催化劑的具體例子包括在WO2004/017105中所述的有機矽垸化合物和催化劑。在本發明中，從增強薄膜強度的觀點來看，優選添加有機矽垸化合物的水解產物和/或它的部分縮合物(溶膠)。溶膠的添加量優選是基於無機氧化物顆粒的2—200質量％，更優選5—100質量％，最優選10—50質量％。在本發明中，從增強防汙性能的觀點來看，優選降低抗反射薄膜表面上的表面自由能。具體地說，含氟化合物或具有聚矽氧垸結構的化合物優選在低折射率層中使用。至於具有聚矽氧烷結構的添加劑，添加含反應性基團的聚矽氧烷(例如，KF-100T、X-22-169AS、KF-102、X-22-3701IE、X-22-164B、X-22-5002、X-22匿173B、X-22-174D、X-22-167B、X-22-161AS(全部為商品名，由Shin-EtsuChemicalCo"Ltd.生產)、AK-5、AK-30、AK-32(全部為商品名，由ToagoseiChemicalIndustryCo"Ltd.生產)、SILAPLANEFM0725、SILAPLANEFM0721(二者為商品名，由ChissoCorp.生產)、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182、DMS-H21、DMS隱H31、HMS-30KFMS12KFMS123、FMS131、FMS-141、FMS221(全部為商品名，由Gelest生產)也是優選的。此外，還可以優選使用JP-A-2003-112383的表2和表3所述的矽酮型化合物。這種聚矽氧烷優選以0.1—10質量％，更優選1一5質量％的量添加，以低折射率層的全部固體含量為基準計。含氟聚合物的聚合可以通過用電離輻射照射或者在上述光自由基弓I發劑或熱自由基引發劑的存在下加熱來進行。因而，通過製備含有含氟聚合物、光自由基或熱自由基引發劑和無機細顆粒的塗布溶液，將該塗布溶液施塗在透明基底上以及通過電離輻射或熱效應導致的聚合反應固化該塗膜，從而能夠形成低折射率層。硬塗層具有提高薄膜的抗劃傷性的硬塗層性能。另外，硬塗層優選用來通過利用表面散射和內部散射中的至少一種散射而賦予該薄膜光漫射性能。因而，硬塗層優選含有用於賦予硬塗層性能的透光樹脂和用於賦予光漫射性能的透光顆粒，並且如果需要，進一步含有用於提高折射率、防止交聯收縮或提高強度的無機細顆粒。為了賦予硬塗層性能，硬塗層的厚度優選是l一10(im，更優選1.2—6pm。當該厚度在該範圍內時，賦予了令人滿意的硬塗層性能，37而且，不發生巻曲或脆性的惡化，進而不降低加工適宜性。透光樹脂優選是具有飽和烴鏈或聚醚鏈作為主鏈的粘結劑聚合物，更優選具有飽和烴鏈作為主鏈的粘結劑聚合物。另外，該粘結劑聚合物優選具有交聯結構。具有飽和烴鏈作為主鏈的粘結劑聚合物優選是烯屬不飽和單體的聚合物。具有飽和烴鏈作為主鏈並且具有交聯結構的粘結劑聚合物優選是具有兩個或更多個烯屬不飽和基團的單體的聚合物(共聚物)。為了更大程度提高粘結劑聚合物的折射率，還可以選擇高折射率單體，其中在上述單體的結構中含有芳環或至少一個選自不包括氟的滷素原子、硫原子、磷原子和氮原子中的原子。具有兩個或更多個烯屬不飽和基團的單體的實例包括多元醇和(甲基)丙烯酸的酯[例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-環己烷二丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2，3-環己烷四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯];環氧乙烷改性的這種酯；乙烯基苯及其衍生物(例如，1,4-二乙烯基苯、4-乙烯基苯甲酸2-丙烯醯乙基酯、l,4-二乙烯基環己酮)；乙烯基碸(例如二乙烯基碸)；丙烯醯胺(例如亞甲基雙丙烯醯胺)和甲基丙烯醯胺。可以組合使用這些單體的兩種或更多種類型。這種具有烯屬不飽和基團的單體的聚合可以通過用電離輻射照射或在上述低折射率層中含有的聚合引發劑的存在下加熱來進行。因此，通過製備含有用於形成透光樹脂的單體例如烯屬不飽和單體、含有能夠在用電離輻射照射或在加熱時產生自由基的引發劑、含有透光顆粒和如果需要的無機細顆粒的塗布溶液，在透明基底上施塗該塗布溶液，以及通過電離輻射或熱效應導致的聚合反應固化該塗膜，從而能夠形成硬塗層。除了能夠在用電離輻射照射或在加熱時產生自由基的光致聚合引發劑以外，可以使用可在上述低折射率層中含有的增感劑。具有聚醚作為主鏈的聚合物優選是多官能環氧化合物的開環聚合物。多官能環氧化合物的開環聚合可以通過用電離輻射照射或加熱在光致產酸劑或熱致產酸劑的存在下進行。因而，通過製備含有多官能環氧化合物、光致產酸劑或熱致產酸劑、透光顆粒和無機細顆粒的塗布溶液，在透明基底上施塗該塗布溶液，以及通過電離輻射或熱效應導致的聚合反應固化該塗膜，從而能夠形成硬塗層。通過使用含交聯官能團的單體代替具有兩個或更多個烯屬不飽和基團的單體，或除了具有兩個或更多個烯屬不飽和基團的單體以外還使用含交聯官能團的單體以便將交聯官能團引入到粘結劑聚合物上，並且使所述交聯官能團反應，從而可以將交聯結構引入到所述聚合物中。交聯官能團的實例包括異氰酸酯基、環氧基、氮丙啶基、嗯唑啉基團、醛基、羰基、肼基團、羧基、羥甲基和活性亞甲基。另外，還可以使用乙烯棊磺酸、酸酐、氰基丙烯酸酯衍生物、蜜胺、醚化羥甲基、酯、尿烷和金屬醇鹽(例如四甲氧基矽烷)作為引入交聯結構的單體。還可以使用由於分解反應而顯示了交聯性能的官能團，例如封閉的異氰酸酯基。也就是說，在本發明中，所述交聯官能團可以是不直接表現反應性而在分解時表現反應性的官能團。具有這種交聯官能團的粘結劑聚合物可以通過在塗布後加熱來形成交聯結構。硬塗層的霧度根據賦予抗反射薄膜的功能而改變。在保持圖像清晰度、抑制表面反射率和不具有光散射功能的情況下，霧度值優選是較低的，具體地說，霧度值優選是《10%，更優選S5%，最優選《25^。另一方面，在賦予除了抑制表面反射率的功能以外，還通過散射效應賦予降低液晶板圖案的感覺或顏色或亮度的不均勻的功能，或通過利用散射賦予擴大視角的功能的情況下，霧度值優選是10—90%，更優選15—80%，最優選20—705^。用於硬塗層的透光顆粒用於賦予防炫光或光漫射性能，並且其平均粒徑為0.5—5iam，優選1.0—4.0pm。如果平均粒徑小於0.5pm，光的散射角分布擴大至廣角，這不利地帶來了由於難以形成表面不規則所導致的顯示器的文字的解析度降低或防炫光性能不足，而如果它超過5pm，需要增加硬塗層的厚度，並且出現了諸如大的巻曲或材料成本上升的問題。透光材料的具體例子包括無機化合物顆粒，例如二氧化矽顆粒和1102顆粒；和樹脂顆粒例如丙烯醯(aciyl)顆粒、交聯的丙烯醯顆粒、甲基丙烯醯(methacryl)顆粒、交聯的甲基丙烯醯顆粒、聚苯乙烯顆粒、交聯的苯乙烯顆粒、蜜胺樹脂顆粒和苯胍胺樹脂顆粒。其中，交聯的苯乙烯顆粒、交聯的丙烯醯顆粒、交聯的丙烯醯-苯乙烯顆粒和二氧化矽顆粒是優選的。透光顆粒的形狀可以是球形或無定形的。另外，可以結合使用兩種或更多種類型的粒徑不同的透光顆粒。具有較大粒徑的透光顆粒能夠賦予防炫光性能，而具有較小粒徑的透光顆粒能夠賦予不同光學性能。