光學用陶瓷材料的熱處理裝置、光學用陶瓷材料的熱處理方法、合成石英玻璃的熱處理方...的製作方法

2023-08-09 22:02:26

光學用陶瓷材料的熱處理裝置、光學用陶瓷材料的熱處理方法、合成石英玻璃的熱處理方 ...的製作方法
【專利摘要】本發明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置具有：爐體，在內部收納應進行熱處理的光學用陶瓷材料；降溫控制加熱器，在使應進行熱處理的光學用陶瓷材料降溫時發熱，以控制降溫速度；冷媒導入部，導入冷媒，以使冷媒在爐體的內部流動；和控制部，用來控制降溫速度；降溫控制加熱器配置在爐體的內部或/及所述冷媒導入部，控制部控制降溫控制加熱器的發熱量、和爐體內部的冷媒的流量中的至少一者，且以將應進行熱處理的光學用陶瓷材料或其附近的降溫速度保持為預先決定的模式的方式進行控制。
【專利說明】光學用陶瓷材料的熱處理裝置、光學用陶瓷材料的熱處理方法、合成石英玻璃的熱處理方法、光學系統的製造方法、及曝光裝置的製造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種光學用陶瓷材料的熱處理裝置、光學用陶瓷材料的熱處理方法、合成石英玻璃的熱處理方法、光學系統的製造方法及曝光裝置的製造方法。
【背景技術】
[0002]構成曝光裝置的光學系統的光學要素中所使用的合成石英玻璃或氟化鈣、氟化鋇等光學用陶瓷材料隨著曝光裝置的光源的短波長化不斷發展，而要求非常高的透光率。這種需要高透光率的光學用陶瓷材料是使用經化學合成的高純度的原料而製造。
[0003]但是，因為在所製造的光學用陶瓷材料的內部，殘留著來源於製造時的熱歷程的各種應力，所以，為了降低該應力，而進行稱為退火處理的熱處理，從而使殘留應力下降，使折射率的均勻性提升，並且使雙折射降低(參照專利文獻I)。
[0004]【背景技術】文獻
[0005]專利文獻
[0006]專利文獻1:日本專利特開2005-22921號公報
【發明內容】

[0007][發明所要解決的問題]
[0008]如果以雙折射相互抵消的方式組合對如上所述的光學用陶瓷材料進行加工所得的多個光學要素，來構成曝光裝置的光學系統，則可降低光學系統整體的雙折射。但是，為了以此方式構成光學系統，需要具有大雙折射的光學要素(透鏡等)，作為這種光學要素的材料，需要具有大雙折射的光學用陶瓷材料。
[0009]本發明人發現為了獲得具有所期望的雙折射的光學用陶瓷材料，必須在對光學用陶瓷材料進行熱處理時，將降溫速度保持為預先決定的模式，而完成本發明。也就是，本發明的目的在於提供一種光學用陶瓷材料的熱處理裝置及光學用陶瓷材料的熱處理方法，可製造具有大雙折射值、且相對於所設定的雙折射值的誤差小的光學用陶瓷材料。
[0010]而且，本發明的目的在於提供一種合成石英玻璃的熱處理方法，可製造具有大雙折射值、且相對於所設定的雙折射值的誤差小的合成石英玻璃。
[0011]而且，本發明的目的在於提供一種光學系統的製造方法，其使用對利用所述合成石英玻璃的熱處理方法製造的合成石英玻璃材料進行加工所得的光學要素。
[0012]而且，本發明的目的在於提供一種曝光裝置的製造方法，其利用所述光學系統的製造方法，製造並組裝照明光學系統及/或投影光學系統，而構成曝光裝置。
[0013][解決問題的技術手段]
[0014]為了解決所述課題，根據本發明的第一形態，光學用陶瓷材料的熱處理裝置具有:爐體，在內部收納應進行熱處理的光學用陶瓷材料；降溫控制加熱器，在使應進行熱處理的光學用陶瓷材料降溫時發熱，以控制降溫速度；冷媒導入部，導入冷媒，以使冷媒在爐體的內部流動；和控制部，用來控制降溫速度；降溫控制加熱器配置在爐體的內部或/及冷媒導入部，控制部控制降溫控制加熱器的發熱量、和爐體內部的冷媒的流量中的至少一者，且以將應進行熱處理的光學用陶瓷材料或其附近的降溫速度保持為預先決定的模式的方式進行控制。
[0015]根據本發明的第二形態，在第一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選控制部控制降溫控制加熱器的發熱量、和爐體內部的冷媒的流量這兩者。
[0016]根據本發明的第三形態，在第一或第二形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選還包括控制爐體內部的冷媒的流量的流量控制部。
[0017]根據本發明的第四形態，在第一至第三形態中任一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選降溫控制加熱器設置在所述爐體的內部，且也用作使應進行熱處理的光學用陶瓷材料升溫時的升溫加熱器。
[0018]根據本發明 的第五形態，在第一至第三形態中任一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選降溫控制加熱器由所述冷媒導入部所具備，在爐體內設置有使應進行熱處理的光學用陶瓷材料升溫時的升溫加熱器。
[0019]根據本發明的第六形態，在第一至第三形態中任一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選爐體由在鉛垂方向或水平方向上相鄰配置的第一爐體與第二爐體構成，降溫控制加熱器設置在第二爐體的內部，冷媒導入部設置在所述第二爐體，升溫加熱器設置在所述第一爐體的內部，在第一爐體的內部，設置有使應進行熱處理的光學用陶瓷材料升溫時的加熱器。
[0020]根據本發明的第七形態，在第五形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選爐體由在鉛垂方向或水平方向上相鄰配置的第一爐體與第二爐體構成，冷媒導入部設置在第二爐體，升溫加熱器設置在第一爐體的內部。
[0021]根據本發明的第八形態，在第一至第五形態中任一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選還包括將爐體的內部隔成內側空間與外側空間的壁部，應進行熱處理的光學用陶瓷材料配置在內側空間。
[0022]根據本發明的第九形態，在第六或第七形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選還包括將第二爐體的內部隔成內側空間與外側空間的壁部，應進行熱處理的光學用陶瓷材料配置在內側空間。
[0023]根據本發明的第十形態，在第八或第九形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選降溫控制加熱器配置在所述內側空間。