例如，當抗反射薄膜附著於^33ppi的高清晰度顯示器時，要求不引起所謂的炫光的光學性能的問題。炫光歸因於象素由於存在於薄膜表面上的不規則(有助於防炫光性能)而被放大或減小以及亮度的均勻性失去的現象。這種炫光能夠通過組合使用粒徑小於用於賦予防炫光性能的透光顆粒並且折射率不同於粘結劑的透光顆粒而大大改進。這種透光顆粒的粒徑分布最優選是單分散的。各個顆粒優選儘可能具有相同的粒徑。例如，當粒徑比平均粒徑大20%或更多的顆粒被定義為粗顆粒時，粗顆粒佔顆粒總數的百分率優選是^1%，更優選還更優選幼.01%。具有這種粒徑分布的透光樹脂通過在正常合成反應之後進行分類來獲得。通過增加分類次數或增強分級度，可以獲得更優選的分布。鑑於光散射效應、圖像解析度、表面上的白色濁度、炫光等，這種透光顆粒優選進行共混，使得透光顆粒以基於硬塗層的全部固體含量的3—30質量Q^，更優選5—20質量％的量包含在所形成的硬塗層中。透光顆粒的密度優選為IO—1,000mg/m2，更優選IOO—700mg/m2。透光顆粒的粒度分布通過庫爾特計數器方法來測定，所測定的分布被轉化為顆粒數分布。除了上述透光顆粒以外，為了提高硬塗層的折射率，硬塗層優選含有無機細顆粒，其包括至少一種選自鈦、鋯、鋁、銦、鋅、錫和銻中的金屬的氧化物，並且具有幼.2|^!11，優選幼.l)am，更優選^).06pm的平均粒徑。相反，為了提高透光顆粒的折射率差，還優選在採用高折射率透光顆粒的硬塗層中使用矽的氧化物，從而降低該層的折射率。優選的粒徑與上述無機細顆粒的相同。用於硬塗層的無機細顆粒的具體例子包括Ti02、Zr02、A1203、ln203、ZnO、Sn02、Sb203、ITO和Si02。其中，從提高折射率的觀點來看，Ti02和Zr02是優選的。無機細顆粒的表面優選進行矽垸偶聯處理或鈦偶聯處理。在填料表面上具有能夠與粘結劑類反應的官能團的表面處理劑是優選使用的。在使用這種無機細顆粒的情況下，其添加量優選是基於硬塗層總質量的10—90質量％，更優選20—80質量％，還更優選30—75質順便提一下，該無機細顆粒的粒徑充分小於光的波長，因此，不引起散射，通過將該細顆粒分散在粘結劑聚合物中獲得的分散體表現得象光學均勻物質一樣。此外，在硬塗層中還可以使用有機矽垸化合物、有機矽垸的水解產物和/或其部分縮合物(溶膠)中的至少一種。加入到除了低折射率層以外的層中的溶膠組分的量優選是基於含有該溶膠組分的層(加入了溶膠組分的層)的總固體含量的0.001一50質量％，更優選0.01—20質量％，還更優選0.05—10質量％，進一步優選0.1—5質量％。在硬塗層的情況下，對於有機矽烷化合物或其溶膠組分的添加量的限制不適用於低折射率層，因此，有機矽垸化合物是優選使用的。透光樹脂和透光顆粒的混合物的整體折射率優選是1.48—2.00，更優選1.50—1.80。在該範圍內的折射率可以通過適當選擇透光樹脂和透光顆粒的類型和用量比率來獲得。怎樣選擇這些值可以容易地通過實驗預先得知。另外，在透光樹脂和透光顆粒之間的折射率差(透光顆粒的折射率一透光樹脂的折射率)優選是0.02—0.2，更優選0.05—0.15。當該差在該範圍內時，獲得了令人滿意的內部散射效果，結果，不產生炫光，並且薄膜表面不會變成白色混濁。透光樹脂的折射率優選是1.45—2.00，更優選1.48—1,70。這裡，透光樹脂的折射率可以通過用阿貝折射計直接測定折射率或通過測定反射光譜或光譜橢圓光度法來定量評價。尤其，為了防止塗層不均勻、乾燥不均勻、點缺陷等和確保硬塗層的表面均勻性，用於形成硬塗層的塗布溶液含有含氟表面活性劑或含矽酮的表面活性劑或二者。含氟的表面活性劑是優選使用的，因為改進本發明的抗反射薄膜的表面缺陷例如塗層不均勻、千燥不均勻和點缺陷的效果可以用更小添加量的表面活性劑獲得。目的是賦予用於高速塗布的適宜性，同時提高表面均勻性，從而提高生產率。以下描述防炫光層。在薄膜中形成防炫光層，目的是通過表面散射效應賦予防弦光性能，還優選賦予硬塗層性能，以提高薄膜的抗劃傷性。因而，防炫光層優選包括作為必需組分的能夠賦予硬塗層性能的透光樹脂、用於賦予防弦光性能的透光細顆粒和溶劑。至於透光樹脂和透光細顆粒，可以使用與以上對於硬塗層所述相同的那些物質。以下參考附圖描述本發明的抗反射薄膜的適合的結構實例。圖1是示意性示出了具有防炫光性能的抗反射薄膜的一個實例的橫截面圖。圖1所示的防炫光抗反射薄膜1包括透明基底2、在透明基底2上形成的防炫光層3、以及在防炫光層3上形成的低折射率層4。通過在防炫光層上形成低折射率層，達到光波長的大約1/4的厚度，表面反射率可以通過薄膜幹涉原理來降低。防炫光層3包括透光樹脂和分散於該透光樹脂中的透光細顆粒在具有該組成的抗反射薄膜中，各層的折射率優選滿足以下關係式防炫光層的折射率〉透明基底的折射率M氏折射率層的折射率。在本發明中，具有防炫光性能的防炫光層優選具有防炫光性能和硬塗層性能。在該實施方案中，防炫光層包括一層，但可以包括多個層，例如2—4層。此外，如在該實施方案中那樣，防炫光層可以直接在透明基底上提供，但也可以通過另外的層例如抗靜電層或耐溼層提供。.在本發明的抗反射薄膜中提供防炫光層的情況下，薄膜優選設計成具有表面不規則外形，使得中心線平均粗糙度Ra是0.08—0.30pm，10點平均粗糙度Rz小於等於Ra的10倍，平均峰-谷距離Sm是1一100nm，不規則處的突出高度距最深部分的標準偏差是幼.5jam，基於中心線的平均峰-谷距離Sm的標準偏差為《20iam，在0—5。的傾斜角下的平面佔210%,因為獲得了令人滿意的防炫光性能和視覺均勻的無光質感。如果Ra小於0.08，可能不會獲得充分高的防炫光性能，而如果它超過0.30，當外部光反射時，出現了諸如表面炫光或發白之類的問題。另外，當在C光源下的反射光的色調具有在CIE19761/^*1)*色空間內-2到2的3*值和-3到3的b"直，在380—780nm範圍內的最小反射率與最大反射率的比率為0.5—0.99時，該反射光提供了中性色調，這是優選的。此外，在C光源下透射光的M值優選調至0—3，因為當抗反射薄膜應用於顯示裝置時，降低了白色顯示的黃色著色。在給本發明的抗反射薄膜賦予防炫光性能的情況下，優選設計它的光學性能，使得歸因於內部散射的霧度(下文稱之為"內部霧度")是5—20%，更優選5—15%。如果內部霧度低於5%，可用的材料的組合被限制，從而導致難以調節防炫光性能和其它特性值，並且成本升高，而如果內部散射超過20%，暗室對比度大大惡化。另外，歸因於表面散射的霧度(下文稱之為"表面霧度")優選是1一10%，更優選2—7。Z，以及在0.5mm的寬度下的透射圖像清晰度優選是5一30%，因為能夠同時滿足充分高的防炫光性能和改進圖像模糊和暗室對比度下降。如果表面霧度低於1%，防炫光性能不充分，而如果它超過10%,當反射外部光時，出現了諸如表面發白之類的問題。此外，鏡面反射率優選是。.5%和透射率優選290%，因為外部光的反射能夠被抑制和可見度提高。在本發明的抗反射薄膜中，優選提供高折射率層和/或中折射率層，以便賦予更高的抗反射能力。本發明的抗反射薄膜中的高折射率層的折射率優選為1.60—2.40，更優選1.70—2.20。將中折射率層的折射率調至低折射率層的折射率和高折射率層的折射率之間的值。中折射率層的折射率優選為1.55到1.80。高折射率層和中折射率層的霧度優選為。％。可以通過控制所使用的無機細顆粒或粘結劑的添加量來適當調節折射率。為了提高高(中)折射率層的折射率，所述層優選含有無機細顆粒，其包括至少一種選自鈦、鋯、鋁、銦、鋅、錫和銻中的金屬的氧化物，並且具有幼.2pm，優選幼.lpm，更優選幼.06fim的平均粒徑。此外，為了提高在高(中)折射率層中含有的消光顆粒的折射率差，還優選在採用高折射率消光顆粒的高(中)折射率層中使用矽的氧化物，從而降底該層的折射率。優選的粒徑與上述硬塗層中的無機細顆粒的粒徑相同。用於高(中)折射率層的無機細顆粒的具體例子包括Ti02、Zr02、A1203、ln203、ZnO、Sn02、Sb203、ITO和Si02。其中，從提高折射率的觀點來看，Ti02和Zr02是優選的。無機細顆粒的表面優選進行矽烷偶聯處理或鈦偶聯處理。在細顆粒表面上具有能夠與粘結劑類反應的官能團的表面處理劑是優選使用的。根據需要的折射率來調節無機細顆粒的添加量，但在高折射率層的情況下，其添加量優選是基於該層總質量的10—90質量％，更優選20—80質量％，還更優選30—70質量％。順便提一下，這種無機細顆粒的粒徑充分小於光的波長，因此，不引起散射，並且通過將該細顆粒分散在粘結劑聚合物中獲得的分散體表現得象光學均勻物質一樣。用於本發明的高(中)折射率層優選如下所示。用於形成高折射率層的塗布溶液通過以下步驟來製備將無機細顆粒分散在如以上所述用於獲得液體分散體的分散介質中並且優選進一步添加形成基質所必需的粘結劑組分(例如，以上關於硬塗層所述的具有兩個或更多個烯屬不飽和基團的單體)、光致聚合引發劑等，並且將所獲得的用於形成高折射率層的塗布溶液塗布在透明基底上，再通過電離輻射可固化化合物(例如，多官能單體或多官能低聚物)的交聯或聚合反應固化。對於光致聚合多官能單體的聚合反應，優選使用光致聚合引發劑。光致聚合引發劑優選是光自由基聚合引發劑或光-陽離子聚合引發劑，更優選光自由基聚合引發劑。至於光自由基聚合引發劑，可以使用以上關於低折射率層所述的那些物質。除了上述組分(例如無機細顆粒、聚合引發劑、增感劑)以外，高(中)折射率層還可以含有樹脂、表面活性劑、抗靜電劑、偶聯劑、增稠劑、著色抑制劑、著色劑(例如顏料、染料)、賦予防炫光性能的顆粒、消泡劑、流平劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、紅外吸收劑、粘合力賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改性劑、導電金屬細顆粒等。高(中)折射率層的薄膜厚度可以根據用途適當設計。在使用高(中)折射率層作為光學幹涉層的情況下，薄膜厚度優選是30—200nm，更優選50—170nm，還更優選60—150nm。[透明基底]用於本發明的抗反射薄膜的透明基底優選是塑料薄膜。用於形成塑料薄膜的聚合物的實例包括醯化纖維素(例如，三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、乙酸丁酸纖維素；46如由FujiPhotoFilmCo.,Ltd.生產的TAC-TD80U和TD80UF所代表的)、聚醯胺、聚碳酸酯、聚酯(例如，聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、聚苯乙烯、聚烯烴、降冰片烯型樹脂(ARTON，商品名，由JSR生產)和無定形聚烯烴(ZEONEX，商品名，由NipponZeon生產)。其中，優選的是三乙酸纖維素、聚對苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯，更優選的是三乙酸纖維素。基本上不含滷化烴例如二氯甲烷的醯化纖維素薄膜及其生產方法在JillJo畫lofTchnicalDisclosure(No.2001-1745，2001年3月15日發行，下文簡稱為"KokaiGiho2001—1745")中有述，其中所述的醯化纖維素還優選在本發明中使用。疊加在透明基底上的各層可以通過使用浸塗方法、氣刀塗布方法、幕塗方法、輥塗方法、模頭塗布(diecoating)方法、繞線棒塗布方法、凹版塗布方法或擠出塗布方法塗布來形成(如在美國專利2,681,294中所述)。可以同時塗布兩個或更多個層。同時塗布方法在美國專利2，761，791、2，941，898、3,508,947和3，526，528以及YujiHarasaski，CoatingKogaku(CoatingEngineering),第253頁，Asakum-Shoten(1973)中有述。(用於塗布的分散介質)用於塗布的分散介質不是特別限制的。一種分散介質可以單獨使用，或者可以混合和使用兩種或更多種類型的分散介質。分散介質的優選實例包括芳族烴類，例如甲苯、二甲苯和苯乙烯；氯化芳族烴類，例如氯苯和鄰氯苯；氯化脂族烴類，包括甲烷衍生物，例如一氯甲烷和乙烷衍生物，例如一氯乙烷；醇類，例如甲醇、異丙醇和異丁醇；酯類，例如乙酸甲酯和乙酸乙酯；醚類，例如乙醚和1，4-二噁烷；酮類，例如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮和環己酮；二醇醚，例如乙二醇單甲醚；脂環族烴類例如環己烷；脂族烴類，例如正己烷；以及脂族或芳族烴類的混合物。在這些溶劑當中，用於塗布的分散介質優選通過使用單獨的一種酮或它們的兩種或更多種物質的混合物來製備。(過濾)用於塗布的塗布溶液優選在塗布之前過濾。所述過濾優選通過使用具有在不允許清除塗布溶液中的組分的範圍內儘可能小的孔徑的過濾器來進行。用於過濾的過濾器具有0.1—10nm，優選0.1—5pm的絕對過濾精度。過濾器厚度優選是0.1—10mm，更優選0.2—2mm。在該情況下，過濾優選在^1.5MPa，更優選S1.0MPa，還更優選S0.2MPa的壓力下進行。過濾的濾過元件不是特別限制的，只要它不影響塗布溶液。濾過元件的具體例子與以上對於無機化合物的溼分散體所述的濾過元件相同。還優選在塗布之前不久超聲分散過濾過的塗布溶液並有助於消泡或保持分散體的分散狀態。本發明的抗反射薄膜的生產方法特徵在於在基底薄膜上形成的層中的至少一層通過施塗塗層，然後通過以下第一種到第五種方法的任何一種來固化形成。(第一種方法)一種形成方法，包括通過在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中對具有塗層的薄膜照射電離輻射來固化該塗層的步驟。(第二種方法)包括以下步驟(2)和(3)的一種形成方法，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜的步驟，和(3)通過在氧濃度S3vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射來固化該塗層的步驟。(第三種方法)包括以下步驟(2)和(3)的一種形成方法，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜的步驟，和(3)通過在氧濃度S3vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射，同時加熱該薄膜以獲得^25t;的薄膜表面溫度來固化該塗層的步驟。