[0024]根據本發明的第i^一形態，在第八或第九形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選壁部沿大致鉛垂方向延伸。
[0025]根據本發明的第十二形態，在第一至第i^一形態中任一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選冷媒是空氣、氮氣、或惰性氣體中的I種或混合2種以上而成。
[0026]根據本發明的第十三形態，在第一至第i^一形態中任一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選冷媒為液體。
[0027]根據本發明的第十四形態，在第八或第九形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選冷媒導入部配置在所述爐體的下部。[0028]根據本發明的第十五形態，在第一至第十四形態中任一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選光學用陶瓷材料為非晶質材料或單晶材料。
[0029]根據本發明的第十六形態，在第十五形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，優選非晶質材料為合成石英玻璃。
[0030]根據本發明的第十七形態，光學用陶瓷材料的熱處理方法使用第一至第十四形態中任一形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，將應進行熱處理的光學用陶瓷材料加熱至第一溫度範圍的規定溫度並保持規定時間後，以比規定的降溫速度大的降溫速度進行冷卻，由此進行熱處理。
[0031]根據本發明的第十八形態，合成石英玻璃的熱處理方法使用第十六形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，將應進行熱處理的合成石英玻璃加熱至1000?1200°C之間的規定溫度並保持規定時間後，以大於70°C /小時的降溫速度進行冷卻，由此進行熱處理。
[0032]根據本發明的第十九形態，在第十八形態的合成石英玻璃的熱處理方法中，優選經熱處理的合成石英玻璃的雙折射的最大值大於5nm/cm。
[0033]根據本發明的第二十形態，光學系統的製造方法利用第十九形態的合成石英玻璃的熱處理方法，獲得雙折射的最大值大於5nm/cm的合成石英玻璃，加工該合成石英玻璃而形成光學要素，從而構成由包含該光學要素的多個光學要素構成的光學系統。
[0034]根據本發明的第二i^一形態，曝光裝置的製造方法製造利用第二十形態的光學系統的製造方法製造的照明光學系統及/或投影光學系統，組裝該照明光學系統及/或投影光學系統，而構成曝光裝置。
[0035][發明的效果]
[0036]根據本發明，可提供一種能夠以將應進行熱處理的光學用陶瓷材料或其附近的降溫速度保持為預先決定的 模式的方式進行控制的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，通過使用該光學用陶瓷材料的熱處理裝置進行熱處理，可製造具有大雙折射值、且相對於所設定的雙折射值的誤差小的光學用陶瓷材料。而且，通過使用進行所述熱處理後的光學用陶瓷材料，製造光學系統及曝光裝置，可製造具有更優異的性能的光學系統及曝光裝置。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0037]圖1是表示本發明的實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置的剖視圖。
[0038]圖2是圖1的A-A剖視圖。
[0039]圖3是本發明的實施方式1-2的光學用陶瓷材料的熱處理裝置的剖視圖。
[0040]圖4是本發明的實施方式1-3的光學用陶瓷材料的熱處理裝置的剖視圖。
[0041]圖5是表示本發明的實施方式1-3的光學用陶瓷材料的熱處理裝置的其他構成形態的剖視圖。
[0042]圖6是本發明的實施方式1-4的光學用陶瓷材料的熱處理裝置的剖視圖。
[0043]圖7是本發明的實施方式1-5的光學用陶瓷材料的熱處理裝置的剖視圖。
[0044]圖8是表示本發明的實施方式1-5的光學用陶瓷材料的熱處理裝置的其他構成形態的剖視圖。
[0045]圖9是表示本發明的第三實施方式的曝光裝置的光學系統的概略構成圖。
[0046]圖10是表示本發明的第二實施方式的合成石英玻璃的熱處理方法中的合成石英玻璃塊S附近的溫度變化的實際測量值的曲線。
【具體實施方式】
[0047][第一實施方式:熱處理裝置]
[0048]以下，參照附圖對用來實施本發明的第一實施方式進行說明。另外，將要被熱處理的光學用陶瓷材料作為合成石英玻璃來說明，不過除合成石英玻璃以外的光學用陶瓷材料也相同。
[0049](實施方式1-1)
[0050]圖1是本發明的實施方式1-1的熱處理裝置100的剖視圖。圖2是圖1的A-A剖視圖。
[0051]本發明的實施方式1-1的熱處理裝置100是加熱利用氣相合成法製造的合成石英玻璃塊S，且保持為規定溫度後，以比規定的降溫速度大的降溫速度進行急冷，而進行熱處理。由此，製造具有大雙折射的合成石英玻璃塊S。
[0052]如圖1和圖2所示，熱處理裝置100具有外壁由不鏽鋼板等構成的大致圓筒形狀的爐體101。爐體101的內壁的大致整個面被由氧化鋁耐火磚構成的隔熱材料102所覆蓋，從而爐體101內部的溫度不易受到爐體101外部的溫度的影響。另外，作為第一實施方式的熱處理裝置，以爐體101的內徑約為Im的熱處理裝置為例進行說明。
[0053]在熱處理裝置100中，設置有用來將合成石英玻璃塊S配置在爐體101內部的耐火磚制平臺105和石英玻璃制環形夾具106。而且，在平臺105的下方，配置有具有旋轉機構121和升降機構126的平臺移動裝置120。根據這種構成，設置在平臺105上的環形夾具106上載置的應進行熱處理的合成石英玻璃塊S可以配置在爐體101的內部的大致中央部。
[0054]平臺移動裝置120中的旋轉機構121在進行熱處理時使合成石英玻璃塊S旋轉。該旋轉機構121具有旋轉的軸部122、固定在該軸部122的第一圓錐齒輪123、與第一圓錐齒輪123嚙合的第二圓錐齒輪124、和用來使第二圓錐齒輪124旋轉的馬達125。軸部122固定在平臺105的下部，向下方延伸，且與平臺105—起旋轉。如果馬達125的軸旋轉，則經由第二圓錐齒輪124和第一圓錐齒輪123，而軸部122與平臺105—體地旋轉，由此，配置在平臺105上的合成石英玻璃塊S旋轉。
[0055]在平臺移動裝置120中，升降機構126由連結機構所構成，在爐體101的外部下方，使平臺105上的環形夾具106上載置的合成石英玻璃塊S上升至爐體101的內部，而且，使熱處理結束的合成石英玻璃塊S下降至爐體101的下方外側。
[0056]在爐體101的內部，配置有用來使合成石英玻璃塊S升溫的升溫加熱器107。在實施方式1-1的熱處理裝置中，升溫加熱器107也作為用來控制使合成石英玻璃塊S降溫時的降溫速度的降溫控制加熱器117發揮功能。在實施方式1-1的熱處理裝置中，使用SiC加熱器作為升溫加熱器107和降溫控制加熱器。如圖2所示，SiC加熱器是在與爐體101共有同一中心的假想的圓筒面上，以等間隔配置有8個。
[0057]在爐體101的下方，設置有冷媒導入部130，用來將空氣(外部氣體)、氮氣、或惰性氣體、或者它們的混合物等冷媒導入至爐體101的內部空間。該冷媒導入部130將冷媒從熱處理裝置100的外部或冷媒保存槽(省略圖示)等，經由冷媒導入開閉閥131而導入至爐體101的內部空間。冷媒例如像圖1中以箭頭R所示那樣在爐體101的內部流動。冷媒的導入量可通過調整冷媒導入開閉閥131的開度來控制。另外，在本發明的實施方式1-1中，如圖2所示，為了從熱處理裝置100的外部導入作為冷媒的外部氣體，而在爐體101下部的與爐體101共有同一中心的假想的圓周上，等間隔地配置有4個冷媒導入部130。
[0058]從冷媒導入部130導入的冷媒在爐體101的內部流到上方後，從設置在爐體101的上部的冷媒排出口 108排出至爐體101的外部。在從爐體101的內部通向冷媒排出口 108的流路中，設置有固定在可上下移動的棒狀構件110的下方前端部的冷媒排出開閉閥109，可通過該冷媒排出開閉閥109的開度調整冷媒的排出量。當冷媒排出開閉閥109成為打開狀態時，沿圖1所示的箭頭R排出冷媒。在本發明的實施方式1-1的熱處理裝置中，通過連動地控制冷媒導入開閉閥131和冷媒排出開閉閥109，來調整在爐體101內部流動的冷媒的流量。
[0059]在熱處理裝置100中，設置有用來檢測合成石英玻璃塊S附近的溫度的熱電偶104。熱電偶104的前端以到達配置在爐體101內部的合成石英玻璃塊S附近的方式配置。熱處理裝置100在爐體101的外部具有控制部140，該控制部140具有用來控制在爐體101內部流動的冷媒的流量的流量控制部141、和控制降溫控制加熱器117的發熱量的發熱控制部142。控制部140根據由熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度，將控制信號輸出至流量控制部141和發熱控制部142中的至少一者。根據該控制信號，來調節冷媒導入開閉閥131及/或冷媒排出開閉閥109的開度(即冷媒的流量)、和降溫控制加熱器117的發熱量中的至少一者，由此，將合成石英玻璃塊S的降溫速度保持為預先決定的模式。
[0060]另外，為了更正確地控制合成石英玻璃塊S的降溫速度，更優選的是控制部140 —起控制流量控制部141和發熱控制部142，同時調節冷媒的流量和降溫控制加熱器117的發熱量。
[0061](實施方式1-2).
[0062]接下來，參照附圖對本發明的實施方式1-2的光學用陶瓷材料的熱處理裝置進行說明。圖3是本發明的實施方式1-2的光學用陶瓷材料的熱處理裝置200的剖視圖。另外，對與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100相同的構成，使用與圖1中使用的編號相同的編號。
[0063]光學用陶瓷材料的熱處理裝置200與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100相比，不同的是在底壁設置有壁部203，該壁部203以將爐體201的內部隔成內側空間211與外側空間212的方式沿鉛垂方向延伸。壁部203的高度約為100mm，且由包含石英玻璃纖維等的玻璃纖維耐火物構成。內側空間211與外側空間212在壁部203的上方相互相通。而且，經過壁部203，而在內側空間211與外側空間212之間傳遞熱。
[0064]合成石英玻璃塊S載置在平臺105上的環形夾具105上，通過平臺移動裝置120而可以配置在爐體201內部的內側空間211的大致中央部。在內側空間211的內側，用來使合成石英玻璃塊S升溫的升溫加熱器107在與爐體201共有同一中心的假想的圓筒面上，以等間隔配置有8個。與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100同樣地，升溫加熱器107也作為用來控制使合成石英玻璃降溫時的降溫速度的降溫控制加熱器117發揮功能。
[0065]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置200中，與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100同樣地，冷媒導入部130也是在外部空間212的下方，在與爐體201共有同一中心的假想的圓周上，以等間隔設有4個。將空氣(外部氣體)、氮氣、惰性氣體、或者它們的混合物等冷媒從這些冷媒導入部130導入至爐體201的內部。
[0066]由冷媒導入部130導入至爐體201內部的冷媒在外部空間212流動，且從設置在爐體201上方的冷媒排出口 108排出。冷媒的導入量的調整方法與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100中的方法相同。
[0067]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置200中設置有熱電偶104。熱電偶104的前端以到達配置在爐體101內部的內側空間211內的合成石英玻璃塊S附近的方式配置。
[0068]光學用陶瓷材料的熱處理裝置200也與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100同樣地，具有控制部140，該控制部140具有用來控制在爐體201的內部流動的冷媒的流量的流量控制部141、和控制降溫控制加熱器117的發熱量的發熱控制部142。控制部140根據由熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度，將控制信號輸出至流量控制部141和發熱控制部142中的至少一者。根據該控制信號，來調節冷媒導入開閉閥131及/或冷媒排出開閉閥109的開度(即冷媒的流量)、和降溫控制加熱器117的發熱量中的至少一者，由此，將合成石英玻璃塊S的降溫速度保持為預先決定的模式。