(第四種方法)包括以下步驟(2)和(3)的一種形成方法，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜，同時加熱該薄膜以獲得25。C的薄膜表面溫度的步驟，和(3)通過在氧濃度。vol。/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射來固化該塗層的步驟。(第五種方法)包括以下步驟(2)和(3)的一種形成方法，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3》(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送所述具有塗層的薄膜，同時加熱該薄膜以獲得^25t:的薄膜表面溫度的步驟，和(3)通過在氧濃度。voP/。的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射，同時加熱該薄膜以獲得25"C的薄膜表面溫度來固化該塗層的步驟。所述第一種到第五種方法各個可以進一步包括在通過用電離輻射照射來固化塗層的步驟之後，在氧濃度。vol。/。的氣氛中輸送該固化薄膜，同時加熱該薄膜以獲得25X:的薄膜表面溫度的步驟。為了連續生產本發明的抗反射薄膜，進行連續展開巻繞的基底薄膜的步驟、塗布和乾燥塗布溶液的步驟(即，形成塗層的步驟)、固化該塗膜(塗層)的步驟以及巻取具有固化層的基底薄膜的步驟。基底薄膜從巻繞的基底薄膜連續供給到清潔室，通過去靜電裝置除去在基底薄膜上攜帶的靜電荷，然後通過除塵裝置除去附著於基底薄膜上的外來物質。隨後，在清潔室中設置的塗布段，將塗布溶液施塗於基底薄膜上，再將塗布的基底薄膜輸送到乾燥室，進行乾燥。具有乾燥塗層的基底薄膜從乾燥室供給到輻射固化室，對薄膜照射輻射，結果，塗層中含有的單體聚合，塗層固化。此外，如果需要，將具有通過輻射作用固化的塗層的基底薄膜輸送到熱固化段，進行加熱，從而完成固化。將具有完全固化層的基底薄膜巻取到輥上。每形成一層都可以進行上述步驟，或者可以通過提供多個塗布段-乾燥室-輻射固化段-熱固化室系統來連續形成各層。考慮到生產率，連續形成各層是優選的。圖2示出了用於連續塗布各層的裝置的結構實例。在該裝置中，在連續展開巻繞的基底薄膜的步驟10和將基底薄膜巻為巻筒的步驟20之間適當提供必要數量的薄膜形成單元100、200、300和400。圖2所示的裝置是在不巻取薄膜的情況下連續塗布四層時的結構的一個實例，薄膜形成單元的數量當然可以根據層結構來改變。薄膜形成單元100包括施塗塗布溶液的步驟101、乾燥塗膜的步驟102以及固化該塗膜的步驟103。例如，在生產具有硬塗層與中、高和低折射率層的抗反射薄膜的情況下，優選通過使用包括三個薄膜形成單元的裝置，連續展開塗有硬塗層的巻繞的基底薄膜，在相應的薄膜形成單元中依次塗布中折射率層、高折射率層和低折射率層，再巻取該薄膜的方法；更優選通過使用圖2所示的包括四個薄膜形成單元的裝置，連續展開巻繞的基底薄膜，隨後在相應的薄膜形成單元中依次塗布硬塗層、中折射率層、高折射率層和低折射率層，再巻取該薄膜的方法，來生產抗反射薄膜。在本發明的抗反射薄膜中，優選至少疊加高折射率層和低折射率層。在該疊加結構中，當存在外來物質例如汙物或灰塵時，明顯地出現了亮點缺陷。本文所使用的亮點缺陷是指由於塗膜上的反射而肉眼可見的缺陷，並且該缺陷可以例如通過在塗布後在抗反射薄膜的背面塗黑漆的操作而用肉眼檢測。一般，肉眼可見的亮點缺陷的尺寸是250pm。當亮點缺陷數目大時，生產時的收率下降，不能生產大面積的抗反射薄膜。在本發明的抗反射薄膜中，亮點缺陷的數目為每平方米《20，優選SIO，更優選"，還更優選S1。用於製備具有少量亮點缺陷的抗反射薄膜的方式包括精確控制高折射率超細顆粒在高折射率層的塗布溶液中的分散性和將塗布溶液超濾的操作。同時，構成抗反射層的各層優選在塗布段的塗布步驟和乾燥室內的乾燥步驟在具有高空氣清潔度的氣氛中進行並且在塗布之前徹底除去薄膜上的汙物或灰塵的條件下形成。根據美國聯邦標準209E中規定的空氣清潔度，塗布步驟和乾燥步驟中的空氣清潔度優選是等於或超過10級(20.5nm的顆粒的數目不超過353/(立方米))，更優選等於或超過l級(20.5lam的顆粒的數目不超過35.5/(立方米))。更優選的是，空氣清潔度在除了塗布-乾燥步驟以外的區段，例如展開段和巻取段中也是高的。用於作為塗布之前的前置步驟的除塵步驟的除塵方法的實例包括乾燥除塵方法，例如，JP-A-59-150571中所述的將無紡布或葉片壓在薄膜表面上的方法；JP-A-10-309553中所述的以高速吹送具有高清潔度空氣以便從薄膜表面分離附著的物質以及經由最近的吸入口抽吸這些物質的方法；以及JP-A-7-333613中所述的在超聲波振動下吹送壓縮空氣以便分離附著的物質以及抽吸這些物質的方法(例如，由ShinkoCo.,Ltd.生產的NEWULTRA-CLEANER)。另外，可以使用溼除塵方法，例如將薄膜引入到洗滌槽中以及通過使用超聲振動器分離附著的物質的方法；JP-B-49-13020中所述的將清洗液供給薄膜，在高速下吹送空氣，隨後抽吸的方法；以及JP-A-2001-38306中所述的用液體溼潤的輥連續摩擦幅狀材料，將液體噴射到摩擦面上，從而清洗該幅狀材料的方法。在這些除塵方法中，鑑於除塵效果，超聲除塵方法和溼除塵方法是優選的。在進行這種除塵步驟之前，優選除去基底薄膜上的靜電荷，以便提高除塵效果和防止灰塵附著。至於除靜電法，可以使用電暈放電型電離器，光照射型(例如紫外線、軟性X射線)的電離器等。在除塵和塗布之前和之後的基底薄膜上攜帶的電壓優選是《1，000V，更優選《300V，還更優選《100V。在本發明的製備方法中，只要照射電離輻射的步驟，在用電離輻射照射之前的輸送步驟以及如果需要在用電離輻射照射之後進行的加熱步驟各自在控制至所需氧濃度的低氧濃度氣氛(低氧濃度區)中進行，那麼這些步驟可以彼此分開或可以連續進行。從降低生產成本的觀點來看，用於降低電離輻射照射區中的氧濃度的惰性氣體優選排放到用於進行前一步驟(在照射之前的低氧濃度區)的低氧濃度區和/或用於進行後續步驟的低氧濃度區(在照射之後的低氧濃度區)，以便有效利用惰性氣體。不僅這些步驟，而且任何步驟可以在低氧濃度氣氛中進行。在通過將電離輻射照射區分為多個區用電離輻射照射的情況下，低氧濃度區可以在各個區之間提供。偏振片主要包括偏振膜和從兩側將偏振膜夾在中間的兩個保護膜。本發明的抗反射薄膜優選用作從兩側將偏振膜夾在中間的兩個保護膜中的至少一個保護膜。通過將本發明的抗反射薄膜設定成還起保護膜的作用，可以降低偏振片的生產成本。此外，通過使用本發明的抗反射薄膜作為最外表面層，可以獲得防止外部光投影並且還具有優異的抗劃傷性、防汙性能等的偏振片。至於偏振膜，可以使用已知偏振膜或從偏振膜的吸收軸既不平行也不垂直於縱向的較長的偏振膜切取的偏振膜。偏振膜的吸收軸既不平行也不垂直於縱向的較長的偏振膜可以通過以下方法來製備。