[0069]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置200中，通過設置壁部203，從冷媒導入部130導入的冷媒不會直接接觸於合成石英玻璃塊S。合成石英玻璃塊S的熱經過內側空間211而傳遞至壁部203，進一步經過壁部203的內部而傳遞至外側空間212，且利用冷媒而排出至爐體201的外部。通過這種作用，能夠更正確地進行合成石英玻璃塊S的降溫控制。
[0070]另外，為了進一步正確地控制合成石英玻璃塊S的降溫速度，優選控制部140 —起控制流量控制部141和發熱控制部142，也就是，同時調節冷媒的流量和降溫控制加熱器117的發熱量。
`[0071](實施方式1-3)
[0072]接下來，參照附圖對本發明的實施方式1-3的光學用陶瓷材料的熱處理裝置的實施例進行說明。圖4是本發明的實施方式1-3的光學用陶瓷材料的熱處理裝置300的剖視圖。另外，對與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100相同的構成，使用與圖1中使用的編號相同的編號。
[0073]光學用陶瓷材料的熱處理裝置300與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100相比，不同的是導入冷媒的冷媒導入部具有降溫控制加熱器117。因此，在光學用陶瓷材料的熱處理裝置300中，升溫加熱器107僅在合成石英玻璃升溫時發揮功能，在降溫時不發揮功能。也就是，升溫加熱器107不作為降溫控制加熱器發揮功能。
[0074]合成石英玻璃塊S載置在平臺105上的環形夾具105上，通過平臺移動裝置120而可以配置在爐體301內部的大致中央部。在爐體301的內側，用來使合成石英玻璃塊S升溫的升溫加熱器107在與爐體301共有同一中心的假想的圓筒面上，以等間隔配置有8個。
[0075]冷媒導入部130是在爐體301的下方，在與爐體301共有同一中心的假想的圓周上，以等間隔設有4個。如上所述，冷媒導入部130具備降溫控制加熱器117。在實施方式1-3的光學用陶瓷材料的熱處理裝置300中，降溫控制加熱器117是設置在冷媒導入開閉閥131的上遊側，不過降溫控制加熱器117的位置只要為爐體301的上遊側即可。例如降溫控制加熱器117的位置也可為冷媒導入開閉閥131與爐體301之間。將空氣(外部氣體)、氮氣、惰性氣體、或者它們的混合物等冷媒從冷媒導入部130導入至爐體301的內部，這時，冷媒是經降溫控制加熱器117加熱後被導入至爐體301的內部。另外，冷媒的導入量的調整方法與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100中的方法相同。
[0076]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置300中設置有熱電偶104。熱電偶104的前端以到達合成石英玻璃塊S附近的方式配置。
[0077]光學用陶瓷材料的熱處理裝置300具有控制部340，該控制部340具有控制升溫加熱器107的發熱量的升溫時發熱控制部343、用來控制在爐體301的內部流動的冷媒的流量的流量控制部341、和控制降溫控制加熱器117的發熱量的降溫時發熱控制部342。控制部340根據由熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度，將控制信號輸出至流量控制部341和發熱控制部342中的至少一者。根據該控制信號，來調節冷媒導入開閉閥131及/或冷媒排出開閉閥109的開度(即冷媒的流量)、和降溫控制加熱器117的發熱量中的至少一者，由此，將合成石英玻璃塊S的降溫速度保持為預先決定的模式。
[0078]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置300中，通過控制用來控制合成石英玻璃塊S的降溫速度的冷媒的加熱和流量中的至少一者，而進行合成石英玻璃塊S的降溫控制。由此，可正確地進行合成石英玻璃塊S的降溫控制。
[0079]另外，為了更正確地控制合成石英玻璃塊S的降溫速度，優選控制部340 —起控制流量控制部341和發熱控制部342，也就是，同時控制冷媒的流量和加熱冷媒的降溫控制加熱器117的發熱量。
[0080]而且，也可為以下構成形態，也就是，在光學用陶瓷材料的熱處理裝置300的爐體302內部，設置有與實施方式1-2的光學用陶瓷材料的熱處理裝置200中的壁部203相同的壁部303。將該構成形態表示在圖5中。通過設為這種構成，可與實施方式1-2的光學用陶瓷材料的熱處理裝置200的情況同樣地，防止從冷媒導入部130導入的冷媒直接接觸於合成石英玻璃塊S，因此，可 更正確地進行合成石英玻璃塊S的降溫控制。
[0081](實施方式1-4)
[0082]接下來，參照附圖對本發明的實施方式1-4的光學用陶瓷材料的熱處理裝置進行說明。圖6是本發明的第一實施例中的第四構成形態的光學用陶瓷材料的熱處理裝置400的剖視圖。另外，對與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100相同的構成，使用與圖1中使用的編號相同的編號。
[0083]光學用陶瓷材料的熱處理裝置400是使用水作為冷媒。為此，在爐體401設置冷媒導入部430和冷媒排出部440，在爐體401的內部配置將冷媒導入部430與冷媒排出部440連接的配管450。冷媒從冷媒導入部430被導入，在爐體401內部的配管中流動後，從冷媒排出部440排出至爐體401的外部。在冷媒導入部430設置冷媒導入開閉閥431，通過冷媒導入開閉閥431的開度來調節冷媒的導入量。配管450的周圍由包含石英玻璃纖維等的玻璃纖維耐火物460覆蓋。冷媒導入部430和冷媒排出部440在爐體401的下部，在假想的圓周上以等間隔交替地各設有2個、共4個。
[0084]關於爐體401的除所述構成以外的構成與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100相同。也就是，爐體401的外壁由不鏽鋼板構成，內壁的大致整個面由氧化鋁耐火磚覆蓋。平臺移動機構120也與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100的平臺移動機構相同。[0085]合成石英玻璃塊S載置在平臺105上的環形夾具106上，通過平臺移動裝置120而可以配置在爐體401內部的大致中央部。在冷媒的配管450的內側，用來使石英玻璃升溫的升溫加熱器107在與爐體401共有同一中心的假想的圓筒面上，以等間隔配置有8個。與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100同樣地，升溫加熱器107也作為用來控制使合成石英玻璃塊S降溫時的降溫速度的降溫控制加熱器117發揮功能。
[0086]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置400中設置有熱電偶104。熱電偶104的前端以到達配置在爐體401內部的合成石英玻璃塊附近的方式配置。
[0087]光學用陶瓷材料的熱處理裝置400也與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100同樣地，具有控制部140，該控制部140具有用來控制在爐體401的內部流動的冷媒的流量的流量控制部141、和控制降溫控制加熱器117的發熱量的發熱控制部142。控制部140根據由熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度，將控制信號輸出至流量控制部141和發熱控 制部142中的至少一者。根據該控制信號，來調節冷媒導入開閉閥131的開度(即冷媒的流量)、和降溫控制加熱器117的發熱量中的至少一者，由此，將合成石英玻璃塊S的降溫速度保持為預先決定的模式。
[0088]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置400中，通過使用水作為冷媒，可高效地進行熱交換，從而正確地進行合成石英玻璃的降溫控制。作為冷媒，除了水以外，也可使用不燃性油、或者向水或不燃性油中混合適當的添加物所得的液體。
[0089]另外，為了更正確地控制合成石英玻璃塊S的降溫速度，優選控制部140 —起控制流量控制部141和發熱控制部142，也就是，同時調節冷媒的流量和降溫控制加熱器117的
發熱量。
[0090](實施方式1-5)
[0091]接下來，參照附圖對本發明的實施方式1-5的光學用陶瓷材料的熱處理裝置進行說明。圖7是本發明的實施方式1-5的光學用陶瓷材料的熱處理裝置500的剖視圖。另外，對與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100相同的構成，使用與圖1中使用的編號相同的編號。
[0092]光學用陶瓷材料的熱處理裝置500的爐體501由第一爐體511與第二爐體512構成。第一爐體511和第二爐體512在鉛垂方向上重合，它們之間由隔壁513隔開。在隔壁513設置有平臺可通過的可開閉的開口部。
[0093]在第一爐體501的內部，升溫加熱器107在與爐體501共有同一中心的假想的圓筒面上，以等間隔配置有8個。在第二爐體502的內部，降溫控制加熱器117在與爐體501共有同一中心的假想的圓筒面上，以等間隔配置有8個。
[0094]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置500中，冷媒導入部130在第二爐體502的下方，在與爐體501共有同一中心的假想的圓周上，以等間隔設有4個。將空氣(外部氣體)、氮氣、惰性氣體、或者它們的混合物等冷媒從這些冷媒導入部130導入至第二爐體502的內部。
[0095]由冷媒導入部130導入至第二爐體502的內部的冷媒在第二爐體502的內部流動，且從相對來說設置在第二爐體502上部的冷媒排出口 108排出。冷媒的導入量的調整方法與實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100中的方法相同。
[0096]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置500中，在第一爐體501和第二爐體502，分別設置有熱電偶104。熱電偶104的前端分別以到達配置在第一爐體501和第二爐體501的內部時的合成石英玻璃塊S附近的方式配置。
[0097]光學用陶瓷材料的熱處理裝置500具有控制部540，該控制部540具有控制設置在第一爐體中的升溫加熱器107的發熱量的升溫時發熱控制部543、用來控制在第二爐體502的內部流動的冷媒的流量的流量控制部541、和控制設置在第二爐體502中的降溫控制加熱器117的發熱量的降溫時發熱控制部542。根據由設置在第二爐體502的熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度，控制部540將控制信號輸出至流量控制部541和降溫時發熱控制部542中的至少一者，根據該控制信號，調節冷媒的流量和降溫控制加熱器117的發熱量中的至少一者，由此，將合成石英玻璃塊S的降溫速度保持為預先決定的模式。
[0098]在光學用陶瓷材料的熱處理裝置500中，在使合成石英玻璃塊S升溫且保持為規定溫度的情況下，將應進行熱處理的合成石英玻璃配置在第一爐體501的內部，利用升溫時發熱控制部543來控制溫度。而且，在使合成石英玻璃塊S以比規定的降溫速度大的降溫速度降溫的情況下，使應進行熱處理的合成石英玻璃塊S從第一爐體501移動至第二爐體502，利用流量控制部541和降溫時發熱控制部542中的至少一者進行控制。也就是，通過調節冷媒的流量和降溫控制加熱器117的發熱量中的至少一者，而將合成石英玻璃塊S的降溫速度保持為預先決定的模式。通過這種作用，可更正確地進行合成石英玻璃塊S的降溫控制。
[0099]另外，為了更正確地控制合成石英玻璃塊S的降溫速度，優選控制部540 —起控制流量控制部541和發熱控制部542，也就是，同時調節冷媒的流量和降溫控制加熱器117的
發熱量。
[0100]而且，也可為以下構成形態，也就是，在光學用陶瓷材料的熱處理裝置500的第二爐體502的內部，設置有與實施方式1-2的壁部203相同的壁部503。將該構成形態表示在圖8中。通過設為這種構成，可與實施方式1-2的光學用陶瓷材料的熱處理裝置200的情況同樣地，防止從冷媒導入部130導入的冷媒直接接觸於合成石英玻璃塊S，因此，可更正確地進行合成石英玻璃塊S的降溫控制。
[0101][第二實施方式:合成石英玻璃的熱處理方法]
[0102]接下來，對用來實施本發明的第二實施方式進行說明。
[0103]本實施方式中是使用實施方式1-1的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100。利用平臺移動裝置120的升降機構126，使平臺105下降至爐體101的下方外部。接下來，將作為應進行熱處理的光學用陶瓷材料的合成石英玻璃塊S安裝至平臺105上的環形夾具106上。
[0104]接下來，利用升降機構126使平臺105上升，而將合成石英玻璃塊S收納在爐體101內部。在該狀態下，利用旋轉機構121使平臺105旋轉，而使合成石英玻璃塊S旋轉。在該狀態下，一邊根據由熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度，控制升溫加熱器107的發熱量，一邊加熱合成石英玻璃塊S，使石英玻璃附近的溫度升溫至比合成石英玻璃的應變點高的1100°C?1200°C之間的規定溫度(第二實施例中為1100°C)，在該狀態下保持固定時間。另外，為了提高保溫性，在升溫和保持步驟中，預先設定成冷媒導入開閉閥131和冷媒排出開閉閥109關閉的狀態。也就是，冷媒未導入至爐體101的內部。