這是通過對連續供給的聚合物薄膜施加張力，同時用夾緊裝置夾緊薄膜的兩緣來拉伸所獲得的偏振膜，並且可以根據一種拉伸方法來製備，在該方法中，至少在薄膜寬度方向上將該薄膜拉伸1.1一20.0倍，移動在薄膜兩緣的夾緊裝置，以便在縱向上產生。5^的運行速度差，薄膜運行方向是彎曲的，在薄膜兩緣被夾緊的狀態下，使得由在夾緊薄膜兩緣的步驟中在出口處的薄膜運行方向和薄膜的主要拉伸方向形成的角度以20—70。傾斜。尤其，鑑於生產率，以45°的傾斜角生產的偏振膜是優選的。JP-A-2002-86554(段落到)詳細描述了聚合物薄膜的拉伸方法。在使用本發明的抗反射薄膜作為偏振膜一側的表面保護膜的情況下，該抗反射薄膜能夠以諸如扭曲向列模式(TN)、超扭曲向列模式(STN)、垂直取向模式(VA)、面內轉換模式(IPS)或光學補償彎曲液晶單元(OCB)模式之類的模式優選用於透射式、反射式或透反射式(transflective)液晶顯示裝置。VA模式液晶元件包括(1)狹義上的VA模式液晶元件，其中棒狀液晶分子在不施加電壓時基本上以垂直取向方式取向，而在施加電壓時基本上以水平取向方式取向(如JP-A-2-176625所述)；(2)(MVA模式)液晶元件，其中VA模式被改進成多疇系統，用於擴大視角(如SID97，DigestofTech.Papers(預印本)，28，845(1997)所述)；(3)(n-ASM-模式)液晶元件，其中棒狀液晶分子在不施加電壓時基本上以垂直取向方式取向，而在施加電壓時基本上以扭曲多疇取向方式取向(如NipponEkishoToronkai(日本液晶論壇)的預定本，58-59(1998)中所述)；(4)SURVAIVAL模式液晶元件(在LCDInternational98中所述的)。為了應用於VA模式液晶元件，通過將雙軸拉伸的三乙醯纖維素薄膜與本發明的抗反射薄膜組合所製備的偏振片是優選的。至於雙軸拉伸的三乙醯纖維素薄膜的生產方法，優選使用例如在JP-A-2001-249223和JP-A-2003—170492中所述的方法。OCB模式液晶元件是使用彎曲取向模式的液晶元件的液晶顯示55裝置，其中棒狀液晶分子在液晶元件的上部和下部基本上以相反的方向(對稱)取向，並且這公開在美國專利4,583,825和5,410,422中。因為棒狀液晶分子在液晶元件的上部和下部之間對稱取向，彎曲取向模式的液晶元件具有自行光學補償能力。因而，該液晶模式也被稱為OCB(光學補償彎曲)液晶模式。彎曲取向模式的液晶顯示裝置由於響應速度快而是優選的。在TN模式液晶元件中，棒狀液晶分子在不施加電壓時基本上以水平取向方式取向。它被最廣泛地用作彩色TFT液晶顯示裝置，並且在許多出版物中描述過，例如，EL,PDP.LCDDisplay，TorayResearchCenter(2001)。尤其，在TN模式或IPS模式液晶顯示裝置的情況下，如在JP-A-2001-100043等中所述的，具有擴大視角的效果的光學補償薄膜優選用作偏振膜的正面和背面兩個保護膜中的與本發明的抗反射薄膜相對面上的保護膜，因為能夠用一個偏振片的厚度獲得具有抗反射效果和視角擴大效果的偏振片。實施例[實施例1]以下參考實施例來詳細說明本發明，但不應認為本發明局限於這些實施例。在實施例中，"份"表示"質量份"。(用於硬塗層的塗布溶液的製備)將以下組合物加入到混合槽內，進行攪拌，製備用於硬塗層的塗布溶液。向750.0重量份的三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(BISCOTE#295(由OsakaYukiKagaku生產))添加270.0質量份的重均分子量為15,000的聚甲基丙烯酸縮水甘油酯、730.0質量份的甲基乙基酮、500.0質量份的環己酮和50.0質量份的光致聚合引發劑(IRGACURE184，由CibaSpecialtyChemicals生產)，並進行攪拌。用孔徑為0.4|im的聚丙烯制過濾器將所得溶液過濾，以製備用於硬塗層的塗布溶液。所述聚甲基丙烯酸縮水甘油酯通過下列步驟獲得將甲基丙烯酸縮水甘油酯溶於甲基乙基酮(MEK)中，在滴加熱致聚合引發劑(V-65(由WakoPureChemicalIndustries,Ltd.生產))的同時讓反應在80。C下進行2小時，將己烷滴加到所得反應溶液，然後在減壓下乾燥沉澱物。(二氧化鈦細顆粒的液體分散體的製備)至於二氧化鈦細顆粒，採用通過使用氫氧化鋁和氫氧化鋯表面處理過的含鈷的二氧化鈦細顆粒(MPT-129C，由IshiharaSangyoKaishaLtd.生產，Ti02:Co304:Al203:Zr02=90.5:3.0:4.0:0.5重量比)。將41.1質量份的以下所示的分散劑和701.8質量份的環己酮加入到257.1質量份的以上二氧化鈦細顆粒中，之後，通過Dyno-研磨機將該混合物分散，製備重均直徑為70nm的二氧化鈦液體分散體。分散劑OH3H3GOOCH2CH=CH2COOH(用於中折射率層的塗布溶液的製備)向99.1質量份的以上製備的二氧化鈦液體分散體添加68.0質量份的二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(DPHA，由NipponKayakuCo.,Ltd.生產)、3.6質量份的光致聚合引發劑(IRGACURE907，由CibaSpecialtyChemicals生產)、1.2質量份的增感劑(KAYACUREDETX，由NipponKayakuCo"Ltd.生產)、279.6質量份的甲基乙基酮和1，049.0質量份的環己酮，並進行攪拌。在徹底攪拌之後，用孔徑為0.4|im的聚丙烯制過濾器將所得溶液過濾，製備用於中折射率層的塗布溶液。(用於高折射率層的塗布溶液的製備)向469.8質量份的以上製備的二氧化鈦液體分散體添加40.0質量份的二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(DPHA，由NipponKayakuCo.，Ltd.生產)、3.3重量份的光致聚合引發劑(IRGACURE907,由CibaSpecialtyChemicals生產)、1.1重量份的增感劑(KAYACUREDETX，由NipponKayakuCo.,Ltd.生產)、526.2質量份的甲基乙基酮和459.6質量份的環己酮，並進行攪拌。用孔徑為0.4pm的聚丙烯制過濾器將所得溶液過濾，製備用於高折射率層的塗布溶液。(用於低折射率層的塗布溶液的製備)將根據本發明的以上所示的共聚物P-3溶於甲基異丁基酮(MIBK)中，獲得7質量％濃度。另外，添加基於固體含量的3%的量的含末端甲基丙烯酸酯基的矽酮樹脂X-22-164C(由Shin-EtsuChemicalCo.，Ltd.生產)和基於固體含量的5質量％的量的光自由基產生劑IRGACUREOXE01(商品名)，製備用於低折射率層的塗布溶液。(抗反射薄膜101的製備)在80pm厚三乙醯纖維素薄膜(TD80UF，由FujiPhotoFilmCo.,Ltd.生產)上，通過使用凹版塗布機施塗用於硬塗層的塗布溶液。在IO(TC下乾燥之後，通過使用160W/cm的空氣冷卻的金屬卣化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產)在400mW/cm2的發光強度和300mJ/cm2的照射劑量下照射紫外線，同時用氮氣吹洗該系統以提供氧濃度S1.0vol。