[0105]在1100°C下保持固定時間後，轉移至冷卻步驟。在冷卻步驟中，根據由熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度，控制冷媒的流量和降溫控制加熱器117的發熱量中的至少任一者，由此，一邊將降溫溫度保持為預先決定的模式，一邊將合成石英玻璃塊S的降溫速度保持為預先決定的模式。在冷卻步驟中，打開冷媒導入開閉閥131和冷媒排出開閉閥109，而將冷媒從冷媒導入部130導入至爐體101內。導入至爐體101內的冷媒在爐體101的內部從下方流動至上方，且從冷媒排出口 108排出。由此，通過降低爐體101內部的溫度，而冷卻合成石英玻璃塊S。另外，在第二實施方式中，利用控制部140的流量控制部141和發熱控制部142，以在1100°C至700°C的溫度範圍內，一邊將降溫速度維持為70°C /小時以上一邊進行冷卻的方式進行控制。
[0106]在所述冷卻步驟中，通過同時進行發熱控制部142對降溫控制加熱器117的發熱量的控制和流量控制部141對冷媒的流量控制，可進一步高精度地控制合成石英玻璃塊S附近的降溫速度。另外，升溫加熱器107兼用作降溫時進行輸出控制的降溫控制加熱器117。
[0107]接下來說明具體的降溫速度的控制。根據預先決定的降溫速度模式，預先使控制部140存儲每規定時間的設定溫度，與在該每規定時間內由熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度進行對比，在檢測到的溫度高於設定溫度的情況下，控制部140選擇性地進行以下(I)?(3)中的任一控制。
[0108](I)發熱控制部142以降低降溫控制加熱器117的輸出的方式進行控制，流量控制部141以增加冷媒的流量的方式進行控制。(2)流量控制部141以將冷媒的流量保持為固定的方式進行控制，發熱控制部142以降低降溫控制加熱器117的輸出的方式進行控制。
(3)發熱控制部142以將降溫控制加熱器117的輸出保持為固定的方式進行控制，流量控制部141以增加冷媒的流量的方式進行控制。
[0109]另一方面，在檢測到的溫度低於設定溫度的情況下，控制部140選擇性地進行以下(4)?(6)中的任一控制。
[0110](4)發熱控制部142以提高降溫控制加熱器117的輸出的方式進行控制，流量控制部141以減少冷媒的流量的方式 進行控制。(5)流量控制部141以將冷媒的流量保持為固定的方式進行控制，發熱控制部142以提高降溫控制加熱器117的輸出的方式進行調整。(6)發熱控制部142以將降溫控制加熱器117的輸出保持為固定的方式進行控制，流量控制部141以減少冷媒的流量的方式進行控制。
[0111]冷卻步驟結束後，使利用旋轉機構121實現的平臺105的旋轉停止，利用升降機構126使平臺105下降，而從爐體101的下方取出合成石英玻璃塊S。通過以上步驟，而獲得雙折射的最大值為5nm/cm以上的合成石英玻璃塊S。
[0112]利用除實施方式1-1以外的實施方式1-2?1-5的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，也可與所述同樣地，一邊將降溫溫度保持為預先決定的模式，一邊進行合成石英玻璃塊S的熱處理。例如可在1100°C至700°C的溫度範圍內，以一邊將降溫速度維持為70°C /小時以上一邊進行冷卻的方式進行控制，而對合成石英玻璃塊進行熱處理。由此，獲得雙折射值的最大值大於5nm/cm的合成石英玻璃塊S。
[0113][第三實施方式:光學系統的製造方法及曝光裝置的製造方法]
[0114]對通過使用設為第二實施方式來說明的合成石英玻璃的熱處理方法所獲得的合成石英玻璃塊S，適當進行研削加工、切片加工、倒角加工、研磨加工等加工，以獲得規定尺寸的透鏡。以此方式製造的透鏡的雙折射最大值大於5nm/cm。
[0115]利用圖9對組合雙折射最大值大的透鏡和雙折射最大值小的透鏡來製造曝光裝置的光學系統的方法進行說明。圖9表示曝光裝置的構成。透鏡31的雙折射大，且與除透鏡31以外的雙折射相對較小的透鏡組合，而構成投影光學系統30，這時，考慮各透鏡的雙折射的方向和大小，以抵消雙折射的方式進行組合。其結果，可降低投影光學系統30整體的雙折射。組裝以此方式構成的投影光學系統30，而製造曝光裝置10。
[0116]接下來，對雙折射的抵消具體地進行說明。求出多個光學要素的帶符號的雙折射值的分布，該多個光學要素包含對經本發明的第二實施方式的合成石英玻璃的熱處理方法熱處理過的合成石英玻璃進行加工所得的光學要素。根據這些值，算出光學系統整體的帶符號的雙折射的分布，以不超過規定值的方式決定各光學要素的帶符號的雙折射值的分布和各光學要素的組合，而構成曝光裝置的投影光學系統。作為這種投影光學系統及曝光裝置的製造方法，例如可採用國際公開00/041226號說明書中所記載的方法。
[0117]以下，利用圖9，對具備利用所述光學系統的製造方法製造的投影光學系統30的曝光裝置10的概要進行說明。
[0118]如圖9所示，本實施方式中的曝光裝置10是對晶片曝光遮罩20的圖案的裝置，且具有光源11、光束擴展器(beam expander) 12、摺疊式反射鏡(folding mirror) 13、衍射光學元件14、遠焦變倍透鏡(afocal zoom lens)15、衍射光學元件16、變焦透鏡(zoom lens)
17、積分器光學系統18、聚光光學系統19、遮罩20、投影光學系統30、光學基材3等。
[0119]在這種曝光裝置10中，投影光學系統30承擔以下作用:使透過遮罩20的圖案的光束聚光，而將遮罩圖案的影像形成在晶片3上。通過一邊在與投影光學系統30的光軸AX正交的平面(XY平面)內，二維地對晶片3進行驅動控制，一邊對晶片3 —次性地進行遮罩圖案的影像的曝光或掃描曝光，而將遮罩20的圖案轉印至晶片3上的曝光區域。
[0120]像以上所說明那樣，根據本發明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置、光學用陶瓷材料的熱處理方法、和合成石英玻璃的熱處理方法，可控制降溫控制加熱器的發熱量、和爐體內部的冷媒的流量中的 至少一者，從而更正確地進行應進行熱處理的光學用陶瓷材料或其附近的降溫控制的控制。
[0121]通過使用利用以上所說明的裝置及方法獲得的合成石英玻璃等光學用陶瓷材料，來製造光學系統30和曝光裝置10，可製造具有更優異的性能的光學系統30和曝光裝置10。
[0122]所述說明是關於曝光裝置的投影光學系統的製造方法、和使用該投影光學系統的製造方法的曝光裝置的製造方法，不過本發明的第三實施例的光學系統的製造方法並不限於投影光學系統，也可應用於照明光學系統。照明光學系統在曝光裝置10中是光源11與遮罩20之間的光學系統。近年來，伴隨光源的短波長化，有時使用氟化鈣單晶作為構成照明光學系統的透鏡等光學要素的材料。以氟化鈣單晶為材料的透鏡具有帶規定符號的雙折射。因為利用本發明的第二實施方式的合成石英玻璃的熱處理方法製造的合成石英玻璃成為與氟化鈣單晶所具有的雙折射不同的符號，所以可通過將它們加以組合，來抵消雙折射。通過以此方式構成照明光學系統，且組裝至曝光裝置，可使曝光裝置的性能提升。
[0123]以上所說明的實施方式是為了容易理解本發明而敘述的，並不限定本發明。
[0124]所述實施方式中，作為光學用陶瓷材料，以合成石英玻璃為例進行了說明，不過該合成石英玻璃中，也包含摻雜有氟的合成石英玻璃等實施規定處理後的合成石英玻璃。
[0125]而且，在本發明中將要進行熱處理的光學用陶瓷材料既可為除合成石英玻璃以外的非晶質材料，也可為單晶材料。作為它們的例子，除了一般的光學玻璃以外，還可列舉氟化隹丐、氣化鎖、監寶石、各種立方晶黑石花崗巖(Granitite )、立方晶尖晶石、立方晶I丐欽礦
坐寸O
[0126]而且，設為本發明的第一實施方式來說明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置是爐體為大致圓筒形狀，不過本發明的熱處理裝置並不限定於此，也可為長方體等其他形狀的爐體。
[0127]而且，在設為實施方式1-2來說明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，將爐體的內部隔成內側空間與外側空間的壁部由包含石英玻璃纖維等的玻璃纖維耐火物構成，不過本發明並不限定於此，壁部也可由其他耐火物構成。
[0128]而且，在設為本發明的第一實施方式來說明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，使用SiC加熱器作為升溫加熱器和降溫控制加熱器，不過本發明並不限定於此，也可使用其他種類的加熱器。
[0129]而且，在設為本發明的第一實施方式來說明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，配置在爐體的內部的升溫加熱器和降溫控制加熱器是在與爐體共有同一中心的假想的圓筒面上等間隔地配置，不過本發明並不限定於此，在適用的位置配置適當的數量即可。而且，在設為本發明的實施方式1-2來說明的具有壁部這一類型的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，升溫加熱器及/或降溫控制加熱器也可配置在外側空間而不是內側空間。
[0130]而且，在設為本發明的第一實施方式來說明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，冷媒導入部是配置在爐體的下方，不過冷媒導入部的位置並無限定。例如冷媒導入部也可位於爐體的一側或上方，配合著這種情況，冷媒排出口 108也可配置在爐體的側面等。而且，爐體既可為密閉型，或者也可為爐體未密閉且可從爐體的間隙排出冷媒的類型。未密閉的類型也可為未設置冷媒排出口.的構成。
[0131]而且，在本發明的實施方式1-2中，壁部是構成為固定在底壁，且不留間隙地覆蓋內側空間，且為內側空間與外側空間在壁部的上方相通的構成。但是，本發明並不限定於此，壁部也可具有間隙。而且，也可為利用壁部將內側空間與外側空間完全分離的構成。
[0132]而且，在設為本發明的第一實施方式來說明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，在使用氮氣或惰性氣體的情況下，成為伴有將冷媒從冷媒保存槽等供給至爐體內部的配管的構成。
[0133]而且，在設為本發明的第一實施方式來說明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置中，使用熱電偶作為溫度檢測用的傳感器，不過本發明並不限定於此，只要為可根據各種條件，直接或間接地檢測應進行熱處理的光學用陶瓷材料的溫度的溫度傳感器即可。
[0134](實施方式2-1)
[0135]以下，對使用圖1所示的設為本發明的實施方式1-1來說明的光學用陶瓷材料的熱處理裝置100進行的合成石英玻璃的熱處理方法的實施例進行說明。
[0136]首先，在石英玻璃制的環形夾具106上放置應進行熱處理的合成石英玻璃塊S，花費12小時使合成石英玻璃塊S升溫至1100°C後，在1100°C下保持10小時。接下來，同時打開冷媒排出開閉閥109和冷媒導入開閉閥131，一邊將作為冷媒的空氣從爐體101的外部導入至內部，一邊開始利用控制部140控制降溫速度。也就是，以成為預先設定的固定的降溫速度的方式，控制降溫控制加熱器117的發熱量和爐體內部的冷媒的流量。導入至爐體101內部的空氣從下方流動至上方，且從冷媒排出口 108連續排出。利用熱電偶獲得的合成石英玻璃塊S附近的檢測溫度剛成為700°C時，停止控制部140的控制，冷卻至利用熱電偶獲得的合成石英玻璃塊S附近的檢測溫度成為大致室溫為止，之後，從爐體101中取出合成石英玻璃塊S。
[0137]關於降溫速度的控制，像已說明的那樣，根據預先決定的降溫速度模式，預先使控制部140存儲每規定時間的設定溫度，與在該每規定時間內由熱電偶104檢測到的合成石英玻璃塊S附近的溫度進行對比，而進行控制。理想的是將由熱電偶104檢測到的溫度控制在相對於每規定時間的設定溫度為±5°C的範圍內。
[0138]圖10是實施方式2-1中 的降溫時的合成石英玻璃塊S附近的溫度變化的實際測量值。(A)表示將降溫速度設定為100°C /小時的情況下的結果，(B)表示將降溫速度設定為300°C /小時的情況下的結果。判斷出在任一降溫速度的情況下，在對合成石英玻璃的雙折射造成影響的1100°C至700°C的溫度範圍內，降溫速度得到正確地控制。熱處理後的合成石英玻璃塊S的雙折射最大值為5nm/cm以上。
[0139]根據本發明的第一實施方式的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，能夠在1100°C至700°C的溫度範圍內，以70°C /小時以上的降溫速度進行熱處理，由此，可獲得雙折射的最大值為5nm/cm以上的合成石英玻璃塊。可通過加工這種合成石英玻璃塊，來獲得比雙折射最大值較大的透鏡等光學要素。而且，通過在1100°C至700°C的溫度範圍內，以超過100°C /小時的大的降溫速度進行熱處理，可獲得具有比5nm/cm大的例如IOnm/cm以上、進而20nm/cm以上的更大雙折射最大值的合成石英玻璃塊。而且，因為在降溫速度大的區域，也可將降溫速度正確地控制為預先設定的值，所以可製造相對於所設定的雙折射值來說誤差小的合成石英玻璃塊。