/。的氣氛來固化該塗層，從而形成8pm厚的硬塗層。在該硬塗層上，通過使用具有三個塗布位置的凹版塗布機連續施塗中折射率層的塗布溶液、高折射率層的塗布溶液和低折射率層的塗布溶液。通過使用180W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產)，將乾燥條件設定為9(TC和30秒以及將紫外線固化條件設定為400mW/cr^的發光強度和400mJ/ci^的照射劑量，同時用氮氣吹洗該系統以提供氧濃度^1.0volc/。的氣氛來形成中折射率層。固化後的中折射率層具有1.630的折射率和67nrn的厚度。通過使用240W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EyeGraphicsCo.，Ltd.生產)，將乾燥條件設定為9(TC和30秒以及將紫外線固化條件設定為600mW/cm2的發光強度和400mJ/cm2的照射劑量，同時用氮氣吹洗該系統以提供氧濃度^.OvoP/。的氣氛來形成高折射率層。固化後的高折射率層具有1.905的折射率和107nm的厚度。通過使用240W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產)，將乾燥條件設定為90。C和30秒以及將紫外線固化條件設定為600mW/cm2的發光強度和600mJ/cm2的照射劑量，同時用氮氣吹洗該系統以提供氧濃度幼.lvol。/。的氣氛來形成低折射率層。固化後的低折射率層具有1.440的折射率和85nm的厚度。這樣，製備了抗反射薄膜IOI。通過僅僅將低折射率層的固化條件改變為表1所示的條件來製備樣品102—112。在紫外線照射後加熱該薄膜的情況下，這通過將照射後的薄膜與旋轉金屬輥接觸來進行，其中熱水或加壓蒸汽從該金屬輥通過。順便提一下，不進行加熱的樣品(例如，樣品IOI)的薄膜溫度歸因於在紫外線照射時的反應熱'表ltableseeoriginaldocumentpage61按以下項目評價所獲得的薄膜。結果在表2中示出。[鏡面反射率]將配合接頭ARV-474裝載到光譜硬度計V-550(由JASCOCorp.製造)上，在380-780nm波長範圍內測定在5。的入射角下的-5°出射角的鏡面反射率。計算在450—650nm的平均反射率，以評價抗反射性能。如JISK5400所述進行鉛筆硬度的評價。將抗反射薄膜在25'C的溫度和60XRH溼度下溼度調節2小時，然後通過使用JISS6006規定的試驗用的H到5H鉛筆在500g的載荷下按照以下標準評價。OK:在11=5的評價中，沒有劃傷或一處劃傷。NG:在n-5的評價中，三處或更多處劃傷。在1.96N/cm2的負載下將#0000鋼絲絨往復運動30次，觀察劃傷狀態，按以下5個等級評價◎完全無劃傷。〇輕微地出現了幾乎不能看見的劃傷。出現了清晰可見的劃傷。X:大量地出現了清晰可見的劃傷。XX:發生了薄膜的分離。表2tableseeoriginaldocumentpage63可以看出，利用本發明的形成條件，本發明的抗反射薄膜具有充分高的抗反射性能，而且，還表現了優異的抗劃傷性。另外，後加熱時間優選是20.1秒。此外，在本發明中，即使當在紫外線照射時的氧濃度或照射劑量波動時也能夠確保穩定的性能。按照實施例1的樣品102、103、104、105、108和109的製備方法製備樣品113_118，並且以相同方式評價，唯一不同的是讓薄膜通過紫外線照射區之前的氮氣吹洗區。按照實施例1的樣品105的製備方法製備樣品119和120，唯一不同的是讓該薄膜通過紫外線照射區之前的氮氣替代區。在紫外線照射之後將薄膜加熱的情況下，這通過讓照射後的薄膜與有熱水或加壓蒸汽通過的旋轉金屬輥接觸來進行。表3tableseeoriginaldocumentpage65表4示出了結果。通過在紫外線照射之前讓薄膜通過具有低氧濃度的氮氣吹洗區，提高了抗劃傷性。通過結合在紫外線照射之後讓薄膜通過具有低氧濃度的加熱氮氣吹洗區的步驟，固化變得顯著。此外，還通過在紫外線照射之前加熱具有低氧濃度的氮氣吹洗區而提高了抗劃傷性。表4tableseeoriginaldocumentpage66[實施例3]實施例1和2的低折射率層中使用的含氟聚合物改變為以上所示的P-l或P-2(等質量變化)，以相同方式評價樣品，結果，獲得了與實施例1和2相同的效果。[實施例4](用於硬塗層的塗布溶液的製備)將以下組分加入到混合槽內，進行攪拌，製備用於硬塗層的塗布溶液。用於硬塗層的塗布溶液的組分DESOLITEZ-7404(含氧化鋯細顆粒的硬塗層組合物，固體含量濃度60wt%，氧化鋯細顆粒含量基於固體含量的70wtM，平均粒徑大約20nm，溶劑組成MIBK:MEK=9:1，含有引發劑，由JSRCorp.生產)100質量份DPHA(UV可固化樹脂，由NipponKayakuCo.,Ltd.生產)31質量份KBM-5103(矽烷偶聯劑，由Shin-EtsuChemicalCo"Ltd.生產)IO質量份KE-P150(1.5pm的二氧化矽顆粒，由NipponShokubaiCo.,Ltd.生產)8.9質量份MXS-300(3|im的交聯PMMA顆粒，由TheSokenChemical&EngineeringCo"Ltd.生產)3.4質量份MEK29質量份MIBK13質量份(用於低折射率層的塗布溶液的製備)按照與實施例1相同的方式製備用於低折射率層的塗布溶液。(抗反射薄膜401的製備)將巻材形式的三乙醯纖維素薄膜(TD80U，由FujiPhotoFilmCo.，Ltd.生產)作為透明基底展開，通過使用刮刀和直徑為50mm並且具有線數為135線/英寸和深度為60|im的凹版圖案的微型凹版輥在lOm/min的輸送速度條件下在其上塗布以上製備的用於硬塗層的塗布溶液，在60'C下乾燥150秒之後，在氮氣吹洗下，通過使用160W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產)在400mW/cm2的發光強度和250mJ/cm2的照射劑量下照射紫外線，從而固化該塗層形成硬塗層。將所形成的薄膜巻取。調節凹版輥的轉數以便在固化後獲得3.6pm的硬塗層厚度。.將塗有硬塗層的透明基底再次展開，通過使用刮刀和直徑為50mm並且具有線數為200線/英寸和深度為30|im的凹版圖案的微型凹版輥在10m/min的輸送速度條件下在其上塗布以上製備的用於低折射率層的塗布溶液，在9(TC下乾燥30秒之後，在氧濃度為0.1vol%的氣氛中，通過使用240W/cm的空氣冷卻的金屬滷化物燈(由EyeGraphicsCo.,Ltd.生產)在600mW/cm2的發光強度和400mJ/cm2的照射劑量下照射紫外線，從而形成低折射率層。將所形成的薄膜巻取。調節凹版輥的轉數以便在固化後獲得lOOnm的低折射率層厚度。在紫外線照射之後將薄膜加熱的情況下，這通過讓照射後的薄膜與有熱水或加壓蒸汽通過的旋轉金屬輥接觸來進行。通過如表5所示改變低折射率層的固化條件來製備樣品402—412。68表5tableseeoriginaldocumentpage69這些樣品按照與實施例1相同的方式評價。結果在表6中示出。