[0140]如上所述，對各種實施方式和變形例進行了說明，不過本發明並不限定於這些內容。
[0141]將以下優先權基礎申請案的公開內容作為引用文併入本文。
[0142]日本申請案2011年第044763號(2011年3月2日)
【權利要求】
1.一種光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 具有 爐體，在內部收納應進行熱處理的光學用陶瓷材料； 降溫控制加熱器，在使所述應進行熱處理的光學用陶瓷材料降溫時發熱，以控制降溫速度； 冷媒導入部，導入所述冷媒，以使冷媒在所述爐體的內部流動；和 控制部，用來控制所述降溫速度； 所述降溫控制加熱器配置在所述爐體的內部或/及所述冷媒導入部， 所述控制部控制所述降溫控制加熱器的發熱量、和所述爐體的內部的所述冷媒的流量中的至少一者，且以將所述應進行熱處理的光學用陶瓷材料或其附近的降溫速度保持為預先決定的模式的方式進行控制。
2.根據權利要求1所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述控制部控制所述降溫控制加熱器的發熱量、和所述爐體的內部的所述冷媒的流量這兩者。
3.根據權利要求1或2所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 還包括流量控制部，所述流量控制部對所述爐體的內部的所述冷媒的流量進行控制。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述降溫控制加熱器設置在所述爐體的內部，也用作使所述應進行熱處理的光學用陶瓷材料升溫時的升溫加熱器。
5.根據權利要求1至3中任一項所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述降溫控制加熱器由所述冷媒導入部所具備，在所述爐體內設置有使所述應進行熱處理的光學用陶瓷材料升溫時的升溫加熱器。
6.根據權利要求1至3中任一項所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述爐體由在鉛垂方向或水平方向上相鄰配置的第一爐體與第二爐體構成， 所述降溫控制加熱器設置在第二爐體的內部， 所述冷媒導入部設置在所述第二爐體， 所述升溫加熱器設置在所述第一爐體的內部， 在所述第一爐體的內部，設置有使所述應進行熱處理的光學用陶瓷材料升溫時的加熱器。
7.根據權利要求5所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述爐體由在鉛垂方向或水平方向上相鄰配置的第一爐體與第二爐體構成， 所述冷媒導入部設置在所述第二爐體， 所述升溫加熱器設置在所述第一爐體的內部。
8.根據權利要求1至5中任一項所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 還包括壁部，所述壁部將所述爐體的內部隔成內側空間與外側空間，所述應進行熱處理的光學用陶瓷材料配置在所述內側空間。
9.根據權利要求6或7所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 還包括壁部，所述壁部將所述第二爐體的內部隔成內側空間與外側空間，所述應進行熱處理的光學用陶瓷材料配置在所述內側空間。
10.根據權利要求8或9所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述降溫控制加熱器配置在所述內側空間。
11.根據權利要求8或9所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述壁部沿大致鉛垂方向延伸。
12.根據權利要求1至11中任一項所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述冷媒是空氣、氮氣、或惰性氣體中的I種或混合2種以上而成。
13.根據權利要求1至11中任一項所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述冷媒為液體。
14.根據權利要求8或9所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述冷媒導入部配置在所述爐體的下部。
15.根據權利要求1至14中任一項所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述光學用陶瓷材料為非晶質材料或單晶材料。
16.根據權利要求15所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 所述非晶質材料為合成石英玻璃。
17.一種光學用陶瓷材料的熱處理方法，其使用根據權利要求1至14中任一項所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 將應進行熱處理的光學用陶瓷材料加熱至第一溫度範圍的規定溫度並保持規定時間後，以比規定的降溫速度大的降溫速度進行冷卻，由此進行熱處理。
18.一種合成石英玻璃的熱處理方法，其使用根據權利要求16所述的光學用陶瓷材料的熱處理裝置，其特徵在於: 將應進行熱處理的合成石英玻璃加熱至1000?1200°C之間的規定溫度並保持規定時間後，以大於70°C /小時的降溫速度進行冷卻，由此進行熱處理。
19.根據權利要求18所述的合成石英玻璃的熱處理方法，其特徵在於: 經熱處理的合成石英玻璃的雙折射的最大值大於5nm/cm。
20.一種光學系統的製造方法，其特徵在於: 利用根據權利要求19所述的合成石英玻璃的熱處理方法，獲得雙折射的最大值大於5nm/cm的合成石英玻璃,加工該合成石英玻璃而形成光學要素,從而構成由包含該光學要素的多個光學要素構成的光學系統。
21.一種曝光裝置的製造方法，其特徵在於: 製造利用根據權利要求20所述的光學系統的製造方法製造的照明光學系統及/或投影光學系統，組裝所述照明光學系統及/或所述投影光學系統，而構成所述曝光裝置。
【文檔編號】C03B32/00GK103429542SQ201280011368
【公開日】2013年12月4日 申請日期:2012年3月2日 優先權日:2011年3月2日
【發明者】原雄太 申請人:株式會社尼康