表6tableseeoriginaldocumentpage70按照實施例3的樣品401、403、404、405、408和409的製備方法製備樣品413—418，並且以相同方式評價，唯一不同的是讓薄膜通過紫外線照射區之前的氮氣吹洗區。按照實施例3的樣品405的製備方法製備樣品419和420，唯一不同的是讓薄膜通過紫外線照射區之前的氮氣替代區。tableseeoriginaldocumentpage71200810128821.8表8示出了結果。通過在紫外線照射之前讓薄膜通過具有低氧濃度的氮氣吹洗區，提高了抗劃傷性。通過結合在紫外線照射之後讓薄膜通過具有低氧濃度的加熱氮氣吹洗區的步驟，固化變得顯著。表8tableseeoriginaldocumentpage72[實施例6]通過將實施例1_5的用於低折射率層的塗布溶液改變為用於低折射率層的以下塗布溶液A或B來製備抗反射薄膜，並進行評價，結果，證明了本發明的相同效果。通過使用中空的二氧化矽細顆粒，可以生產具有更優異的抗劃傷性的低反射率抗反射薄膜。(溶膠溶液a的製備)在裝有攪拌器和回流冷凝器的反應器中，添加120份的甲基乙基酮、100份的丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(KBM-5103，由Shin-EtsuChemicalCo.，Ltd.生產)和3份的二異丙氧基鋁乙醯乙酸乙酯(KER0PEEP-12,商品名，由HopeChemicalCo.，Ltd.生產)，進行混合，在添加30份的離子交換水之後，讓反應在60。C下繼續4小時。此後，將反應產物冷卻到室溫，獲得溶膠溶液a。重均分子量為1,600，在低聚物或更高級聚合物組分中，分子量為1,000—20，000的組分佔100%。另外，氣相色譜法揭示，原料丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽垸完全沒有殘留。(中空的二氧化矽細顆粒液體分散體的製備)向500份的中空的二氧化矽細顆粒溶膠(異丙醇二氧化矽溶膠，CS60-IPA，由Catalysts&ChemicalsInd.,Co,,Ltd.生產，平均粒徑60nm，外殼厚度10nm，二氧化矽濃度20%，二氧化矽顆粒的折射率1.31)添加30份的丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(KBM-5103，由Shin-EtsuChemicalCo.，Ltd.生產)和1.5份的二異丙氧基鋁乙酸乙酉旨(KEROPEEP-12,商品名，由HopeChemicalCo"Ltd.生產)，進行混合，另外添加9份的離子交換水。讓反應在60'C下進行8小時後，將反應產物冷卻到室溫，再添加1.8份的乙醯丙酮，獲得中空的二氧化矽液體分散體。所得中空的二氧化矽液體分散體的固體含量濃度為18質量％，溶劑乾燥之後的折射率為1.31。(用於低折射率層的塗布溶液A的製備)用於低折射率層的塗布溶液A的組成tableseeoriginaldocumentpage74(用於低折射率層的塗布溶液B的製備)tableseeoriginaldocumentpage74所使用的化合物如下所示KBM-5103:矽垸偶聯劑(由Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.生產)DPHA:二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(由NipponKayakuCo.,Ltd.生產)RMS-033:反應性矽酮(由Gelest生產)IRGACUREOXE01:光致聚合引發劑(由CibaSpecialtyChemicals生產)。通過將實施例l一5中的用於低折射率層的塗布溶液改變為用於低折射率層的以下塗布溶液C來製備抗反射薄膜，並進行評價，結果，證明了本發明的相同效果。另外，即使當用同等量的交聯度提高的JTA113(由JSRCorp.生產)替換低折射率層中的OPSTARJN7228A，也獲得了同樣的效果。(用於低折射率層的塗布溶液C的製備)將以下組合物加入到混合槽內，進行攪拌，通過孔徑llim的聚丙烯制的過濾器將所得溶液過濾，製備用於低折射率層的塗布溶液C。用於低折射率層的塗布溶液c的組成OPSTARJN7228A(含有聚矽氧烷和羥基的熱交聯含氟聚合物的液體組合物，由JSRCorp生產)100質量份MEK-ST(二氧化矽分散體，平均粒徑15nm，由NissanChemicalIndustries,Ltd.生產)4.3質量份粒徑與MEK-ST不同的產品(二氧化矽分散體，平均粒徑45nm，由NissanChemicalIndustries,Ltd.生產)5.1質量份溶膠溶液a2.2質量份MEK15質量份環己酮3.6質量份通過使用刮刀和直徑為50mm並且具有線數為200線/英寸和深度為30pm的凹版圖案的微型凹版輥在lOm/min的輸送速度條件下在其上塗布以上製備的用於低折射率層的塗布溶液，在120。C下乾燥150秒和進一步14(TC下乾燥12分鐘之後，用實施例1所述的紫外線照射，形成樣品。調節凹版輥的轉數以便在固化後獲得100nm的低折射率層厚度。(用於偏振片的保護膜的製備)將1.5mol/L氫氧化鈉水溶液保持在5(TC，以製備皂化溶液。單獨地，製備0.005mol/L稀硫酸水溶液。在實施例l一7製備的抗反射薄膜中，與具有本發明的固化層的表面相對側的透明基底的表面通過用以上製備的皂化溶液皂化來處理。皂化處理過的透明基底表面用水洗滌，以徹底衝洗掉氫氧化鈉水溶液，用以上製備的稀硫酸水溶液洗滌，進一步用水洗滌，以徹底衝洗掉稀硫酸水溶液，然後在IO(TC下徹底乾燥。評價與具有抗反射薄膜的固化層的表面的相對側的通過皂化處理的透明基底表面與水的接觸角，結果為《40°。這樣，製備了用於偏振片的保護膜。(偏振片的製備)將75|im厚聚乙烯醇薄膜(由KurarayCo.，Ltd.生產)在含有l，OOO質量份水、7質量份碘和105質量份碘化鉀的水溶液中浸漬5分鐘，以吸收碘。隨後，在4質量％硼酸水溶液中在縱向上將該薄膜單軸拉伸4.4倍，在拉緊狀態的同時，進行乾燥，獲得偏振膜。通過使用聚乙烯醇型粘合劑作為粘合劑，將該偏振膜的一個表面與在實施例l一7中製備和在實施例8中皂化的抗反射薄膜(用於偏振片的保護膜)的皂化三乙醯纖維素表面層合。此外，通過使用相同的聚乙烯醇型粘合劑，偏振膜的另一個表面與通過按上述方式皂化處理的三乙醯纖維素薄膜層合。(圖像顯示裝置的評價)安裝了以上製備的本發明的偏振片作為顯示器的最外表面的TN、STN、IPS、VA或OCB模式的透射式、反射式或透反射式液晶顯示器具有優異的抗反射性能，並且具有非常優異的可見性。尤其，在VA模式中效果是突出的。(偏振片的製備)對與具有光學補償層的表面的相對側的光學補償薄膜(WideViewFilmSA12B，由FujiPhotoFilmCo.,Ltd.生產)的表面在與實施例8相同的條件下進行皂化處理。通過使用聚乙烯醇型粘合劑作為粘合劑，將實施例9製備的偏振膜的一個表面與在實施例1—7中製備和在實施例8中皂化的抗反射薄膜(用於偏振片的保護膜)的皂化三乙醯纖維素表面層合。此外，通過使用相同的聚乙烯醇型粘合劑，偏振膜的另一個表面與皂化處理的光學補償薄膜的三乙醯纖維素表面戸A(圖像顯示裝置的評價)與安裝了未使用光學補償薄膜的偏振片的液晶顯示器相比，其中安裝了以上製備的本發明的偏振片作為顯示器的最外表面的TN、STN、IPS、VA或OCB模式的透射式、反射式或透反射式液晶顯示器具有優異的亮室對比度，並且在上/下和左/右方向上確保了非常廣的視角、優異的抗反射性能和非常高的可見性和顯示器等級。尤其，效果在VA模式中是突出的。權利要求1、製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；以及厚度小於等於200nm的低折射率層，該低折射率層位於所述透明基底上，所述製備方法包括用包括以下步驟(1)-(3)的層形成方法，形成所述低折射率層，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3)(1)在透明基底上施加塗層的步驟，(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中輸送具有所述塗層的薄膜，同時加熱該薄膜以獲得≥25℃的薄膜表面溫度的步驟，和(3)通過在氧濃度≤3vol％的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射，同時加熱該薄膜以獲得≥25℃的薄膜表面溫度來固化所述塗層的步驟。2、製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；以及厚度小於等於200nm的低折射率層，該低折射率層位於所述透明基底上，所述製備方法包括-用包括以下步驟(1)—(3)的層形成方法，形成所述低折射率層，其中連續進行輸送步驟(2)和固化步驟(3):(1)在透明基底上施加塗層的步驟，(2)在氧濃度小於等於10vol。/。的氣氛中輸送具有所述塗層的薄膜，同時加熱該薄膜以獲得25T:的薄膜表面溫度的步驟，和(3)通過在氧濃度^).lvol。/o的氣氛中對所述薄膜照射電離輻射大於等於0.1秒小於等於300秒的時間，同時加熱該薄膜以獲得25°。的薄膜表面溫度來固化所述塗層的步驟。3、製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；以及厚度小於等於200nrn的低折射率層，該低折射率層位於所述透明基底上，所述製備方法包括用包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，形成所述低折射率層，其中連續進行固化步驟(2)和輸送步驟(3):(1)在透明基底上施加塗層的步驟，(2)通過在氧濃度《voiy。的氣氛中對具有所述塗層的薄膜照射電離輻射，同時加熱該薄膜以獲得^25'C的薄膜表面溫度來固化所述塗層的步驟，和(3)在氧濃度小於等於3vol。/。的氣氛中輸送所述固化薄膜，同時加熱該薄膜以獲得^25°C的薄膜表面溫度的步驟。4、製備抗反射薄膜的方法，所述抗反射薄膜包括透明基底；以及厚度小於等於200nm的低折射率層，該低折射率層位於所述透明基底上，所述製備方法包括用包括以下步驟(1)一(3)的層形成方法，形成所述低折射率層，其中連續進行固化步驟(2)和輸送步驟(3):(1)在透明基底上施加塗層的步驟，(2)通過在氧濃度^).lvol。/。的氣氛中對具有所述塗層的薄膜照射電離輻射大於等於O.l秒小於等於300秒的時間，同時加熱該薄膜以獲得225'C的薄膜表面溫度來固化所述塗層的步驟，和(3)在氧濃度小於等於0.1voiy。的氣氛中輸送所述固化薄膜，同時加熱該薄膜以獲得25。C的薄膜表面溫度的步驟。5、如權利要求1或2所述的製備抗反射薄膜的方法，其中所述層形成方法包括，在通過用電離輻射照射來固化所述塗層的固化步驟之後，在氧濃度《3vol。/。的氣氛中輸送所述固化薄膜，同時加熱該薄膜以獲得^25。C的薄膜表面溫度的步驟。6、如權利要求1或2所述的製備抗反射薄膜的方法，其中所述層形成方法包括，在通過用電離輻射照射來固化所述塗層的固化步驟之後，在氧濃度《0.1voP/。的氣氛中輸送所述固化薄膜，同時加熱該薄膜以獲得25°C的薄膜表面溫度的步驟。7、如權利要求1-4任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中所述電離輻射是紫外線。8、如權利要求1-4任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中在用電離輻射照射期間和/或之前進行加熱和/或在用電離輻射照射之後進行加熱，以獲得25—17(TC的薄膜表面溫度。9、如權利要求1-4任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中在用電離輻射照射期間和/或之前的加熱和/或在用電離輻射照射之後的加熱是通過讓所述薄膜與加熱輥接觸來進行。10、如權利要求l-4任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中在用電離輻射照射期間和/或之前的加熱和/或在用電離輻射照射之後的加熱是通過吹送加熱的氮氣來進行。11、如權利要求l-4任一項所述的製備抗反射薄膜的方法，其中所述輸送步驟和/或所述用電離輻射照射的固化步驟各自在用氮氣置換的低氧濃度區中進行，和在用於進行所述用電離輻射照射的固化步驟的區中的氮氣被排放到用於進行前一步驟的區中和/或用於進行後續步驟的區中。12、由權利要求l一4任一項所述的方法製備的抗反射薄膜。13、如權利要求12所述的抗反射薄膜，其中所述低折射率層通過包含用下式1表示的含氟聚合物的塗布溶液來形成式h[化學式1]如F2-F"^+CH2，H+如+:CF3IffX其中L表示具有1一10的碳數的連接基團，m表示0或l，X表示氫原子或甲基，A表示任意單體的聚合單元，且可以包括單一組分或多種組分，並且x、y和z表示相應組成成分的mo1。/。，分別表示滿足3(KxS60、5Sy《70和0Sz^65的值。14、如權利要求12所述的抗反射薄膜，其中所述低折射率層包括中空的二氧化矽細顆粒。15、偏振片，其包括如權利要求12所述的抗反射薄膜作為所述偏振片的兩個保護膜中的至少任何一個保護膜。16、圖像顯示裝置，包括在該顯示裝置的最外表面上的如權利要求12所述的抗反射薄膜位17、圖像顯示裝置，包括在該顯示裝置的最外表面上的如權利要求15所述的偏振片。全文摘要本發明的目的是提供具有優異的抗劃傷性，同時具有足夠高的抗反射性能的抗反射薄膜的製備方法，通過該製備方法獲得的抗反射薄膜以及各自包括這種抗反射薄膜的偏振片和圖像顯示裝置。用於製備包括透明基底、在該透明基底上包括至少一層的抗反射層的抗反射薄膜的方法，該製備方法包括用含有以下步驟(1)和(2)的層形成方法在所述透明基底上形成至少一層(1)在透明基底上施塗塗層的步驟，和(2)在氧濃度低於空氣中的氧濃度的氣氛中通過照射電離輻射來固化所述塗層的步驟。文檔編號B32B27/30GK101320100SQ2008101288公開日2008年12月10日申請日期2005年3月23日優先權日2004年3月26日發明者大谷薰明,福重裕一申請人:富士膠片株式會社